一种提高硅膜层与阳极结合力的方法技术

本发明专利技术涉及一种提高硅膜层与阳极结合力的方法，属于薄膜沉积技术领域。解决现有技术中大口径RB‑SiC基底采用face‑up表面改性方式易导致的阳极表面沉积的Si层脱落造成被镀镜体表面缺陷的技术问题。本发明专利技术提供的提高硅膜层与阳极结合力的方法包括对阳极表面进行刻画图案处理，然后对阳极进行喷砂处理，最后进行对阳极进行Al喷涂处理。该方法实现Si膜层与阳极的牢固的结合，防止Si膜层脱落造成被镀镜体表面缺陷，提高膜层的抛光特性，获得了高质量的光学表面，能够满足高质量空间光学系统的应用要求，这为大口径RB‑SiC基底反射镜的应用提供了有力的保障。

A method to improve the bonding force between the silicon film and the anode

The invention relates to a method for improving the bonding force between the silicon film layer and the anode, which belongs to the field of film deposition technology. To solve the existing Si layer technology in large diameter RB SiC substrate by Anodic Deposition face up surface modification methods easily lead to the loss caused by technical problems by plating defect on the surface of the mirror body. The method of improving the binding force between the silicon film and the anode includes the processing of the pattern on the anode surface, the sandblasting of the anode, and the Al spraying at the anode. To achieve strong combination of Si film anode and the method to prevent the Si film off caused by plating the surface of the mirror body defect, improve the polishing characteristics of the films, the optical surface of high quality, can meet the requirements of application of high quality of space optical system, which provides a powerful guarantee for large caliber RB SiC base reflection the application of mirror.

【技术实现步骤摘要】
一种提高硅膜层与阳极结合力的方法
本专利技术属于薄膜沉积
，具体涉及一种提高硅膜层与阳极结合力的方法。
技术介绍
空间大口径反射镜通常采用的是RB-SiC陶瓷材料。但由于RB-SiC中存在Si和SiC两种成分，导致其直接抛光后获得的光学表面质量并不是很高，无法满足高精度空间光学系统的要求。这就需要对RB-SiC表面进行改性，以满足空间光学系统的迫切要求。RB-SiC表面改性就是要在其表面镀制一层抛光性能良好且与基底结合牢固的、具有相当厚度的致密改性层，覆盖住原基底表面缺陷。最后通过对改性层进行光学精密抛光，达到获得高质量光学表面的目的。大口径RB-SiC改性采用了face-up镀膜方式，这种方式避免了翻转带来的巨大风险，但是也存在一定的弊端。由于镀膜面向上，Si改性层的厚度通常达到十几微米，而沉积在阳极上的Si膜层厚度则达到几百微米甚至毫米量级，如果结合力不强，很容易掉落在被镀镜体表面，造成表面光洁度变差、粗糙度增大，严重影响成像质量。因此，提高Si膜层与阳极的结合力，对改善被镀镜体表面光洁度及粗糙度的意义重大。
技术实现思路
本专利技术要解决现有技术中大口径RB-SiC基底采用f本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高硅膜层与阳极结合力的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、切割图案在阳极表面刻画出几何图案；步骤2、阳极表面喷砂处理调节喷砂机压力，添加砂料，将刻画好图案的阳极放入喷砂机内，调节压缩空气与送砂量的比例，对工装进行均匀喷砂；步骤3、清洗烘干用水将喷砂处理后的工装进行清洗，然后烘干；步骤4、喷涂处理用电弧喷涂设备对喷砂处理后的阳极进行喷涂，喷涂材料为Al丝；步骤5、清洗烘干用水将喷砂处理后的工装进行清洗，然后烘干。

【技术特征摘要】
1.一种提高硅膜层与阳极结合力的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、切割图案在阳极表面刻画出几何图案；步骤2、阳极表面喷砂处理调节喷砂机压力，添加砂料，将刻画好图案的阳极放入喷砂机内，调节压缩空气与送砂量的比例，对工装进行均匀喷砂；步骤3、清洗烘干用水将喷砂处理后的工装进行清洗，然后烘干；步骤4、喷涂处理用电弧喷涂设备对喷砂处理后的阳极进行喷涂，喷涂材料为Al丝；步骤5、清洗烘干用水将喷砂处理后的工装进行清洗，然后烘干。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤1中所述几何图案为菱形、矩形或方形。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2中调节喷砂机压力为0.4～0.6MPa。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤2中调节喷砂机压力为0.5MPa。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘震，高劲松，王笑夷，王彤彤，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林,22