一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法技术

一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法，该方法首先采用电子束蒸镀方法，在透明或半透明的基底上沉积一层致密聚四氟乙烯层，然后再沉积多孔聚四氟乙烯纳米棒层，得到双层聚四氟乙烯膜；再将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中，沉积一层氧化铝包覆层。研究发现，该复合膜对可见光范围内的多角度入射光均具有极佳的减反增透作用；同时由于聚四氟乙烯特殊疏水疏油的表面性质及化学稳定性，使得该减反膜具有良好的自清洁效果和极好的生物相容性；另外，氧化铝原子层能保持均匀极小厚度，能全面覆盖样品表面。在满足膜的减反增透的要求下，亦可提高薄膜的机械强度，满足光学器件、光子器件、滤色器等表面减反增透的实际应用要求。

Preparation method of composite anti reflection film of polytetrafluoroethylene and alumina atomic layer

A PTFE and alumina atomic layer preparation method of composite anti reflection film. Firstly, using electron beam evaporation method, depositing a layer of dense PTFE layer in a transparent or translucent substrate, and then deposited porous PTFE nanorod layer, double PTFE film; double PTFE film will get in the atomic layer deposition device, depositing a layer of alumina coated layer. The study found that multi angle of the composite film in the visible light range of incident light has excellent anti reflective effect; at the same time as the special surface properties of PTFE hydrophobic and oleophobic and chemical stability, so that the antireflective film has good compatibility with self-cleaning effect and excellent biological; in addition, the alumina atomic layer to maintain uniform minimum thickness, can fully cover the surface of the sample. In the anti reflective film to meet the requirements, but also improve the mechanical strength of the film, meet the optical devices, photonic devices, filter surface anti - penetration of the actual application requirements.

【技术实现步骤摘要】
一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法
本专利技术涉及一种双层聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合的自清洁减反膜的制备方法，属于纳米材料及光学抗反射薄膜制备

技术介绍
抗反射薄膜也称减反膜，由于能有效减少材料表面的光反射，增加光的透射能力，是一种应用范围极广的薄膜材料，已被大量应用于各类光学镜头、光电器件、数字信息显示器、介质薄膜、电子薄膜、光电薄膜、滤色器、光记录器等所需的防反射增透涂层。然而由于在实际应用过程中，大部分减反膜表面多由氧化硅、氧化铪等无机物制备而成，薄膜不能承受拉、压、弯曲等较大形变，同时这些无机物多为亲水性质，且与人体化学相容性较差，环境中水汽的冲刷、油脂、有机污染物、粉尘等在薄膜表面的吸附，使材料表面被污染，从而降低减反膜的抗反射性和稳定性，而高分子材料以其独特的延展性及高效、低成本制造工艺、特殊疏水疏油的表面性质及化学稳定性，使得高分子材料有望大规模应用于减反膜领域。传统的高分子薄膜均采用溶胶凝胶等化学方法制备，该方法无法控制薄膜厚度及表面形貌的均一性，从而也无法控制薄膜的折射率，故薄膜的减反增透作用无法保证；另外，采用化学方法制备高分子薄膜的过程本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)利用电子束蒸镀方法，先将沉积角度设定为0°，在透明或半透明的基底上沉积一层反射率为1.30～1.50的致密聚四氟乙烯层；2)将沉积角度设定为80°，再在获得的致密聚四氟乙烯层上沉积一层反射率为1.15～1.25的多孔聚四氟乙烯纳米棒层，得到双层聚四氟乙烯膜；3)将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中，循环次数设置为5～15，沉积一层氧化铝包覆层。

【技术特征摘要】
1.一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)利用电子束蒸镀方法，先将沉积角度设定为0°，在透明或半透明的基底上沉积一层反射率为1.30～1.50的致密聚四氟乙烯层；2)将沉积角度设定为80°，再在获得的致密聚四氟乙烯层上沉积一层反射率为1.15～1.25的多孔聚四氟乙烯纳米棒层，得到双层聚四氟乙烯膜；3)将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中，循环次数设置为5～15，沉积一层氧化铝包覆层。2.按照权利要求1所述的一种聚四...

【专利技术属性】
技术研发人员：张政军，乐雅，淮晓晨，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：北京,11