用于图案组成的喷嘴出口轮廓以及使用所述轮廓的装置和方法制造方法及图纸

本申请案涉及用于图案组成的喷嘴出口轮廓以及使用所述轮廓的装置和方法。提供一种沉积喷嘴，其包含偏移的沉积孔口，所述偏移的沉积孔口安置于所述沉积孔口的任一侧上的排气孔口之间。所述所提供的喷嘴布置允许利用适合用于例如OLED等装置中的沉积型面来沉积材料。

A device and method for using the outline of the nozzle for the pattern composition of the nozzle

The present application relates to a nozzle exit outline for a pattern and a device and method for using the outline described. A deposition nozzle is provided, which contains an offset deposition orifice, and the offset deposition orifice is positioned between the vent ports on either side of the deposition orifice. The provided nozzle arrangement allows the use of sedimentary surfaces suitable for use in devices such as OLED, for example, to deposit materials.

【技术实现步骤摘要】
用于图案组成的喷嘴出口轮廓以及使用所述轮廓的装置和方法相关申请案的交叉参考本申请案是2016年4月11日申请的第62/320,981号和2016年10月18日申请的第62/409,404号美国专利申请案的非临时申请案且要求所述美国专利申请案的优先权权益，以上美国专利申请案中的每一者的整个内容以引用的方式并入本文中。共同研究协议的各方所主张的本专利技术代表和/或联合以下一或多方依据联合大学企业研究协议提出：密歇根大学董事会(RegentsoftheUniversityofMichigan)、普林斯顿大学(PrincetonUniversity)、南加州大学(UniversityofSouthernCalifornia)以及环宇显示公司(UniversalDisplayCorporation)。所述协议在作出所要求的本专利技术的日期当天和之前就生效，并且所要求的本专利技术是因在所述协议的范围内进行的活动而作出。
本专利技术涉及用于例如经由一或多个喷嘴沉积材料的布置，以及包含所述布置的例如有机发光二极管等装置和其它装置。
技术介绍
利用有机材料的光电装置由于许多原因变得日益合乎需要。用于制造这些装置的许多材料相对便宜，因此有机光电装置具有优于无机装置的成本优势的潜力。另外，有机材料的固有性质(例如其柔性)可以使其较适用于具体应用，例如在柔性衬底上的制造。有机光电装置的实例包括有机发光装置(OLED)、有机光电晶体、有机光伏打电池和有机光检测器。对于OLED，有机材料可以具有优于常规材料的性能优势。举例来说，有机发射层发光所处的波长通常可以用适当的掺杂剂容易地调节。当在装置上施加电压时，OLED利用发光的有机薄膜。OLED正成为用于例如平板显示器、照明和背光的应用的日益受关注的技术。若干OLED材料和配置描述于美国专利第5,844,363号、第6,303,238号以及第5,707,745号中，所述专利以全文引用的方式并入本文中。磷光发射分子的一种应用是全色显示器。针对所述显示器的行业标准需要适合于发射特定色彩(称为“饱和”色彩)的像素。具体地说，这些标准需要饱和的红色、绿色和蓝色像素。色彩可以使用本领域中熟知的CIE坐标来测量。绿色发射分子的一个实例是三(2-苯基吡啶)铱、表示为Ir(ppy)3，其具有以下结构：在这个图和下文的图中，我们以直线形式描绘了氮与金属(此处是Ir)的配位键。如本文所用，术语“有机”包括可以用于制造有机光电装置的聚合材料以及小分子有机材料。“小分子”是指不是聚合物的任何有机材料，并且“小分子”可能实际上相当大。在一些情况下，小分子可以包括重复单元。举例来说，使用长链烷基作为取代基并不会将某一分子从“小分子”类别中去除。小分子还可以并入聚合物中，例如作为聚合物主链上的侧接基团或作为主链的一部分。小分子还可以充当树枝状聚合物的核心部分，所述树枝状聚合物由一系列构建在核心部分上的化学壳组成。树状体的核心部分可以是荧光或磷光小分子发射体。树状体可以是“小分子”，并且人们相信目前用于OLED领域中的所有树状体都是小分子。如本文所用，“顶部”意指距离衬底最远，而“底部”意指最靠近衬底。在第一层被描述为“置于”第二层“上方”时，第一层是置于离衬底较远处。除非规定第一层“与”第二层“接触”，否则第一与第二层之间可以存在其它层。举例来说，阴极可以被描述为“置于”阳极“上方”，尽管在两者之间存在各种有机层。如本文所用，“溶液可处理的”意指以溶液或悬浮液形式都能够在液体介质中溶解、分散或输送和/或从液体介质沉积。当据信配体直接促成发射材料的光敏性质时，配体可以称为“光敏性的”。当人们相信配体不有助于发射材料的光敏性质时，配体可以被称为“辅助性的”，但辅助性配体可以改变光敏性配体的性质。如本文中所用，并且如所属领域的技术人员通常将理解，如果第一“最高占用分子轨域(HOMO)”或“最低未占用分子轨域(LUMO)”能量水平更接近真空能量水平，那么第一能量水平“大于”或“高于”第二HOMO或LUMO能量水平。由于将电离电位(IP)测量为相对于真空能级的负能量，因此较高HOMO能级对应于具有较小绝对值的IP(负得较少的IP)。类似地，较高LUMO能级对应于具有较小绝对值的电子亲和力(EA)(较不负的EA)。在顶部是真空能级的常规能级图上，材料的LUMO能级高于同一材料的HOMO能级。“较高”HOMO或LUMO能级表现为比“较低”HOMO或LUMO能级更靠近这个图的顶部。如本文所使用，并且如所属领域的技术人员通常将理解，如果第一功函数具有较高绝对值，那么第一功函数“大于”或“高于”第二功函数。因为功函数通常经测量相对于真空能级是负数，因此这意指“较高”功函数是更负的(morenegative)。在顶部是真空能级的常规能级图上，将“较高”功函数说明为在向下方向上离真空能级更远。因此，HOMO和LUMO能级的定义遵循与功函数不同的惯例。关于OLED的更多细节和上述定义可以见于美国专利第7,279,704号中，其以全文引用的方式并入本文中。如本文所使用，“相对移动的方向”或更一般化地“平行”于一个方向指代在正沉积的材料或正制造的装置所需的公差内，当设备用以在衬底上沉积材料且衬底和设备相对于彼此移动的同时近似平行于衬底和沉积设备的相对移动方向的方向。因此，沉积装置的孔口或其它特征可描述为当所述特征的长轴、最长边缘等平行于在所需公差内的相对移动方向时布置成或平行于相对移动的方向，即使所述两个方向可能不是确切平行。举例来说，当沉积用于在OLED中使用的发射材料的条纹时，可能需要衬底的表面上方的条纹放置或沉积准确性的不超过5pm的偏差，在此情况下沉积孔口可被布置成以足够准确性平行于相对移动方向以实现所需的偏差或更小，即，平行于相对移动方向。类似地，特征可当其在制造公差允许时接近于完全平行或垂直时和/或在用于系统的任何所需设计或制造公差内平行或垂直于一方向或其它特征。
技术实现思路
根据一实施例，提供一种用于将材料沉积到衬底上的装置，例如印刷头或包含印刷头的沉积件，所述装置包含沉积喷嘴，所述沉积喷嘴具有：第一排气孔口；第二排气孔口；第一沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第二孔口更接近所述第一排气孔口；以及第二沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第一排气孔口更接近所述第二排气孔口，其中所述第二沉积孔口沿着所述喷嘴的轴从所述第一沉积孔口偏移。所述第一沉积孔口和所述第二沉积孔口可具有相同尺寸，且每一者可经布置使得当所述装置正在操作中时，每一沉积孔口的最长边缘沿着所述装置和所述衬底的相对移动的方向。所述孔口可为矩形或任何其它合适的形状。排气孔口可为连续的和/或矩形，且可经布置使得当所述装置正在操作中时，每一者的最长边缘沿着所述装置和所述衬底的相对移动的方向。所述孔口可布置在各种相对位置中。举例来说，其可经布置使得对于在所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且垂直于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口绘制的任何线，所述线与所述第一沉积孔口或所述第二沉积孔口中的不超过一者交叉。作为替代或另外，当所述装置正在操作中时，所述排气孔口可在所述装置和所述衬底的所述相对移动方向上在所述第一沉积孔口本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将材料沉积到衬底上的装置，所述装置包括：沉积喷嘴，其包括：第一排气孔口；第二排气孔口；第一沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第二孔口更接近所述第一排气孔口；以及第二沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第一排气孔口更接近所述第二排气孔口，其中所述第二沉积孔口沿着所述喷嘴的轴从所述第一沉积孔口偏移。

