多位元三维一次编程存储器制造技术

技术编号:16470470 阅读:97 留言:0更新日期:2017-10-28 21:13
本发明专利技术提出一种多位元三维一次编程存储器(多位元3D‑OTP),它含有多个叠置在衬底电路上并与之耦合的OTP存储层。每个存储层含有多个OTP存储元,每个存储元存储多位(>1位)信息。每个存储元含有一反熔丝膜,该反熔丝膜未编程时具有高电阻,编程后不可逆转地转变为低电阻。通过改变编程电流,已编程反熔丝膜具有不同电阻。

Multi bit three dimensional primary programming memory

The invention provides a multi time programmable memory (a 3D multibit 3D OTP), comprising a plurality of stacked on a substrate circuit and coupled with the OTP storage layer. Each storage layer contains multiple OTP storage elements, each storage element stores multiple bits (> 1 bits) information. Each memory element contains an anti fuse film, which has high resistance without programming and is irreversibly converted to low resistance after programming. By programming the current, the programmed anti fuse film has different resistances.

【技术实现步骤摘要】
多位元三维一次编程存储器
本专利技术涉及集成电路存储器领域,更确切地说,涉及一次编程存储器(OTP)。
技术介绍
三维一次编程存储器(3D-OTP)是一种单体(monolithic)半导体存储器,它含有多个垂直堆叠的OTP存储元。3D-OTP存储元分布在三维空间中,而传统平面型OTP的存储元分布在二维平面上。相对于传统OTP,3D-OTP具有存储密度大,存储成本低等优点。此外,与闪存相比,3D-OTP数据寿命长(>100年),适合长久存储用户数据。中国专利《三维只读存储器及其制造方法》(专利号:ZL98119572.5)提出了多种3D-OTP。图1描述了一种典型3D-OTP00。它含有一个半导体衬底0和两个堆叠在衬底0上方的OTP存储层100、200。其中,存储层200叠置在存储层100上。半导体衬底0中的晶体管及其互连线构成一衬底电路(包括3D-OTP的周边电路)。每个存储层(如100)含有多条地址线(包括字线20a、20b…和位线30a、30b…)和多个OTP存储元(如1aa-1bb…)。每个存储层(如100)还含有多个OTP阵列。每个OTP阵列是在一个存储层(如100)中所有共享了至少一条地址线的存储元之集合。接触通道孔(如20av、30av)将地址线(如20a、30a)和衬底0耦合。在现有技术中,每个OTP存储元存储一位信息,即每个存储元具有两种状态‛1’和‛0’:处于状态‛1’的存储元(‛1’存储元)能导通电流,而处于状态‛0’的存储元(‛0’存储元)则不能。由于每个存储元只能存储一位信息,3D-OTP的存储容量有限。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种容量更大的3D-OTP。本专利技术的另一目的是提供一种更廉价的3D-OTP。本专利技术的另一目的是在存储元漏电流较大的情况下保证3D-OTP正常工作。本专利技术的另一目的是在外界干扰较大时保证3D-OTP正常工作。为了实现这些以及别的目的,本专利技术提出一种多位元三维一次编程存储器(多位元3D-OTP)。它含有多个堆叠在衬底上方并与该衬底耦合的OTP存储元。每个存储元含有一反熔丝膜,反熔丝膜的电阻在编程时从高阻态不可逆转地转变为低阻态。通过改变编程电流,已编程反熔丝膜具有不同电阻。OTP存储元具有N(N>2)种状态:0,1,…N-1。按其电阻从大到小排列为R0、R1...RN-1,其中,R0为状态’0’的电阻,R1为状态’1’的电阻,…RN-1为状态’N-1’的电阻。由于N>2,每个OTP存储元存储多位(>1位)信息。为了避免由于存储元漏电流较大而使读过程出错,本专利技术提出一种“全读”模式。在全读模式下,一个读周期内将读出被选中字线上所有存储元的状态。读周期分两个阶段:预充电阶段和读阶段。在预充电阶段,一个OTP存储阵列中的所有地址线(包括所有字线和所有位线)均被预充电到读出放大器的偏置电压。在读阶段,所有位线悬浮;未选中字线上的电压不变,被选中字线上的电压上升到读电压VR,并通过存储元向相应的位线充电。通过测量这些位线上的电压变化,可以推算出各个存储元的状态。为了在外界干扰较大时保证多位元3D-OTP的正常工作,本专利技术还提出采用差分读出放大器来测量存储元的状态。差分读出放大器的第一输入是待测数据存储元(存储数据的存储元)的位线电压Vb,第二输入是来自哑存储元(提供读出参考电压的存储元)的参考电压Vref。哑存储元也具有N种状态。为了测量数据存储元的状态,需要做N-1个测量。在第k(k=1,2,…N-1)个测量过程中,参考电压Vref,k=(Vk-1+Vk)/2,其中,Vk-1是’k-1’哑存储元的位线电压,Vk是’k’哑存储元的位线电压。如果Vref,k-1<Vb<Vref,k,则数据存储元的状态是’k’。相应地,本专利技术提出一种多位元三维一次编程存储器(多位元3D-OTP),其特征在于含有:一含有晶体管的半导体衬底(0);多个堆叠在衬底上方并与该衬底耦合的OTP存储元(1aa-1ad);每个存储元含有一个反熔丝膜(22),该反熔丝膜(22)的电阻在编程时不可逆转地从高阻态转变为低阻态;所述反熔丝膜(22)具有N(N>2)种状态,不同状态下的反熔丝膜(22)具有不同电阻,所述反熔丝膜的电阻值由一编程电流设定。附图说明图1是一种三维一次编程存储器(3D-OTP)的透视图。图2A-图2D是具有四种状态的OTP存储元之截面图。图3表示一种OTP存储元的电路符号。图4A是四种OTP存储元的I-V图;图4B表示反熔丝电阻(RAF)与编程电流(IP)的关系。图5A-图5C是三种OTP存储元的截面图。图6A表示一种采用全读模式并使用单端读出放大器的OTP存储阵列;图6B是其电信号时序图。图7A表示一种采用全读模式并使用差分读出放大器的OTP存储阵列;图7B-图7C是其电信号时序图。图8A表示另一种采用全读模式并使用差分读出放大器的OTP存储阵列;图8B是其电信号时序图。图9是一种含有哑字线的OTP存储阵列。注意到,这些附图仅是概要图,它们不按比例绘图。为了显眼和方便起见,图中的部分尺寸和结构可能做了放大或缩小。在不同实施例中,相同的符号一般表示对应或类似的结构。在图6A、图7A、图8A和图9的电路图中,实心圆表示已编程存储元,空心圆表示未编程存储元。在本专利技术中,“/”表示“和”或“或”的关系。具体实施方式图2A-图2D是具有四种状态的OTP存储元1aa-1ad之截面图。它们分别处于四种状态:’0’,‘1’,‘2’,‘3’。每个OTP存储元(如1aa)含有一顶电极30a、一底电极20a、一反熔丝膜22和一准导通膜24。反熔丝膜22未编程时(图2A)具有高电阻。在编程后(图2B-图2D)不可逆转地转变为低电阻。准导通膜24具有如下特性:当外加电压的数值小于读电压或外加电压的方向与读电压相反时,准导通膜的电阻远大于其在读电压下的电阻。由于存储元1aa未编程,其反熔丝膜22中没有形成任何导体丝(conducivefilament)。存储元1ab-1ad已编程,其反熔丝膜22中形成了具有不同大小的导体丝25x-25z。其中,存储元1ab中的导体丝25x最细,其电阻在所有已编程反熔丝膜中最大;存储元1ad中的导体丝25z最粗,其电阻在所有已编程反熔丝膜中最小;存储元1ac中的导体丝25y介于存储元1ab和1ad之间,其电阻也介于两者之间。图3表示一种OTP存储元1的电路符号。存储元1含有一反熔丝12和一二极管14。反熔丝12含有反熔丝膜22,其电阻在编程时从高阻不可逆转地转变为低阻。二极管14含有准导通膜24,它泛指任何具有如下特征的二端器件:当其外加电压的数值小于读电压或外加电压的方向与读电压相反时,其电阻远大于其在读电压下的电阻。图4A-图4B披露各种OTP存储元1aa-1ad的电学特性。图4A是四种状态’0’-’3’下存储元1aa-1ad的I-V特性图。其中,I-V曲线130对应于状态为’0’的存储元1aa,I-V曲线131对应于状态为’1’的存储元1ab,I-V曲线132对应于状态为’2’的存储元1ac,I-V曲线133对应于状态为’3’的存储元1ad。二极管12具有一导通电压(turn-onvoltage)Von。当外加电本文档来自技高网...
多位元三维一次编程存储器

