下载一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法的技术资料

文档序号:16448648

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法,该方法所采用的试剂易得,合成操作简单,反应条件温和,产物纯度高。其包括以下步骤:1)以2‑乙酰氧基异丁酰氯和肌苷为起始原料,在溴化锂催化下在溶剂中进行溴代反应和酰化反应;2)步骤1所得反应液浓缩...
该专利属于天方药业有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天方药业有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。