一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法，该方法所采用的试剂易得，合成操作简单，反应条件温和，产物纯度高。其包括以下步骤：1)以2‑乙酰氧基异丁酰氯和肌苷为起始原料，在溴化锂催化下在溶剂中进行溴代反应和酰化反应；2)步骤1所得反应液浓缩除去溶剂后溶于极性溶剂中直接用于下一步；3)低温条件下向其中加入碱性试剂，调pH至强碱条件下进行反应，即得2’，3’‑脱水肌苷。

A method for preparing high purity impurity of inosine

The present invention discloses a method for preparing high-purity inosine impurity. The reagent used in the method is easy to obtain, the synthesis is simple, the reaction conditions are mild, and the purity of the product is high. It includes the following steps: 1) to 2 acetoxy isobutyl chloride and inosine as the starting material in lithium bromide catalyzed in the solvent of bromination reaction and acylation reaction; 2) step 1 the reaction liquid concentration after removal of the solvent soluble in polar solvents for the next step; 3) low temperature is added to the alkaline reagent, the reaction pH adjusted to alkaline conditions, namely 2 ', 3' inosine dehydration.

【技术实现步骤摘要】
一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法
本专利技术涉及有机合成领域，特别涉及一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法。
技术介绍
去羟肌苷(DDI)化学名为2，3-双脱氧肌苷。该药是由美国Bristol-MyersSquibb公司开发,并于1991年首次在美国上市的一种HIV-1逆转录酶抑制剂。本品通过干扰逆转录酶而阻止病毒的复制而使艾滋病患者的CD4细胞数目增多,从而延长患者的生存时间和减少致病菌感染发生率。临床已用于不能耐受齐多夫定(AZT)、AZT治疗无效或无症状HIV感染的艾滋病患者。虽然去羟肌苷上市二十多年，但关于其生产过程中的杂质研究还相对较少。特别是2’，3’-脱水肌苷的发现，申请人在去羟肌苷生产过程中发现了杂质2’,3’-脱水肌苷，并通过大量化学实验验证了该杂质的多少与反应进行程度有关，其结构式如下：站在安全用药的角度，2’，3’-脱水肌苷标准样品(即对照品)的合成对于合成高品质去羟肌苷、减少副作用、提高艾滋病人的存活率和生活质量显得尤为重要。对于药厂来说，高纯度的杂质对照能为我们监测生产过程、减少副反应的发生、提高产品收率和纯度提供数据支撑和理论依据。另一方面，国际竞争越来越激烈本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去羟肌苷杂质2’，3’‑脱水肌苷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)以2‑乙酰氧基异丁酰氯和肌苷为起始原料，在溴化锂催化下在溶剂中发生反应；2)步骤1所得反应液浓缩除去溶剂后溶于极性溶剂中直接用于下一步；3)低温条件下向步骤2所得极性溶剂中加入碱性试剂，调pH至强碱条件下进行反应，即得2’，3’‑脱水肌苷。

【技术特征摘要】
1.一种去羟肌苷杂质2’，3’-脱水肌苷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)以2-乙酰氧基异丁酰氯和肌苷为起始原料，在溴化锂催化下在溶剂中发生反应；2)步骤1所得反应液浓缩除去溶剂后溶于极性溶剂中直接用于下一步；3)低温条件下向步骤2所得极性溶剂中加入碱性试剂，调pH至强碱条件下进行反应，即得2’，3’-脱水肌苷。2.根据权利要求1所述的去羟肌苷杂质2’，3’-脱水肌苷的制备方法，其特征在于，步骤1的操作步骤为：在溶剂中加入无水溴化锂升温，待无水溴化锂溶解；然后再加入2-乙酰氧基异丁酰氯进行反应；所得反应液降温后再加入肌苷进行反应。3.根据权利要求1或2所述的去羟肌苷杂质2’，3’-脱水肌苷的制备方法，其特征在于，步骤1中无水溴化锂、2-乙酰氧基异丁酰氯和肌苷的质量比为30-40:50-60:25-35，还可以是35-40:55-58:28-32，还可以为37.5:55:30。4.根据权利要求1-3之一所述的去羟肌苷杂质2’，3’-脱水肌苷的制备方法，其特征在于，步骤1中所述升温为升至70-75℃，步骤1中所述降温为降至10℃以下；步骤1中加入2-乙酰氧基异丁酰氯后反应0.5-2h，还可以为1h；步骤1中再加入肌苷后反应3-6h，还可以为4h。5.根据权利要求1-4之一所述的去羟肌苷杂质2’，3’-脱...

【专利技术属性】
技术研发人员：高明，王俊臣，陈风，朱秋晟，钱丹，殷恒亮，杨秋燕，陈金春，卢廷贵，赵臻，李翠平，马珍珍，年蓓蕾，
申请(专利权)人：天方药业有限公司，
类型：发明
国别省市：河南,41