量子点保护膜以及使用其而得到的波长变换片及背光单元制造技术

本发明专利技术提供一种量子点保护膜，其是用于对荧光体进行封装的量子点保护膜，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，保护层中的最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～5.0个/m

A quantum dot protective film and a wavelength conversion sheet and a backlight unit obtained by using it

The invention provides a quantum dot protective film, which is used for quantum dot protective film encapsulation of the phosphor, the quantum dots with protective film: protective layer, it has the maximum size of 100 ~ 500 m and foreign body; coating formed on one surface of the protective layer, the maximum size of protection in the layer of 100 ~ 500 m foreign abundance ratio is 0.01 ~ 5 /m

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】量子点保护膜以及使用其而得到的波长变换片及背光单元
本专利技术涉及量子点保护膜以及使用该量子点保护膜得到的波长变换片及背光单元。
技术介绍
液晶显示器是为了进行显示而使用液晶组合物的显示装置。液晶显示器被用作多种多样的仪器中的显示装置，特别是被用作信息显示装置或图像显示装置。液晶显示器基于电压的施加，在液晶面板中针对每个区域使光透过或进行遮挡而对影像进行显示。因此，为了在液晶显示器中对影像进行显示，在液晶面板的背面需要背光。背光以往使用冷阴极管。最近出于长寿命及显色的优良等理由，有时取代冷阴极管而使用LED(发光二极管)。另外，近年以国外的创业企业为中心，使用量子点的纳米尺寸的荧光体实现了产品化。量子点是发光性的半导体纳米颗粒，直径的范围为1～20nm。量子点的独特的光学特性及电子特性除了在生物学及医学诊断的领域中的荧光成像以外，还有效使用于平板显示器或多彩颜色的照明(灯饰)等众多的用途。在显示器中占有非常大的重要度的白色LED技术中，通常使用通过蓝色(450nm)LED芯片对掺杂有铈的YAG·Ce(钇·铝·石榴石)下方变换用荧光体进行激发的方法。LED的蓝色光与从YAG荧光体产生的波长范围宽的黄色光混合而成为白色光。但是，该白色光会少许发蓝，常常被看成是“发冷”或“发凉”的白色。量子点示出幅度宽的激发光谱，具有高量子效率，因此能够作为LED下方变换用荧光体使用。并且，仅通过对点尺寸或半导体材料的种类进行变更，就能够在可见光区域整体的范围对发光的波长进行完全地调整。因此，被说成量子点事实上具有产生所有的颜色的可能性，特别是在照明产业中强烈地期望的暖白色。并且，能够将发光波长与红、绿及蓝对应的3个种类的点进行组合，得到显色指数不同的白色光。如上所述，在使用通过量子点实现的背光的显示器中，与现有的液晶显示器相比，能够提高色调、表现出人能够识别的颜色的65％而不增加厚度、消耗电力、成本及制造工艺等。该背光是使具有红或绿的发光光谱的量子点在膜内扩散，通过阻挡膜或其层叠体对该膜的两主面进行了封装(覆盖)的光学仪器，根据情况，不仅对主面、还对边缘部进行了封装。另外，在专利文献1中，提出了为了对荧光体的劣化进行抑制，通过阻挡膜将包含荧光体的层夹着的技术。并且，在专利文献2中，提出了为了确保有机EL元件的可靠性，通过气体阻挡膜对有机EL元件进行包覆的技术。专利文献1：日本特开2011－013567号公报专利文献2：日本特开2009－018568号公报
技术实现思路
另外，如果在量子点保护膜存在伤痕、皱折及异物等，则有时被看作是显示器显示上的缺陷。因此，通常对量子点保护膜要求没有伤痕、皱折及异物等优异的外观。不仅如此，如果量子点劣化，则有时产生被称为黑斑的非发光区域。黑斑被看作显示器显示上的缺陷，因此还对量子点保护膜要求不产生黑斑这样的高阻挡性。但是，现有的阻挡膜大多是用作食品或者医疗品等的包装材料或电子设备等的封装材料，非常难以得到作为量子点保护膜能够满足的性能。另外，即使通过在专利文献1或2中记载的阻挡膜制作出对量子点进行了封装的显示器，阻挡性并不充分，有时也会产生黑斑。另外，即使在例如无尘室环境中制作出构成膜，伤痕、皱折及异物等的减少也存在极限。因此，在专利文献1或2中记载的阻挡膜，无法说是在显示器显示上能够目视确认出的缺陷充分减少的阻挡膜。本专利技术就是鉴于该情况而提出的，其目的在于提供一种能够将在显示器显示上能够目视确认出的缺陷减少的量子点保护膜、波长变换片及背光单元。本专利技术提供一种量子点保护膜，其用于对荧光体进行封装，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，保护层中的最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～5.0个/m2，雾度值大于或等于20％。