扫描曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供扫描曝光装置及器件制造方法。扫描曝光装置将掩膜图案向基板的感光层曝光，具备：多个光源部，在将被照射照明光的狭缝状的照明区域分为第1方向长且第2方向短的多个部分照明区域时，多个光源部与多个部分照明区域的数量相对应地设置，且分别射出具有相同照度分布的光束；多个光学部件，其沿着第1方向配置，将从多个光源部各自射出的光束与多个部分照明区域各自的形状相匹配地转换为第1方向长且第2方向短的分布的照明光；和多个偏转部件，其与多个部分照明区域各自相对应地沿着第1方向排列，并且在从第1方向观察时，使从多个光学部件各自射出的照明光相对于第2方向偏转而分别朝向多个部分照明区域。

Scanning exposure device and device manufacturing method

The invention provides a scanning exposure apparatus and device manufacturing method. Scanning exposure device will mask pattern exposure to a photosensitive layer substrate includes: a plurality of light sources, will be in the lighting area of the slit light illumination is divided into a plurality of part of the lighting area first and second direction direction of short time, the number of a plurality of light source part and a plurality of corresponding part of the lighting area to set up, and with the same illuminance distribution of beam injection respectively; a plurality of optical components, along the first direction, the beam from a plurality of light sources and a plurality of injection parts each part of the lighting area of respective shape matching into first directions and second party to the light distribution and short; a deflection member, and a part of the lighting area of each corresponding along the first direction, and when viewed from the first direction, from a plurality of optical components each emitting illumination light relative to the second direction and Don't move toward multiple parts of the lighting area.

【技术实现步骤摘要】
扫描曝光装置及器件制造方法本申请是中国专利申请号为201380037678.0、进入国家阶段日期为2015年1月14日，国际申请日为2013年5月22日、PCT国际申请号为PCT/JP2013/064228、专利技术名称为“照明装置、处理装置及器件制造方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及扫描曝光装置及器件制造方法。本申请基于2012年5月29日的美国临时申请61/652，719号主张优先权，并在此援用其内容。
技术介绍
近年来，作为电视机等的显示装置，大多使用例如液晶显示面板等平板显示器。在平板显示器这样的各种器件的制造中，利用曝光装置等处理装置。例如，利用基于曝光装置而实现的光刻方法、蚀刻技术等，在玻璃板上形成透明薄膜电极等各种膜图案，由此来制造液晶显示面板。作为光刻方法，提出有取代玻璃板而在卷绕成卷状的片状基板上对掩膜图案的像进行投影曝光的方法(例如，参照下述的专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本国特开2007-114385号公报
技术实现思路
出于能够高效地制造器件等的观点而期待曝光装置等处理装置扩大处理范围，在用于这样的处理装置的照明装置中，期望扩大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种扫描曝光装置，将利用沿第1方向以狭缝状延伸的照明光照射的掩膜图案向沿着与所述第1方向交叉的第2方向被扫描的基板的感光层曝光，该扫描曝光装置的特征在于，具备：多个光源部，在将被照射所述照明光的狭缝状的照明区域分为所述第1方向长且所述第2方向短的多个部分照明区域时，所述多个光源部与所述多个部分照明区域的数量相对应地设置，且分别射出具有相同照度分布的光束；多个光学部件，其沿着所述第1方向配置，将从所述多个光源部各自射出的所述光束与所述多个部分照明区域各自的形状相匹配地转换为所述第1方向长且所述第2方向短的分布的照明光；和多个偏转部件，其与所述多个部分照明区域各自相对应地沿着所述第1方向排列，并且...

【技术特征摘要】
2012.05.29 US 61/652,7191.一种扫描曝光装置，将利用沿第1方向以狭缝状延伸的照明光照射的掩膜图案向沿着与所述第1方向交叉的第2方向被扫描的基板的感光层曝光，该扫描曝光装置的特征在于，具备：多个光源部，在将被照射所述照明光的狭缝状的照明区域分为所述第1方向长且所述第2方向短的多个部分照明区域时，所述多个光源部与所述多个部分照明区域的数量相对应地设置，且分别射出具有相同照度分布的光束；多个光学部件，其沿着所述第1方向配置，将从所述多个光源部各自射出的所述光束与所述多个部分照明区域各自的形状相匹配地转换为所述第1方向长且所述第2方向短的分布的照明光；和多个偏转部件，其与所述多个部分照明区域各自相对应地沿着所述第1方向排列，并且在从所述第1方向观察时，使从所述多个光学部件各自射出的所述照明光相对于所述第2方向偏转而分别朝向所述多个部分照明区域。2.如权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，在将与所述第1方向平行且沿法线方向从所述狭缝状的照明区域通过的面设为第1面时，将沿着所述第1方向配置的所述多个光学部件中的第奇数个的光学部件和第偶数个的光学部件相对于所述第1面对称地配置。3.如权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，使由沿着所述第1方向排列的所述多个偏转部件中的第奇数个的偏转部件实现的所述照明光的偏转的方向、和由第偶数个的偏转部件实现的所述照明光的偏转的方向在从所述第1方向观察时相互不同。4.如权利要求3所述的扫描曝光装置，其特征在于，使所述第奇数个的偏转部件部各自的供来自所述第奇数个的光学部件各自的所述照明光射入的面、和所述第偶数个的偏转部件部各自的供来自所述第偶数个的光学部件各自的所述照明光射入的面相对于所述第1面而对称地倾斜。5.如权利要求4所述的扫描曝光装置，其特征在于，在从自所述多个偏转部件各自朝向所述多个部分照明区域各自射出的所述照明光的行进方向观察时，所述第奇数个的偏转部件部各自的供所述照明光射入的面、与所述第偶数个的偏转部件部各自的供所述照明光射入的面的边界，与...

【专利技术属性】
技术研发人员：根岸武利，福井达雄，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本,JP