一种彩膜基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，包括：提供基板；在所述基板上形成各像素单元，其中，所述像素单元包括第一亚像素、第二亚像素和至少两个第三亚像素，所述第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料；对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理，使所述选出的第三亚像素变色成为第四亚像素，从而简化了制作工序并减小像素之间的段差。

A color film substrate and its preparation method and display panel

The invention provides a color film substrate and preparation method thereof, the display panel includes: providing a substrate; each pixel unit formed on the substrate, wherein, the pixel unit includes a first sub-pixel, a second sub-pixel and at least two in Sanya Sanya the first pixel, pixel preparation materials contains the irreversible change of temperature of the pigment; each pixel unit, said at least two of the pixels in Sanya elected a pixel at Sanya, the article selected Sanya to become the fourth pixel color sub pixels, thus simplifying the production process and reduce the difference between pixels.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板。
技术介绍
随着市场对于低成本的要求，需要显示面板拥有更好的透光率，各公司陆续采用通过彩色滤光片的W(白色)、R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)四种颜色层形成彩色显示画面，从而提高产品的透过率，降低产品功耗。目前的彩膜滤光片中的W像素的制作通常采用以下两种方式。一种方式是：在现有技术制作完R、G、B像素工序之后，在增加一道工序制作W像素，该种方式存在制作周期长，并且产品成本高的问题。另一种方式是：采用涂布的方式制作W像素，虽然可以降低成本，但是该涂布方式制作的W像素与其他像素之间存在像素段差较大，从而显示面板会存在触摸不良以及暗态不均匀等情况。
技术实现思路
本专利技术提供了一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板，以解决如何简化工序并减小像素之间的段差的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种彩膜基板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成各像素单元，其中，所述像素单元包括第一亚像素、第二亚像素和至少两个第三亚像素，所述第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料；对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理，使所述选出的第三亚像素变色成为第四亚像素。优选的，在所述基板上形成所述各像素单元的第三亚像素的步骤，包括:在所述光刻胶中掺杂所述不可逆温变颜料；在所述基板上涂覆掺杂后的光刻胶；利用掩膜版对所述涂覆掺杂后的光刻胶进行曝光显影，获得所述各像素单元的第三亚像素，其中，所述掩膜版具有第三亚像素和第四亚像素对应的掩膜图案。优选的，所述对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理的步骤包括：利用活字印刷术式的加热装置对所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素加热到设定温度，使所述第三亚像素变色成第四亚像素。优选的，所述第三亚像素为绿色亚像素；所述第四亚像素为白色亚像素。优选的，所述提供基板的步骤包括：提供基底；在所述基底上形成黑矩阵；所述方法还包括：在所述各像素单元上形成保护层；在所述保护层上形成间隔柱。优选的，所述不可逆温变颜料为含有金属的酞菁颜料。优选的，所述利用活字印刷术式的加热装置对所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素加热到设定温度，使所述第三亚像素变色成第四亚像素的步骤包括：采用加热层覆盖在所选出的一个第三亚像素，对加热层进行通电使其进行加热，加热到设定温度，使所述第三亚像素变色成第四亚像素。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种彩膜基板，包括：基板；设置于所述基板上的阵列分布的像素单元，其中，所述像素单元包括：第一亚像素、第二亚像素、第三亚像素和第四亚像素，所述第四亚像素与所述第三亚像素同层设置，且所述第四亚像素由部分采用不可逆温变颜料制备的第三亚像素加热后形成。优选的，所述第三亚像素为绿色亚像素；所述第四亚像素为白色亚像素。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种显示面板，包括权利要求8至9所述的彩膜基板。与现有技术相比，本专利技术包括以下优点：本专利技术通过不可逆温变颜料制作第三亚像素，通过一次曝光、显影可以在各像素单元中间同时制备出两个第三亚像素，然后对其中一个第三亚像素进行变温处理，即可得到颜色不可逆的第四亚像素，从而不用增加一道工序制作W像素，简化了像素单元的制作工序，并且减小了像素之间的段差的同时还降低了制作成本。