Disclosed is a method of manufacturing a semiconductor device comprising: having an atomic concentration greater than 1 x 10
【技术实现步骤摘要】
降低半导体器件的透明导电氧化物层中钠浓度的方法
技术介绍
本公开一般涉及用于制造半导体器件的装置和方法,具体地涉及降低半导体器件的透明导电电极中的钠浓度。“薄膜”光伏材料是指沉积为提供结构支撑的衬底上的层的多晶或非晶的光伏材料。薄膜光伏材料与制造成本较高的单晶半导体材料不同。一些提供高转换效率的薄膜光伏材料包括含硫属元素化合物半导体材料,如铜铟镓硒(CIGS)。薄膜光伏电池(也称为太阳能电池)可通过使用辊对辊涂布系统基于溅射、蒸发或化学气相沉积(CVD)技术而被制造。薄箔衬底,如箔网状衬底以线性带状的方式通过一系列的单独的真空室或单个分开的真空室从辊中进料,在该真空室中接收所需的层以形成薄膜光伏电池。在这种系统中,具有有限长度的箔片可以在辊上供应。新辊的端部可以联接到先前辊的端部以提供连续供给的箔层。钠通过降低缺陷密度,增加净载流子浓度和导电性来提高一些含硫属元素化合物半导体材料(如CIGS)的电子特性,从而提高采用含硫属元素化合物半导体材料的光伏器件的转换效率。据认为,钠通过含硫属元素化合物半导体材料的结构改性来实现这种电子效应,其包括在含硫属元素化合物半导体材料的生长期间由于钠的存在而增加的晶粒尺寸和织构。
技术实现思路
根据本公开的一个方面,一种制造半导体器件的方法包括:形成包括具有原子浓度大于1×1019/cm3的钠的p-n结的半导体材料叠层;在半导体材料叠层上沉积透明导电氧化物层,使得钠原子从半导体材料叠层扩散到透明导电氧化物层中;以及使透明导电氧化物层的物理暴露表面与流体接触来去除透明导电氧化层中的钠。根据本专利技术的另一方面,一种半导体器件制造装置包括 ...
【技术保护点】
一种制造半导体器件的方法,包括:在衬底上形成包括p‑n结的半导体材料叠层,其中所述材料叠层包括原子浓度大于1×10
【技术特征摘要】
2016.04.27 US 62/328,0501.一种制造半导体器件的方法,包括:在衬底上形成包括p-n结的半导体材料叠层,其中所述材料叠层包括原子浓度大于1×1019/cm3的钠;在所述半导体材料叠层上沉积透明导电氧化物层,其中钠原子从所述半导体材料叠层扩散到所述透明导电氧化物层中;以及使所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面与流体接触来去除所述透明导电氧化物层和所述半导体材料叠层中的钠。2.根据权利要求1所述的方法,其中,使所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面与所述流体接触包括:为了去除所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面的所述钠原子,将去离子水施加到所述透明导电氧化物层的物理暴露表面,并持续足够的时间,以允许钠原子从所述透明导电氧化物层和所述半导体材料叠层的本体内部扩散到所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面,以降低所述透明导电氧化物层和所述半导体材料叠层中的钠的体积浓度。3.根据权利要求2所述的方法,其中,通过喷雾将所述去离子水施加到所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面。4.根据权利要求2所述的方法,其中,通过将所述透明导电层的至少所述物理暴露表面浸入装有所述去离子水的箱中,所述去离子水被施加到所述透明导电层的所述物理暴露表面。5.根据权利要求2所述的方法,其中,所述去离子水被施加到所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面,并在50摄氏度到100摄氏度的升高的温度下持续5秒到10分钟。6.根据权利要求2所述的方法,其中,所述衬底设置为网状衬底,当所述网状衬底移动通过相应的沉积室时,在所述网状衬底上沉积所述半导体材料叠层和所述透明导电氧化物层。7.根据权利要求6所述的方法,其中,在不切割所述网状衬底的情况下或在切割所述网状衬底之前,所述网状衬底被连续移动到所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面的施加有去离子水的位置。8.根据权利要求7所述的方法,其中,在入口位置将所述网状衬底送入装有去离子水的箱中,并在出口位置从所述箱中连续地提取。9.根据权利要求6所述的方法,其中,在将所述去离子水施加到所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面之前,将所述网状衬底切割成具有预定尺寸的离散的光伏电池片。10.根据权利要求6所述的方法,进一步包括:将所述网状衬底切割成离散的光伏电池;以及在使所述透明导电氧化物层的所述物理暴露表面与所述流体接触的步骤后使各光伏电池的所述透明导电氧化物层与导电互连器接触。11.根据权利要求10所述的方法,进一步包括:将所述互连光伏电池放入光伏电池板中。12.根据权利要求1所述的方法,其中,所述材料叠层包括p掺杂的金属硫属化合物半导体层与n掺杂的金属硫属化合物半导体层的叠层;并且所述透明导电氧化物层包括选自氧化锌、掺锡氧化铟和掺铝氧化锌的材料。13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述p掺杂的金属硫属化合物半导体层包括铜铟镓硒(CIGS);并且所述n掺杂的金属硫属化合物半导体层包括选自金属硒化物,金属硫化物及其合金的材料。14.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:在所述衬底上设置含钠钼电极;和在所述含钠钼...
【专利技术属性】
技术研发人员:德米特里·波普拉夫斯基,
申请(专利权)人:北京铂阳顶荣光伏科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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