【技术保护点】
一种多位元三维一次编程存储器(多位元3D‑OTP),其特征在于含有:一含有晶体管的半导体衬底(0);多个堆叠在衬底上方并与该衬底耦合的OTP存储元(1aa‑1ad);每个存储元含有一个反熔丝膜(22),该反熔丝膜(22)的电阻在编程时不可逆转地从高阻态转变为低阻态;所述反熔丝膜(22)具有N(N>2)种状态,不同状态下的反熔丝膜(22)具有不同电阻,所述反熔丝膜的电阻值由一编程电流设定。

【技术特征摘要】
2016.04.14 CN 20161023801271.一种多位元三维一次编程存储器(多位元3D-OTP),其特征在于含有:一含有晶体管的半导体衬底(0);多个堆叠在衬底上方并与该衬底耦合的OTP存储元(1aa-1ad);每个存储元含有一个反熔丝膜(22),该反熔丝膜(22)的电阻在编程时不可逆转地从高阻态转变为低阻态;所述反熔丝膜(22)具有N(N>2)种状态,不同状态下的反熔丝膜(22)具有不同电阻,所述反熔丝膜的电阻值由一编程电流设定。2.根据权利要求1所述的多位元3D-OTP,其特征还在于含有:一准导通膜(24),已编程反熔丝膜(24)的电阻值高于所述准导通膜(22)的读电阻值。3.根据权利要求1所述的多位元3D-OTP,其特征还在于含有:一读出放大器(58S,58a-58c,或58d),该读出放大器与部分存储元电耦合。4.根据权利要求3所述的多位元3D-OTP,其特征还在于:在读周期(T)的预充电阶段(Tpre),所有地址线(20a-20z,30a-30z)都被预充电至该读出放大器的偏置电压(Vi)。5.根据权利要求3所述的多位元3D-OTP,其特征还在于:在读周期(T)的读阶段(TR),所有位线(30a-30z)上的最大电压变化delta(V)max~N*VT;所述OTP存储元的读电流(I(VR))远大于其在-delta(V)max下的漏电流(I(-N*VT));其中,VT为该读出放大器的阈值电压。6.根据权利要求1所述的多位元3D-OTP,其特征还在于含有:一第一哑位线(31a),该第一哑位线(31a)上有一第一哑存储元(1a0),该第一哑存储元(1a0)未编程;一第二哑位线(31b),该第二哑位线(31b)上有一第二哑存储元(1a1),该第二哑存储元(1a1)已编程;一差分放大器(58a),该...

【专利技术属性】
技术研发人员:张国飙
申请(专利权)人:成都海存艾匹科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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