一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法技术

本发明专利技术公开了一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法，包括以下步骤：(1)将碱性蚀刻废液与二乙基二硫代氨基甲酸铵加入第一搅拌罐中，加入水合肼还原剂，再加入催化剂，再向第一搅拌罐内加入萃取剂并搅拌均匀，搅拌之后将第一搅拌罐内溶液静置一段时间使其内溶液自动分层；(2)将第一搅拌罐中分层后的上层含铜离子的萃取剂加入第二搅拌罐内，向第二搅拌罐内加入硫酸溶液进行反萃取并搅拌第二搅拌罐内溶液，搅拌之后将第二搅拌罐内溶液静置一段时间使其自动分层；(3)将第二搅拌罐内的下层溶液在反应温度为50‑100℃下，反应20‑40min，再加入电解槽内进行直流电解得到单质铜，分离获得沉淀铜粉及滤液。

【技术实现步骤摘要】
一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法
本专利技术涉及
，具体涉及一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法。
技术介绍
随着现代信息产业及电子工业的高速发展，AMOLED基板行业的发展迅猛，AMOLED基板在生产制作过程中需要大量的蚀刻液，在AMOLED基板碱性蚀刻过程中，碱性蚀刻的铜浓度根据情况可在20g/L～80g/L之间，随着蚀刻过程的进行，铜浓度不断增加，蚀刻速度下降，当浓度太高达到100～200g/L时，蚀刻液中因铜离子浓度升高而降低蚀刻效果，此时这种蚀刻液也失去了蚀刻能力，蚀刻液便成为废液。蚀刻废液中含有大量的铜，若直接排放掉会造成资源浪费。现今对蚀刻废液的处理方法主要包括酸化法、碱化法和混合法，若中，酸化法是在蚀刻废液中加入工业盐酸，生成氢氧化铜沉淀，过滤洗涤后，深沉物用硫酸溶解制成硫酸铜；碱化法则是向废液中加入氢氧化钠溶液，铜转化成氧化铜沉淀，用硫酸溶解后得到硫酸铜；混合法是用酸性蚀刻液中和碱性蚀刻液，生成碱式氯化铜沉淀，分离、洗涤后用浓硫酸溶解得到硫酸铜，冷却结晶可得硫酸铜晶体。上述三种方法均采用沉淀法分离铜，需要消耗大量的试剂，这不仅会产生大量的洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将碱性蚀刻废液与二乙基二硫代氨基甲酸铵加入第一搅拌罐中，加入水合肼还原剂，再加入催化剂，再向第一搅拌罐内加入萃取剂并搅拌均匀，搅拌之后将第一搅拌罐内溶液静置一段时间使其内溶液自动分层；(2)将第一搅拌罐中分层后的上层含铜离子的萃取剂加入第二搅拌罐内，向第二搅拌罐内加入硫酸溶液进行反萃取并搅拌第二搅拌罐内溶液，搅拌之后将第二搅拌罐内溶液静置一段时间使其自动分层；(3)将第二搅拌罐内的下层溶液在反应温度为50‑100℃下，反应20‑40min，再加入电解槽内进行直流电解得到单质铜，分离获得沉淀铜粉及滤液。

【技术特征摘要】
1.一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将碱性蚀刻废液与二乙基二硫代氨基甲酸铵加入第一搅拌罐中，加入水合肼还原剂，再加入催化剂，再向第一搅拌罐内加入萃取剂并搅拌均匀，搅拌之后将第一搅拌罐内溶液静置一段时间使其内溶液自动分层；(2)将第一搅拌罐中分层后的上层含铜离子的萃取剂加入第二搅拌罐内，向第二搅拌罐内加入硫酸溶液进行反萃取并搅拌第二搅拌罐内溶液，搅拌之后将第二搅拌罐内溶液静置一段时间使其自动分层；(3)将第二搅拌罐内的下层溶液在反应温度为50-100℃下，反应20-40min，再加入电解槽内进行直流电解得到单质铜，分离获得沉淀铜粉及滤液。2.根据权利要求1所述的一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法，其特征在于：所述步骤(...

【专利技术属性】
技术研发人员：白航空，
申请(专利权)人：合肥市惠科精密模具有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34