一种用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括基板及荧光薄膜，该荧光薄膜设置于基板上且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域，每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。本发明专利技术还公开一种用于荧光仪器校准测量的标准样片的制备方法。本发明专利技术的用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制作方法，通过利用微纳加工技术，精确控制调整荧光薄膜表面上每个像素对应区域内的荧光染料填充占空比，在一个标准样片上获得多个厚度相同的荧光强度区域，且每个荧光强度区域具有精准可控的特定的荧光染料填充占空比，使获得复杂图案的小尺度图形成为可能。

【技术实现步骤摘要】
一种用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制备方法
本专利技术涉及荧光仪器校准测量。更具体地，涉及一种用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制备方法。
技术介绍
随着生物技术的不断发展，荧光检测技术(FluorescentDetection)由于其具有荧光定量、结果稳定、灵敏度高、封闭操作、安全便捷等特点，已经广泛地应用于生命科学、医药卫生、食品安全、药理学及生物化学分析等领域。荧光检测是一种自然发光反应，通过荧光素酶与ATP进行反应，利用专用设备对光照度进行测量并以数字形式予以表示，迅速得到反应结果，可用于检测人体细胞、细菌、霉菌和食物残渣等。传统的荧光仪器通常采用激光、氙灯、高压/低压汞灯等光源作为激发光源，通过检测荧光物质受激发后发射光的光谱及信号强弱来进行分析。不同荧光仪器的光源、光路、检测系统的设计与集成各不相同，即使是同一仪器的光源、光路及检测系统也可能因为老化、环境或震动等原因出现细微的变化，从而引起激光光谱发生变化，带来测量误差，影响测量结果。由于荧光检测的灵敏度极高，通常用于痕量检测中，极小的测量误差可能会很大程度上影响测量结果，甚至导致完全相反的结论。因此，制备标准样片并应用其对荧光仪器进行校准测量显得尤为重要。目前，用于荧光仪器校准测量的标准有按特定浓度配成的液体和固态薄膜等形式。液体标准需要置于玻璃容器之中，应用领域受限。固态薄膜型荧光强度标准样品，将含有荧光材料的薄膜制作于玻璃基片上，可用于荧光显微镜、荧光光谱仪等多种生物荧光检测仪器的日常校准和仪器间比对。但是，这种标准样品通常只含有一种特定的荧光强度，当需要标定多个荧光强度时，需要更换多个不同强度的标准样品，操作不便其标准样片的利用率低。为了简化操作过程，提高标准样片的利用率，提出了包含多个荧光强度区域的标准样片。其中，不同荧光强度区域用于标定不同的荧光强度，使得在不更换标准样品的情况下对荧光检测仪的荧光强度、线性度、饱和度等关键参数进行测试成为可能。为了获得具有不同荧光强度区域的标准样品，通常将不同区域的荧光薄膜层设置为不同厚度或不同浓度。具体地，如果将荧光薄膜层设置为不同厚度，需要采用多次匀胶、多次曝光和一次显影的方法制作同一浓度多个厚度的荧光材料薄膜，其操作的次数与荧光强度区域的个数正相关，特别是制作包含荧光强度值多的标准样品时，其操作将异常繁杂。如果将荧光薄膜层设置为不同浓度，通常使用微阵列点样仪或旋涂加丝网印刷等相对较为简单的方法将不同浓度的荧光材料溶液涂覆于基片表面，从而形成具有大约等同厚度和不同荧光强度的点阵。但是，其并不能精准控制标准样品不同浓度的荧光材料薄膜厚度一致性，导致实际荧光强度不能得到精准控制而影响校准测量结果。另外，采用这种方式获得的标准样片只能制作大尺度的圆形图形，并不能制作含有复杂图案的小尺度图形。因此，需要提供一种包含多个荧光强度区域的标准样片，能够简化制作过程，同时保证对荧光强度的精准控制，满足制作含有复杂图案的小尺度图形的要求。
技术实现思路
为了克服上述缺点，本专利技术的一个目的在于提供一种包含厚度相同的多个荧光强度区域，制作过程简单且满足复杂图案的小尺度图形要求的标准样片。为达到上述目的，本专利技术采用下述技术方案：一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括基板；及荧光薄膜，设置于基板上且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域；多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。优选地，基于微纳加工技术获得特定的荧光染料填充占空比。优选地，荧光强度区域包括多个与像素对应的重复单元，同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。进一步优选地，重复单元尺寸小于或等于像素尺寸。进一步优选地，像素为人眼像素或CCD像素。进一步优选地，采用光刻、纳米压印或电子束曝光获得重复单元。进一步优选地，光刻时，与重复单元对应的光刻板中透光或不透光部分的占空比与重复单元的荧光染料填充占空比相同。进一步优选地，光刻胶为混有荧光材料的光敏高分子材料。优选地，标准样片表面涂覆有保护层。本专利技术的另一个目的在于提供一种制作过程简单、对荧光强度控制精准的用于荧光仪器校准测量的标准样片的制备方法，包括：制备基板；在基板上制作荧光薄膜，具体包括：在荧光薄膜上形成具有不同荧光强度的多个荧光强度区域；基于微纳加工技术在每个荧光强度区域上形成多个与像素对应的重复单元，使同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。