一种直写曝光光路系统技术方案
A direct write exposure optical path system
The utility model discloses a direct writing optical system, which belongs to the technical field of direct write lithography machine, the optical system includes a plurality of rows of DMD components, DMD components on each row of the alignment of adjacent rows, the exposure module staggered distribution, each DMD component corresponds to the middle position of the adjacent row a DMD component; the direct writing optical system can avoid the error caused the reciprocating motion of axis Y, graphics deformation, to ensure accurate graphic matching, X axis without stepping direction, greatly reducing the size of equipment, reduce the weight of the equipment, to the vast majority of PCB manufacturers site requirements, Y the shaft does not require reciprocating motion, eliminating most of acceleration and deceleration time, improve work efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种直写曝光光路系统
本技术涉及一种直写曝光光路系统，属于直写曝光机
技术介绍
直写式光刻机设备又称影像直接转移设备(LDI)，在半导体及PCB生产领域是一个关键设备。现有技术的直写光刻设备，特别是采用DMD方式进行曝光的LDI，都采用多光路单排放置、多条带的步进扫描曝光方式，所采用工件台均为X、Y轴的十字形结构X轴用于在步进方向上进行步进，Y轴用于在扫描方向进行匀速扫描，也就是整个图形扫描不能够一次扫描完成，需要Y轴进行往复运动。这样会导致下述三个问题：一是图形经过多个往复扫描的条带拼凑而成，每次扫描时Y轴的运动状态不能完全保证一致，会导致图形变形，影响图形正交性及图形精度；二是多次步进所必然带来的X轴会使得设备尺寸过大，体积庞大，重量过重，无法适应目前所有的PCB厂商的生产场地要求，适应性很差；三是多次步进引入了没有必要的每次扫描过程中的步进时间、Y轴加减速时间等，使设备无法达到很高的产能。因此，需要开发一种新的技术，以解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种直写曝光光路系统。首先，本技术提供的一种直写曝光光路系统，所述光...
【技术保护点】
一种直写曝光光路系统，所述光路系统包括多排DMD组件，每排上有多个DMD组件且这多个DMD组件成直线排列；相邻两排DMD组件交错分布，每个DMD组件在扫描方向上都对应在相邻排两个DMD组件之间的位置；每排上相邻两个DMD组件之间的在扫描方向上不能被覆盖的空白区域，在其它各排依次对应有DMD组件；各DMD组件共同覆盖整个曝光区域。
【技术特征摘要】
1.一种直写曝光光路系统，所述光路系统包括多排DMD组件，每排上有多个DMD组件且这多个DMD组件成直线排列；相邻两排DMD组件交错分布，每个DMD组件在扫描方向上都对应在相邻排两个DMD组件之间的位置；每排上相邻两个DMD组件之间的在扫描方向上不能被覆盖的空白区域，在其它各排依次对应有DMD组件；各DMD组件共同覆盖整个曝光区域。2.根据权利要求1所述的一种直写曝光光路系统，所述DMD组件连接在DMD支架上，所述DMD支架有多个，其形状为直线型，所述每1排DMD组件连接在1个DMD支架上；DMD支架通过连接杆相互连...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵华，陈海巍，茆晓华，戴续，宁震坤，吴长江，刘世林，程珂，钱聪，李显杰，
申请(专利权)人：无锡影速半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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