当然，实施本专利技术的任一产品不一定需要同时达到以上所述的所有优点。附图说明图1是本专利技术实施例一所述一种彩膜基板的制备方法的流程图；图2是本专利技术形成基板的结构示意图；图3是本专利技术形成各像素单元的结构示意图；图4是本专利技术现有技术中掩膜版的结构示意图；图5是本专利技术掩膜版的结构示意图；图6是本专利技术形成各像素单元排布方式的结构示意图；图7是本专利技术采用加热层对第三亚像素加热的示意图；图8是本专利技术实施例二所述一种彩膜基板的结构框图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。实施例一参照图1，其示出了本专利技术实施例一所述一种彩膜基板的制备方法的流程图，具体包括：步骤101：提供基板1，如图2所示。其中，所述基板1包括：基底11和黑矩阵12，通过曝光、显影、烘焙等工艺形成黑矩阵12。基底可以采用主成分为二氧化硅的透明玻璃材料形成，形成基底的材料不限于透明玻璃材料，也可以为透明塑料材料，对此本专利技术不做具体限制。步骤102：在所述基板1上形成各像素单元，如图3所示。其中，各像素单元包括第一亚像素302、第二亚像素303和至少两个第三亚像素304，所述第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料。优选的，在所述基板上形成所述各像素单元的第三亚像素的步骤，包括:在所述光刻胶中掺杂所述不可逆温变颜料。在所述基板上涂覆掺杂后的光刻胶。利用掩膜版对所述涂覆掺杂后的光刻胶进行曝光显影，获得所述各像素单元的第三亚像素，其中，所述掩膜版具有第三亚像素和第四亚像素对应的掩膜图案。现有技术中掩膜版的设计版图如图4所示，通过曝光显影后，获得一组亚像素，本专利技术对掩膜版的设计版图进行了改进，通过曝光显影后，可以一次获取两组亚像素单元，如图5所示，由于通过掩膜版一次曝光就可以获取两组亚像素单元，从而减少了制作W像素的工艺，降低了制作成本，同时也避免了像素之间的段差。在实际应用中，第一亚像素和第二亚像素可以为红色亚像素或者蓝色亚像素中的任意一种，所述第三亚像素为绿色亚像素。例如：像素单元301包括：第一亚像素302为红色(R)，第二亚像素303为蓝色(B)，第三亚像素304为绿色(G)，经过步骤101和步骤102之后，在基板上形成的各个像素排布方式为GRGB，如图6所示。所述不可逆温变颜料为含有金属的酞菁颜料，其中金属包括但不限于铅、镍、钴、铁、镉、锶、锌、猛、钼、镁、铜等，优选的，不可逆温变颜料为C32H16N8Cu，也可以为其他材料，对此本专利技术不做具体限制。步骤103：对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素304中的选出的一个第三亚像素304进行变温处理，使所述选出的第三亚像素304变色成为第四亚像素801。第一亚像素和第二亚像素可以为红色亚像素或者蓝色亚像素中的任意一种，所述第三亚像素为绿色亚像素，所述第四亚像素为白色亚像素(W)。由于第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料，该不可逆温变颜料本身会发生热分解或者氧化、或者化合反应，由于以上变化都是化学变化，具有不可逆性，因此第三亚像素加热后会变色成第四亚像素，即第三亚像素的绿色亚像素变成了白色亚像素。在实际应用中，所述对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理的步骤包括：利用活字印刷术式的加热装置对所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素加热到设定温度，使所述第三亚像素变色成第四亚像素。活字印刷术式的加热装置可以对任意的第三亚像素加热，使第三亚像素变色为第四亚像素，使像素整体排布呈WRGB形式即可。在具体应用中，采用加热层701对所选的绿色亚像素304进行加热，如图7所示，在示例的方式中，可以采用加热层701覆盖在所选的绿色亚像素上，对加热层701进行通电使其发热，对所选本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成各像素单元，其中，所述像素单元包括第一亚像素、第二亚像素和至少两个第三亚像素，所述第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料；对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理，使所述选出的第三亚像素变色成为第四亚像素。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成各像素单元，其中，所述像素单元包括第一亚像素、第二亚像素和至少两个第三亚像素，所述第三亚像素的制备材料中包含不可逆温变颜料；对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理，使所述选出的第三亚像素变色成为第四亚像素。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基板上形成所述各像素单元的第三亚像素的步骤，包括:在所述光刻胶中掺杂所述不可逆温变颜料；在所述基板上涂覆掺杂后的光刻胶；利用掩膜版对所述涂覆掺杂后的光刻胶进行曝光显影，获得所述各像素单元的第三亚像素，其中，所述掩膜版具有第三亚像素和第四亚像素对应的掩膜图案。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述各像素单元中，所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素进行变温处理的步骤包括：利用活字印刷术式的加热装置对所述至少两个第三亚像素中的选出的一个第三亚像素加热到设定温度，使所述第三亚像素变色成第四亚像素。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述第三亚像素为绿色亚像素；所述第四亚像素为白色亚像素。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏雄周，黎敏，刘超，刘华清，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11