【技术特征摘要】
2016.04.11 US 62/320,981;2016.10.18 US 62/409,404;1.一种用于将材料沉积到衬底上的装置，所述装置包括：沉积喷嘴，其包括：第一排气孔口；第二排气孔口；第一沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第二孔口更接近所述第一排气孔口；以及第二沉积孔口，其安置于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且相比于所述第一排气孔口更接近所述第二排气孔口，其中所述第二沉积孔口沿着所述喷嘴的轴从所述第一沉积孔口偏移。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一沉积孔口和所述第二沉积孔口具有相同尺寸。3.根据权利要求2所述的装置，其中当所述装置正在操作中时，每一沉积孔口的最长边缘沿着所述装置和所述衬底的相对移动的方向布置。4.根据权利要求3所述的装置，其中所述第一沉积孔口和所述第二沉积孔口中的每一者为矩形。5.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一排气孔口和所述第二排气孔口为连续的。6.根据权利要求5所述的装置，其中所述第一排气孔口和所述第二排气孔口为矩形，且当所述装置正在操作中时，所述第一排气孔口和所述第二排气孔口中的每一者的最长边缘沿着所述装置和所述衬底的相对移动的方向布置。7.根据权利要求1所述的装置，其中，对于在所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且垂直于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口绘制的任何线，所述线与所述第一沉积孔口或所述第二沉积孔口中的不超过一者交叉。8.根据权利要求1所述的装置，其中当所述装置正在操作中时，所述第一排气孔口和所述第二排气孔口在所述装置和所述衬底的所述相对移动方向上在所述第一沉积孔口和所述第二沉积孔口中的每一者前方和后方延伸。9.根据权利要求8所述的装置，其中，对于在所述第一排气孔口和所述第二排气孔口之间且垂直于所述第一排气孔口和所述第二排气孔口绘制的任何线，所述线与所述第一沉积孔口或所述第二沉积孔口中的不超过一者交叉。10.根据权利要求1所述的装置，其进一步包括待沉积于所述衬底上的材料的源...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·范登蒂洛阿特，S·佩凯尔德，M·梅夫森，W·E·奎因，G·麦格劳，G·科塔斯，
申请(专利权)人：环球展览公司，
类型：发明
国别省市：美国,US