含氟氧化镁烧成物粉末的制造方法技术

本发明专利技术提供一种氧化镁烧成物粉末的制造方法，制得的氧化镁烧成物粉末，当利用由Ｘｅ气放电生成的紫外光激发时，能以高效率释放出在２５０ｎｍ波长附近具有峰值波长的紫外光。通过烧成生成氧化镁，除了氧化镁和氟化镁之外，将镁化合物的粉末在氟源的存在下，以８５０～１５００℃的温度进行烧成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是涉及利用由Xe气气体放电生成的紫外光激发，能发出在230～260nm波长范围内具有峰值紫外光的，含氟氧化镁烧成物粉末的制造方法。
技术介绍
交流型等离子显示屏(以下也称作AC型PDP)一般包括形成图像显示面的前面板，和相对配置的夹持填充放电气体放电空间的背面板。前面板包括前面玻璃基板、在该基板上形成的一对放电电极、形成覆盖放电电极的介电体层、在该介电体层表面上形成的介电体保护层。背面板包括背面玻璃基板、在该基板上形成的地址电极、为覆盖背面玻璃基板和地址电极而形成的，区分放电空间的隔壁、及在该隔壁表面上形成的红、绿、蓝荧光体层。作为放电气体，一般利用Xe(氙)和Ne(氖)的混合气体。这种混合气体中，Xe是放电气体，Ne是缓冲气体。对于介电体保护层的形成材料，为了降低AC型PDP的工作电压，和保护介电体层防止受到放电空间中生成等离子体的伤害，广泛利用二次电子释放系数高的，耐溅射性优良的氧化镁。多年来，在AC型PDP中，以提高发光特性为目的，研究在介电体保护层的放电空间一侧的表面上，设置能利用放电气体生成的紫外光进行激发，激发荧光体层的荧光体释放出所得波长紫外光的紫外光释放层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用由Ｘｅ气气体放电生成的紫外光进行激发，释放出在２３０～２６０ｎｍ波长范围内具有峰值紫外光的含氟氧化镁烧成物粉末的制造方法，其特征是将利用烧成生成氧化镁的，除氧化镁和氟化镁以外的镁化合物粉末，在氟源的存在下，于８５０～１５００℃的温度进行烧成。

【技术特征摘要】
JP 2007-8-21 2007-2148311.一种利用由Xe气气体放电生成的紫外光进行激发，释放出在230～260nm波长范围内具有峰值紫外光的含氟氧化镁烧成物粉末的制造方法，其特征是将利用烧成生成氧化镁的，除氧化镁和氟化镁以外的镁化合物粉末，在氟源的存在下，于850～1500℃的温度进行烧成。2.根据权利要求1记载的制造方法，其特征是镁化合物粉末是氢氧化镁粉末、碱性碳酸镁粉末、硝酸镁粉末、醋酸镁粉末或它们的混合物。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：植木明，加藤裕三，
申请(专利权)人：宇部材料工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]