一种大口径激光曝光系统技术方案

本发明专利技术属于光学元件制作领域，具体涉及一种用于制作衍射光学元件的具有大曝光尺寸的大口径激光曝光系统。该激光曝光系统包括上导光棱镜、下导光棱镜、波导板、蓄液槽和支撑机构，通过分别位于波导板的上下两侧的上导光棱镜和下导光棱镜，将上下两束入射激光以一定角度照射到波导板的曝光区域，在波导板中形成干涉条纹。该激光曝光系统结构简单，能够制作大尺寸衍射光学元件。

A large aperture laser exposure system

The invention belongs to the field of optical element manufacture, in particular relates to a large aperture laser exposure system with large exposure size for manufacturing diffractive optical elements. The laser exposure system includes an upper and lower guide light guide prism prism waveguide plate, and a liquid storage groove and a supporting mechanism, through respectively located on both sides of the waveguide plate on the light guide prism and light guide prism, exposure area on two incident laser irradiation at a certain angle to the waveguide plate, forming interference the stripe waveguide plate in. The laser exposure system is simple in structure and can be used to fabricate large size diffractive optical elements.

【技术实现步骤摘要】
一种大口径激光曝光系统
本专利技术属于光学元件制作领域，具体涉及一种用于制作衍射光学元件的具有大曝光尺寸的大口径激光曝光系统。
技术介绍
利用激光具有的单色性、相干性及方向性好的特点，通过对激光器出射的激光束进行扩束、准直等处理，使相干光束以指定角度照射到感光材料上，能够形成干涉条纹并记录在试片感光材料内。但是，目前常用的衍射光学元件制作装置，所能制作的衍射光学元件尺寸较小，无法满足大尺寸使用的需要。因此，需要开发出一种结构简单并且具有大曝光尺寸的激光曝光系统。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术的目的是提出一种大口径激光曝光系统，以解决如何制作大尺寸衍射光学元件的技术问题。(二)技术方案为解决上述技术问题，本专利技术提出一种大口径激光曝光系统，该激光曝光系统包括上导光棱镜、下导光棱镜、波导板、蓄液槽和支撑机构；其中，上导光棱镜和下导光棱镜，分别位于波导板的上下两侧，用于将上下两束入射激光以一定角度照射到波导板的曝光区域，在波导板中形成干涉条纹；其中，与波导板的下表面接触的下导光棱镜的激光出射面具有凸台结构；波导板，包括感光材料，用于通过曝光方式记录由上下两束入射激光产生的干本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大口径激光曝光系统，其特征在于，所述激光曝光系统包括上导光棱镜、下导光棱镜、波导板、蓄液槽和支撑机构；其中，所述上导光棱镜和下导光棱镜，分别位于所述波导板的上下两侧，用于将上下两束入射激光以一定角度照射到所述波导板的曝光区域，在所述波导板中形成干涉条纹；其中，与所述波导板的下表面接触的所述下导光棱镜的激光出射面具有凸台结构；所述波导板，包括感光材料，用于通过曝光方式记录由上下两束入射激光产生的干涉条纹，形成衍射光学元件；其中，所述波导板的上表面与所述上导光棱镜的激光出射面接触，所述波导板的下表面与所述下导光棱镜的所述凸台结构接触；所述波导板能够在所述上导光棱镜和下导光棱镜之间，沿水平方向移...

【技术特征摘要】
1.一种大口径激光曝光系统，其特征在于，所述激光曝光系统包括上导光棱镜、下导光棱镜、波导板、蓄液槽和支撑机构；其中，所述上导光棱镜和下导光棱镜，分别位于所述波导板的上下两侧，用于将上下两束入射激光以一定角度照射到所述波导板的曝光区域，在所述波导板中形成干涉条纹；其中，与所述波导板的下表面接触的所述下导光棱镜的激光出射面具有凸台结构；所述波导板，包括感光材料，用于通过曝光方式记录由上下两束入射激光产生的干涉条纹，形成衍射光学元件；其中，所述波导板的上表面与所述上导光棱镜的激光出射面接触，所述波导板的下表面与所述下导光棱镜的所述凸台结构接触；所述波导板能够在所述上导光棱镜和下导光棱镜之间，沿水平方向移动，以调整曝光区域的位置；所述蓄液槽，用于承载具有一定折射率的匹配液；其中，所述蓄液槽的底面开设有与所述凸台结构的形状和尺寸相同的通孔，所述蓄液槽通过所述通孔套设在所述下导光棱镜的所述凸台结构上，并且所述蓄液槽的底面低于所述凸台结构的上表面，使得所述波导板的下表面不与所述蓄液槽接触，保证在曝光工作时间内，所述匹配液能够浸润所述波导板的全部光学工作面并且没有空气间隙；所述支撑机构，用于对所述下导光棱镜和所述蓄液槽进行支撑和固定，以保证所述激光曝光系统的光路稳定。2.如权利要求1所述的激光曝光系统，其特征在于，所述激光曝光系统进一步包括配片；其中，所述配片的厚度与所述波导板相同，当所述波导板在所述上导光棱镜和下导光棱镜之间沿水平方向移动时，所述配片被放置于所述上导光棱镜和下导光棱镜之间，用于对所述波导板进行定位以及对所述上导光棱镜进行支撑。3.如权利要求1所述的激光曝光系统，其特征在于，所述激光曝光系统进一步包括上定位光阑和下定位光阑；其中，所述上定...

【专利技术属性】
技术研发人员：回长顺，叶斯哲，
申请(专利权)人：天津津航技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：天津,12