The utility model relates to the technical field of drying equipment and discloses a drying device for substrate to resist equipment, including: transmission mechanism frame and is arranged on the frame; the drying device also comprises a turnover mechanism, the turnover mechanism comprises a fixed on the frame for rotation of turning substrate, and is arranged on the rotating part the fixed part used for fixing the substrate; the drying mechanism also comprises a first transfer roller is composed of a plurality of straight line transmission path formed on the air knife, air knife toward the first transfer roller. The turnover mechanism will be fixed on the turning mechanism for drying the substrate rotation is greater than or equal to 90 degrees, the number of residues slit between the color group on the substrate which can dump a part, and then after the air knife, when subsequent plating indium tin oxide semiconductor transparent conductive film, not because of the presence of residues in the slit as a result of contact of indium tin oxide semiconductor transparent conductive film and a metal layer, so as to improve the qualified rate of products.
【技术实现步骤摘要】
干燥装置
本技术涉及干燥设备的
,尤其涉及一种用于液晶面板干燥处理的干燥装置。
技术介绍
随着科技的发展,电子产品越来越普及,尤其是电脑电视走进了千家万户。这些各类电子产品上安装了大量的电子显示设备,电子显示设备在各个领域都有广泛的应用。目前,液晶显示屏幕越做越大,而且曲面式显示器的逐渐增多,彩色滤波薄膜晶体管(ColorFilterOnTFT,简称COT)技术近年来被广泛的应用于薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,简称TFT-LCD)电视产品上。而目前的COT技术应用于基板的生产过程中,钝化蚀刻后除光阻时,只是以倾斜五度的传送方式再经过风刀机构来清除色组之间狭缝中留下的液体,但因为狭缝的高度差有的时候高达2μm以上,造成在去光阻时清除液狭缝中的残留物变得比较困难,经常出现清除不干净的情况,致使后续镀铟锡氧化物半导体透明导电膜(IndiumTinOxides,简称ITO)的时候,该ITO层在狭缝中与源极接触不佳,从而发生产品不可靠的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种干燥装置及干燥方法,旨在解决现有技术中,基板彩色滤波薄膜晶体管的色组之间的狭缝太深而导致里面的残留物很难清除的问题。本技术提供了一种干燥装置,用于基板去光阻设备,包括:机架;传送机构,设置于所述机架上,所述传送机构包括用于传送所述基板且呈直线排列的多个第一传送辊,以及用于驱动所述第一传送辊转动的第一驱动电机,所述第一驱动电机与所述第一传送辊传动连接;翻转机构,包括固定于所述机架上的用于翻转所述基板的转动部,以及设置于所述 ...
【技术保护点】
干燥装置,用于基板去光阻设备,其特征在于,包括:机架;传送机构,设置于所述机架上,所述传送机构包括用于传送所述基板且呈直线排列的多个第一传送辊,以及用于驱动所述第一传送辊转动的第一驱动电机,所述第一驱动电机与所述第一传送辊传动连接;翻转机构,包括固定于所述机架上的用于翻转所述基板的转动部,以及设置于所述转动部上的用于固定所述基板的固定部;干燥机构,所述干燥机构设置于所述机架上并位于所述翻转机构一侧,所述干燥机构包括位于由所述多个第一传送辊直线排列形成的传送路径上的风刀,所述风刀朝向所述第一传送辊。
【技术特征摘要】
1.干燥装置,用于基板去光阻设备,其特征在于,包括:机架;传送机构,设置于所述机架上,所述传送机构包括用于传送所述基板且呈直线排列的多个第一传送辊,以及用于驱动所述第一传送辊转动的第一驱动电机,所述第一驱动电机与所述第一传送辊传动连接;翻转机构,包括固定于所述机架上的用于翻转所述基板的转动部,以及设置于所述转动部上的用于固定所述基板的固定部;干燥机构,所述干燥机构设置于所述机架上并位于所述翻转机构一侧,所述干燥机构包括位于由所述多个第一传送辊直线排列形成的传送路径上的风刀,所述风刀朝向所述第一传送辊。2.如权利要求1所述的干燥装置,其特征在于,所述转动部包括设置于所述机架上的转轴、固定于所述转轴上的转动台,以及用于驱动所述转动台翻转的转动驱动件,所述转轴与所述转动驱动件传动连接;所述固定部包括固定于所述转动台上的用于固定所述基板的夹具,以及用于驱动所述夹具的固定驱动件,所述夹具与所述固定驱动件传动连接。3.如权利要求2所述的干燥装置,其特征在于,所述转轴呈水平布置,且所述转轴与所述传送路径垂直。4.如权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员:简重光,
申请(专利权)人:惠科股份有限公司,重庆惠科金渝光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。