减压干燥设备及减压干燥方法技术

本发明专利技术提供一种减压干燥设备及减压干燥方法。该设备包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门，所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门，通过在所述抽气孔抽气的同时由所述进气孔在所述抽气孔的周边通入保护气，减少所述抽气孔从基板的边缘抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度，从而提升光刻胶溶剂挥发的均一性，避免因光刻胶溶剂挥发不均匀影响显影制程的线宽，保证显影制程的线宽的均匀性。

Vacuum drying equipment and decompression drying method

The invention provides a vacuum drying equipment and vacuum drying method. The equipment comprises a working chamber, working table, air, air inlet, air inlet and valve, wherein the worktable is arranged in the working chamber, the four angles of the working platform are respectively provided with a suction hole, each suction hole is provided with at least one of the suction holes adjacent to the inlet. Each air inlet is provided with an air inlet valve, the air surrounding the pumping gas at the same time by the air suction hole in the inlet of protective gas, reduce the air out of the photoresist after solvent evaporation, the speed from the edge of the base plate, so as to improve the uniformity l photoresist solvent, avoid the photoresist solvent effect of uneven width of developing process, to ensure the uniformity of line width of the developing process.

【技术实现步骤摘要】
减压干燥设备及减压干燥方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种减压干燥设备及减压干燥方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。无论是液晶显示器还是有机发光二极管显示器在制作过程中都经常用到光刻工序，其目的是使玻璃基板上的金属或非金属膜层在依次经过光刻胶涂布、掩膜曝光、显影和刻蚀工序之后在其相应的位置不受到损害，从而达到在玻璃基板上形成图案的目的。光刻胶涂布是光刻制程中的一个重要工序，为保证光刻胶的流动性和涂布性能，光刻胶中80％左右为挥发性的溶剂，在涂布之后还必须进行溶剂去除的步骤，目前溶剂去除主要采用先减压干燥再加热烘烤相结合的方式进行的。其中，减压干燥可通过减压去除光刻胶中的挥发溶剂，使得光刻胶的流动性减弱，能够均匀的分布在基板上。请参阅图1和图2，在减压干燥过程中，为避免在抽气时吸附到减压干燥腔100(VCDchamber)内的杂质(Particle)，同时保证抽气效果，减压干燥设备抽气的真空孔200既不能放在比基板300高的位置，又不放在基板300底下，只能放在基板300边缘比基板300略低的位置。但将真空孔200放在基板300的边缘进行抽气时，基板300的边缘靠近真空孔200，抽气速度快，基板300的中间远离真空孔200，抽气速度慢，基板300的边缘的抽气速度和基板300的中间的抽气速度的不一致又会导致基板300的边缘和基板300的中间的溶剂含量不一致，进行宏观检查时就会发现基板300的边缘和基板300的中间的颜色有差别，产生减压干燥不良(VCDMura)，同时在进行后续显影制程时，由于基板300的边缘和基板300的中间的溶剂含量不一致，又会导致基板300的边缘线宽(CriticalDimesion，CD)小，基板300的中间线宽大，线宽均匀性(CDUniformity)变差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种减压干燥设备，能够提升光刻胶溶剂挥发的均一性，保证显影制程的线宽的均匀性。本专利技术的目的还在于提供一种减压干燥方法，能够提升光刻胶溶剂挥发的均一性，保证显影制程的线宽的均匀性。为实现上述目的，本专利技术提供了一种减压干燥设备，包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门；所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门；所述工作台用于放置待干燥的基板，所述抽气孔所在的平面高于所述工作台的上表面且低于所述基板的上表面；所述抽气孔用于对所述工作腔进行抽气降压，所述进气孔用于向所述工作腔通入保护气，所述进气孔阀门用于控制各个进气孔的进气流量。对应每一个抽气孔均设有与该抽气孔相邻的至少两个进气孔，所述至少两个进气孔与其所对应的抽气孔之间的距离不同。对于与同一个抽气孔相邻的各个进气孔，所述进气孔阀门控制距离该抽气孔近的进气孔的进气流量大于距离该抽气孔远的进气孔的进气流量。所述进气孔阀门控制所述进气孔的进气流量随着抽气孔抽气的时长的增加而减小。所述进气孔阀门为电磁控制阀门。本专利技术还提供一种减压干燥方法，包括如下步骤：步骤S1、提供一减压干燥设备和一待干燥的基板，所述减压干燥设备包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门；所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门；所述基板放置于所述工作台上，所述抽气孔所在的平面高于所述工作台的上表面且低于所述基板的上表面；步骤S2、所述抽气孔抽气降低所述工作腔内的压力使得所述基板上的光刻胶溶剂挥发，并将挥发后的光刻胶溶剂抽离所述工作腔；在所述抽气孔抽气的同时，所述进气孔在进气孔阀门的控制下按照预设的进气流量向所述工作腔内通入保护气，减少所述抽气孔从所述基板的边缘抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度。所述步骤S1中，对应每一个抽气孔均设有与该抽气孔相邻的至少两个进气孔，所述至少两个进气孔与其所对应的抽气孔之间的距离不同。所述步骤S2中，对于与同一个抽气孔相邻的各个进气孔，所述进气孔阀门控制距离该抽气孔近的进气孔的进气流量大于距离该抽气孔远的进气孔的进气流量。所述步骤S2中，进气孔阀门控制所述进气孔的进气流量随着抽气孔抽气的时长的增加而减小。所述步骤S1中，所述进气孔阀门为电磁控制阀门。本专利技术的有益效果：本专利技术提供一种减压干燥设备，包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门，所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门，通过在所述抽气孔抽气的同时由所述进气孔在所述抽气孔的周边通入保护气，减少所述抽气孔从基板的边缘抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度，从而提升光刻胶溶剂挥发的均一性，避免因光刻胶溶剂挥发不均匀影响显影制程的线宽，保证显影制程的线宽的均匀性。本专利技术还提供一种减压干燥方法，能够提升光刻胶溶剂挥发的均一性，保证显影制程的线宽的均匀性。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的减压干燥设备的俯视图；图2为现有的减压干燥设备的侧视图；图3为本专利技术的减压干燥设备的俯视图；图4为本专利技术的减压干燥设备的侧视图；图5为本专利技术的减压干燥方法的流程图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图3和图4，本专利技术提供一种减压干燥设备，包括：工作腔10、工作台21、抽气孔30、进气孔40、以及进气孔阀门50；所述工作台21设于所述工作腔10内，所述工作台21的四角分别设有一抽气孔30，对应每一个抽气孔30均设有至少一个与该抽气孔30相邻的进气孔40，每一个进气孔40上均设有一进气孔阀门50。具体地，所述工作台21用于放置待干燥的基板20，为避免在抽气时吸附到工作腔10内的杂质，同时保证抽气效果，设置抽气孔30所在的平面略低于所述基板20的上表面，优选地，所述抽气孔30所在的平面高于所述工作台21的上表面且低于所述基板20的上表面，详细地，所述抽气孔30所在的平面比所述基板20的上表面低1～2mm。具体地，所述基板20上涂布有光刻胶，所述光刻胶包括光刻胶溶剂。需要说明的是，所述抽气孔30用于对所述工作腔10进行抽气，以降低所述工作腔10内的气压，使得基板20上的光刻胶溶剂挥发，并将挥发后的光刻胶溶剂抽出所述工作腔10。重点的是，所述进气孔40用于向所述工作腔10通入保护气，以减少所述抽气孔30从所述基板20边缘的抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度，在所述抽气孔30的抽气流量不变的情况下，所述进气孔40在所述抽气孔30周围通入了保护气，该些保护气在通入之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减压干燥设备，其特征在于，包括：工作腔(10)、工作台(21)、抽气孔(30)、进气孔(40)、以及进气孔阀门(50)；所述工作台(21)设于所述工作腔(10)内，所述工作台(21)的四角分别设有一抽气孔(30)，对应每一个抽气孔(30)均设有至少一个与该抽气孔(30)相邻的进气孔(40)，每一个进气孔(40)上均设有一进气孔阀门(50)；所述工作台(21)用于放置待干燥的基板(20)，所述抽气孔(30)所在的平面高于所述工作台(21)的上表面且低于所述基板(20)的上表面；所述抽气孔(30)用于对所述工作腔(10)进行抽气降压，所述进气孔(40)用于向所述工作腔(10)通入保护气，所述进气孔阀门(50)用于控制各个进气孔(40)的进气流量。

