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一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法技术
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文档序号:16448648
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本发明公开了一种高纯度去羟肌苷杂质的制备方法,该方法所采用的试剂易得,合成操作简单,反应条件温和,产物纯度高。其包括以下步骤:1)以2‑乙酰氧基异丁酰氯和肌苷为起始原料,在溴化锂催化下在溶剂中进行溴代反应和酰化反应;2)步骤1所得反应液浓缩...
该专利属于天方药业有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天方药业有限公司授权不得商用。
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