一种微波一步法制备高纯钌粉的方法技术

技术编号:16407553 阅读:82 留言:0更新日期:2017-10-20 23:39
本发明专利技术涉及一种微波一步法制备高纯钌粉的方法,属于粉末冶金技术领域。将氯钌酸铵物料以0.05~0.2kg/min的进料速度进入到微波装置中,在频率2.45GHz的微波装置中、在惰性气体保护环境中从室温升温至450~550℃保温10~30min后,将煅烧物料自然冷却至室温得到高纯钌粉产品。本发明专利技术由于微波的体积加热特性,氯钌酸铵受热均匀,煅烧过程中不会产生温度梯度,加热迅速,产品成分粒径均匀,产品纯度高。

Method for preparing high purity ruthenium powder by microwave one-step method

The invention relates to a method for preparing high-purity ruthenium powder by microwave one-step method, which belongs to the field of powder metallurgy technology. The chlororuthenium acid ammonium materials in the feed speed of 0.05~0.2kg/min into the microwave devices, microwave devices in the frequency of 2.45GHz, in an inert gas to protect the environment from room temperature to 450~550 Deg. C for 10~30min, the calcined materials naturally cooled to room temperature to obtain high purity ruthenium powder products. Because of the volume heating characteristics of the microwave, the ammonium chloride is heated evenly, and the temperature gradient is not produced during the calcination process, the heating is rapid, the particle size of the product is uniform, and the purity of the product is high.

【技术实现步骤摘要】
一种微波一步法制备高纯钌粉的方法
本专利技术涉及一种微波一步法制备高纯钌粉的方法,属于粉末冶金

技术介绍
钌是铂族金属中性质非常特殊的元素,具有熔点高、硬度大、不易机械加工等特点当前钌粉末的最大用途之一是生产钌靶材,并以钌靶材作为计算机硬盘记忆材料。另外,钌靶材作为电容器电极膜也大量应用在集成电路产业中。贵金属靶材产业是Heraeus公司、昭荣、助友和贵研铂业股份公司等国内外公司正在大力发展的产业。集成电路用靶材在全球靶材市场占较大份额,钌靶材因用量大,附加值高而引起极大的关注,随着技术的进步,金属钉粉末的应用领域不断扩展,市场需求量逐渐增加,呈现出产品向高纯、超细方向发展,生产工艺向大批量、可靠性、简便化发展的趋势。集成电路对钌粉的要求尤其严格,因为没有优良的钌粉末就没有优良的钌靶材,同时也就无法产生高质量的电容器电极膜。目前国内高纯钌粉(如光谱纯级)的产量远远跟不上需求,大都依靠进口价格高昂的国外产品。伴随着贵金属靶材产业的进一步发展,对高纯钌粉的需求必将加大。因此,对批量化生产高纯钌粉方法的研究,必须引起国内相关科技工作者的足够重视。另外,增强对钌粉应用的研究及钌粉回本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微波一步法制备高纯钌粉的方法,其特征在于具体步骤如下:将氯钌酸铵物料以0.05~0.2kg/min的进料速度进入到微波装置中,在频率2.45GHz的微波装置中、在惰性气体保护环境中从室温升温至450~550℃保温10~30min后,将煅烧物料自然冷却至室温得到高纯钌粉产品。

【技术特征摘要】
1.一种微波一步法制备高纯钌粉的方法,其特征在于具体步骤如下:将氯钌酸铵物料以0.05~0.2kg/min的进料速度进入到微波装置中,在频率2.45GHz的微波装置中、在惰性气体保护环境中从室温升...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘秉国李浩宇马爱元彭金辉张利波夏洪应李世伟郑雪梅
申请(专利权)人:昆明理工大学
类型:发明
国别省市:云南,53

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