【技术特征摘要】
1.一种减压干燥设备，其特征在于，包括：工作腔(10)、工作台(21)、抽气孔(30)、进气孔(40)、以及进气孔阀门(50)；所述工作台(21)设于所述工作腔(10)内，所述工作台(21)的四角分别设有一抽气孔(30)，对应每一个抽气孔(30)均设有至少一个与该抽气孔(30)相邻的进气孔(40)，每一个进气孔(40)上均设有一进气孔阀门(50)；所述工作台(21)用于放置待干燥的基板(20)，所述抽气孔(30)所在的平面高于所述工作台(21)的上表面且低于所述基板(20)的上表面；所述抽气孔(30)用于对所述工作腔(10)进行抽气降压，所述进气孔(40)用于向所述工作腔(10)通入保护气，所述进气孔阀门(50)用于控制各个进气孔(40)的进气流量。2.如权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，对应每一个抽气孔(30)均设有与该抽气孔(30)相邻的至少两个进气孔(40)，所述至少两个进气孔(40)与其所对应的抽气孔(30)之间的距离不同。3.如权利要求2所述的减压干燥设备，其特征在于，对于与同一个抽气孔(30)相邻的各个进气孔(40)，所述进气孔阀门(50)控制距离该抽气孔(30)近的进气孔(40)的进气流量大于距离该抽气孔(30)远的进气孔(40)的进气流量。4.如权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述进气孔阀门(50)控制所述进气孔(40)的进气流量随着抽气孔(30)抽气的时长的增加而减小。5.如权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述进气孔阀门(50)为电磁控制阀门。6.一种减压干燥方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一减压干燥设备和一待干燥的基板(20)，所述减压干燥设备包括：工作腔(10)、工作台(21)、抽气...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚成波，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42