本专利技术的有益效果如下：本专利技术的用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制作方法，通过利用微纳加工技术，精确控制调整荧光薄膜表面上每个像素对应区域内的荧光染料填充占空比，在一个标准样片上获得多个厚度相同的荧光强度区域，且每个荧光强度区域具有精准可控的特定的荧光染料填充占空比，使获得复杂图案的小尺度图形成为可能。简化了制作工艺，优化了校准测量过程，提高了不同荧光强度区域图形的复杂度和精细度，能够获得更多更加精准的荧光强度，改善了荧光仪器校准测量标准样片的可用性。附图说明下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明。图1示出实施例1中用于荧光仪器校准测量的标准样片结构示意图。图2示出实施例2中第一重复单元结构示意图。图3示出实施例2中第二重复单元结构示意图。图4示出实施例2中第三重复单元结构示意图。图5示出实施例2中第四重复单元结构示意图。图6示出另一种重复单元结构示意图。图7示出又一种重复单元结构示意图。具体实施方式为了更清楚地说明本专利技术，下面结合优选实施例和附图对本专利技术做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本专利技术的保护范围。本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的属于“第一”、“第二”等是用于区别不同的对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一些列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法或设备固有的气体步骤或单元。本专利技术中，通过利用微纳加工技术，精确控制调整荧光薄膜表面上每个像素对应区域内的荧光染料填充占空比，在一个标准样片上获得多个厚度相同的荧光强度区域，且每个荧光强度区域具有精准可控的特定的荧光染料填充占空比，使获得复杂图案的小尺度图形成为可能。本专利技术中，荧光染料填充占空比是指荧光薄膜中荧光染料填充部分面积与荧光薄膜面积的比值。实施例1如图1所示，一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括基板10及荧光薄膜20。所述荧光薄膜20设置于基板上10且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域，多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。应说明的是，本专利技术中，多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比是指不同的荧光强度区域具有不同的荧光染料填充占空比。在本实施例中，基板10为玻璃基板，荧光薄膜20例如包括四个荧光强度区域，分别为第一荧光强度区域210、第二荧光强度区域220、第三荧光强度区域230和第四荧光强度区域240。每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比，例如第一荧光强度区域210本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括基板；及荧光薄膜，设置于所述基板上且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域；其特征在于，所述多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。

【技术特征摘要】
1.一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括基板；及荧光薄膜，设置于所述基板上且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域；其特征在于，所述多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。2.根据权利要求1所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，基于微纳加工技术获得所述特定的荧光染料填充占空比。3.根据权利要求1所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述荧光强度区域包括多个与像素对应的重复单元，同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。4.根据权利要求3所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述重复单元尺寸小于或等于所述像素尺寸。5.根据权利要求4所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述像素为人眼像素或CCD像素。6.根据权利要求3所述的用于荧光仪器校准测量的...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟源，李劲劲，张玲，王晶，钟青，王雪深，傅博强，王兰若，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京,11