根据本专利技术，可减少能够在显示器显示上目视确认到的缺陷。在上述量子点保护膜中，优选上述保护层具有最大尺寸为100～300μm的异物，最大尺寸为100～300μm的异物的丰度比为0.1～2.0个/m2。在上述量子点保护膜中，优选上述保护层具有平均尺寸为200～500μm的异物，平均尺寸为200～500μm的异物的丰度比小于或等于3.0个/m2。在上述量子点保护膜中，优选上述保护层包含阻挡膜，该阻挡膜是将基材层和阻挡层层叠而成的，上述阻挡膜中的最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～2.0个/m2。异物的丰度比处在这些范围，由此存在能够更可靠地减少缺陷的发生的倾向。优选上述量子点保护膜的总光线透过率大于或等于80％。由于总光线透过率大于或等于80％，因此以较少的电力使用，容易确保显示器上的明亮度。另外，优选上述量子点保护膜的450nm下的光谱透过率大于或等于70％。由于450nm下的光谱透过率大于或等于70％，因此在作为光源特别是使用蓝色LED的情况下，容易确保充分的明亮度。优选上述涂层的与保护层相反侧的面中的表面粗糙度Ra大于或等于0.2μm。由于上述表面粗糙度Ra大于或等于0.2μm，因此即使将量子点保护膜与棱镜片等其他部件层叠，也容易抑制干涉条纹的产生，并且容易将量子点保护膜的雾度值控制为大于或等于20％。本专利技术还提供一种量子点保护膜，其用于对荧光体进行封装，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～300μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，保护层中的最大尺寸为100～300μm的异物的丰度比为0.1～2.0个/m2，雾度值大于或等于20％。根据本专利技术，可减少能够在显示器显示上目视确认的缺陷。本专利技术还提供一种量子点保护膜，其用于对荧光体进行封装，该量子点保护膜具有：保护层，其具有平均尺寸为200～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，保护层中的平均尺寸为200～500μm的异物的丰度比小于或等于3.0个/m2，雾度值大于或等于20％。根据本专利技术，可减少能够在显示器显示上目视确认的缺陷。本专利技术还提供一种波长变换片，其具有荧光体层和对该荧光体层进行封装的第1及第2量子点保护膜，至少上述第1量子点保护膜是配置为上述保护层与上述荧光体层相对的上述量子点保护膜。本专利技术还提供一种背光单元，其具有由蓝色LED构成的光源和上述波长变换片，在上述波长变换片中，隔着上述荧光体层而配置在与上述光源相反侧的量子点保护膜是上述第1量子点保护膜。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供一种能够将在显示器显示上能够目视确认出的缺陷减少的量子点保护膜、波长变换片及背光单元。附图说明图1是本专利技术的第一实施方式所涉及的量子点保护膜的概略剖视图。图2是本专利技术的第二实施方式所涉及的量子点保护膜的概略剖视图。图3是本专利技术的第三实施方式所涉及的量子点保护膜的概略剖视图。图4是本专利技术的第四实施方式所涉及的量子点保护膜的概略剖视图。图5是本专利技术的第五实施方式所涉及的量子点保护膜的概略剖视图。图6是本专利技术的一个实施方式所涉及的波长变换片的概略剖视图。图7是本专利技术的一个实施方式所涉及的背光单元的概略剖视图。具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的实施方式详细地进行说明。此外，在附图中对相同或等同的要素标注相同的标号，省略重复的说明。[量子点保护膜]在本专利技术中，量子点保护膜具备保护层、在该保护层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种量子点保护膜，其用于对荧光体进行封装，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，所述保护层中的所述最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～5.0个/m

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.02 JP 2015-0757531.一种量子点保护膜，其用于对荧光体进行封装，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，所述保护层中的所述最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～5.0个/m2，雾度值大于或等于20％。2.根据权利要求1所述的量子点保护膜，其中，所述保护层具有最大尺寸为100～300μm的异物，所述最大尺寸为100～300μm的异物的丰度比为0.1～2.0个/m2。3.根据权利要求1或2所述的量子点保护膜，其中，所述保护层具有平均尺寸为200～500μm的异物，所述平均尺寸为200～500μm的异物的丰度比小于或等于3.0个/m2。4.根据权利要求1至3中任一项所述的量子点保护膜，其中，所述保护层包含阻挡膜，该阻挡膜是...

【专利技术属性】
技术研发人员：村田光司，松政健司，冈村贤吾，岩田贤，黑川真登，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP