一种曝光距离调整方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种曝光距离调整方法及装置，其中，曝光距离调整方法包括：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围，若所需的目标曝光间距处于探测范围外，设定处于探测范围内的中介曝光间距。并在控制探测器依据探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整曝光距离，直至探测器探测到的曝光距离达到中介曝光间距。再根据目标曝光间距与中介曝光间距的差值，继续控制曝光机调整曝光距离，以使调整后的曝光距离达到目标曝光间距。因此，可以通过设定排除玻璃厚度干扰波的探测范围，避免了探测器宕机情况的出现，从而实现了薄玻璃基板情况下的曝光距离调整。解决了现有技术中接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺的技术问题。

Method and device for adjusting exposure distance

The invention provides a method and a device for adjusting the exposure distance, which includes the exposure distance adjustment method: according to the thickness of glass substrate, setting the detection range of the detector, if required in the target exposure interval detection range, detection range set in intermediary exposure interval. In the process of controlling the detector to detect the exposure distance according to the detection range, the exposure distance is controlled by the exposure machine, until the exposure distance detected by the detector reaches the intermediate exposure distance. Then, the exposure distance is adjusted to adjust the exposure distance to the target exposure distance according to the difference between the target exposure distance and the intermediary exposure distance. Therefore, can set out the detection range of glass thickness interference wave, avoid the detector downtime, so as to realize the exposure to adjust the distance between the thin glass substrate case. It solves the technical problem that the proximity type exposure machine is difficult to complete the exposure process of the thin glass substrate in the existing technology.

【技术实现步骤摘要】
一种曝光距离调整方法及装置
本专利技术涉及显示面板制造
，尤其涉及一种曝光距离调整方法及装置。
技术介绍
在液晶显示器、触摸屏制造等领域的曝光工艺制程中，通常会使用接近式曝光机。在使用接近式曝光机时，设备对掩膜版与玻璃基板之间的曝光距离的探测成为关键。目前常用的曝光距离探测器是分光干涉式探测器，该探测器位于与玻璃基板垂直的位置，通过接收反射光进行分光光谱分析，从而测出曝光距离。然而，随着玻璃基板的轻薄化，在生产中若使用薄玻璃基板，分光干涉式探测器发射的探测波在玻璃基板处形成的干扰波的波形位置，将落入分光干涉式探测器的探测范围内，从而严重影响探测器对曝光距离的探测，导致曝光机无法生产。即目前的接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺，造成一定的生产局限性。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的第一个目的在于提出一种曝光距离调整方法，以解决现有技术中玻璃基板厚度限制接近式曝光机使用的问题。本专利技术的第二个目的在于提出一种曝光距离调整装置。本专利技术的第三个目的在于提出另一种曝光距离调整装置。本专利技术的第四个目的在于提出一种非临本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光距离调整方法，其特征在于，包括以下步骤：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围；其中，所述玻璃基板厚度对应的干扰位置处于所述探测范围外；在目标曝光间距处于所述探测范围外的状态下，设定处于所述探测范围内的中介曝光间距；在控制所述探测器依据所述探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整所述曝光距离，直至所述探测器探测到的所述曝光距离达到所述中介曝光间距；所述曝光距离为所述玻璃基板与掩膜版之间的距离；根据所述目标曝光间距与所述中介曝光间距的差值，继续控制所述曝光机调整所述曝光距离，以使调整后的所述曝光距离达到所述目标曝光间距。

【技术特征摘要】
1.一种曝光距离调整方法，其特征在于，包括以下步骤：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围；其中，所述玻璃基板厚度对应的干扰位置处于所述探测范围外；在目标曝光间距处于所述探测范围外的状态下，设定处于所述探测范围内的中介曝光间距；在控制所述探测器依据所述探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整所述曝光距离，直至所述探测器探测到的所述曝光距离达到所述中介曝光间距；所述曝光距离为所述玻璃基板与掩膜版之间的距离；根据所述目标曝光间距与所述中介曝光间距的差值，继续控制所述曝光机调整所述曝光距离，以使调整后的所述曝光距离达到所述目标曝光间距。2.根据权利要求1所述的曝光距离调整方法，其特征在于，所述根据玻璃基板厚度，设定探测范围，包括：根据玻璃基板厚度，确定玻璃厚度干扰波所在干扰位置；根据所述干扰位置，设定探测范围，所述干扰位置处于所述探测范围外。3.根据权利要求2所述的曝光距离调整方法，其特征在于，所述根据玻璃基板厚度，确定玻璃厚度干扰波所在干扰位置，包括：采用公式P＝d×n，代入玻璃基板厚度d和玻璃基板的折射率n，计算得到玻璃厚度干扰波所在干扰位置P。4.根据权利要求1所述的曝光距离调整方法，其特征在于，所述在控制所述探测器依据所述探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整所述曝光距离，直至所述探测器探测到的曝光距离达到所述中介曝光间距，包括：控制所述探测器在所述探测范围内，对所述玻璃基板与所述掩膜版之间的曝光距离进行探测；控制所述曝光机的平台带动所述玻璃基板移动，直至所述探测器探测到的曝光距离为所述中介曝光间距时，控制所述平台停止移动。5.根据权利要求1所述的曝光距离调整方法，其特征在于，所述根据所述目标曝光间距与所述中介曝光间距的差值，继续控制所述曝光机调整所述曝光距离，以使调整后的曝光距离达到所述目标曝光间距，包括：计算所述目标曝光间距与所述中介曝光间距的差值；控制所述平台带动所述玻璃基板移动，移动的距离符合所述差值，以使所述玻璃基板与掩膜版之间的曝光距离达到所述目标曝光间距。6.根据权利要求1-5任一项所述的曝光距离调整方法，其特征在于，所述根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围之后，还包括：若所需的目标曝光间距处于所述探测范围内，在控制所述探测器依据所述探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整所述曝光距离...

【专利技术属性】
技术研发人员：王辉，王志强，郭光龙，唐星，廖务义，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11