一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法，本发明专利技术有效解决了氧化物透明导电薄膜与柔性聚酯基底匹配性不好，附着性差，容易发生脱落的关键性问题，本采用原子层沉积方法，基于TiO2自身的优异的宽禁带性能，采用能够在较低温度下能够气化的三（乙基甲基氨基）叔丁酰胺铬作为铬前驱体源，有效降低了实验条件和能耗，且原子层沉积工艺过程参数易于控制。

Preparation of titanium oxide thin film by deposition method

The invention discloses a method for preparing titanium oxide films by deposition method, the invention solves the transparent conductive oxide thin film and flexible polyester substrate, is not good, adhesion is poor, prone to falling off the key problems, using atomic layer deposition method TiO2 its excellent performance based on wide band gap, which can can the gasification at low temperature three (ethylmethylamino) tert butyl amide as source of chromium chromium precursor, effectively reducing the energy consumption and the experimental conditions, and the atomic layer deposition process parameters are easy to control.

【技术实现步骤摘要】
一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法
本专利技术涉及导电材料领域，具体涉及一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法。
技术介绍
透明导电薄膜是一种兼备高导电及可见光波段高透明特性的基础光电材料，广泛应用于显示器、发光器件、太阳能电池、传感器、柔性触摸屏等光电显示领域，具有广泛的商业应用前景。染料敏化太阳能电池由光阳极、染料、电解质和对电极四部分组成。其中，光阳极和对电极的基底材料都是透明导电玻璃。目前，常用的透明导电层主要为氧化铟锡（ITO）和氟掺杂的氧化锡（FTO）。FTO是最早实现工业化生产的透明导电薄膜，制备工艺简单、成熟，但是与ITO相比导电率较低，ITO是目前市场上需求量最大的透明导电薄膜，光电性能十分优秀，但是铟会对环境造成污染，且价格昂贵，另外，ITO还存在不耐高温的缺点，从而限制了染料敏化太阳能的发展和应用。透明导电层还被广泛应用于有机太阳能电池、钙钛矿型太阳能电池和量子点敏化太阳能电池等。在过往研究中，铟掺杂氧化锡(ITO)和铝掺杂氧化锌（ZAO）已经获得广泛的应用。但上述材料仍存在较多局限:如铟元素是地球上的稀缺元素并具有一定毒性，折射率有限（均小于2）、在还原气体氛围中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法，该方法包括如下步骤：（1）对聚酯基底进行等离子体表面处理将柔性聚酯基底放入含有一定洗洁剂的去离子水中，在去离子水中超声10‑15min；然后，用柔软干净的毛刷逐一对柔性聚酯基底的正反面进行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去离子水反复冲洗基底，直至基底无泡沫为止；接着，将柔性聚酯放入乙醇中超声10‑15min，以去除基底表面的有机物，之后，用去离子水反复冲洗基底4‑6次；接着，将柔性聚酯基底进行去离子水超声25‑30mins，然后，将容器中超声后的去离子水倒出，加入新的去离子水；最后，将洁净的柔性聚酯从去离子水中逐一取出平铺在洁净的大号培养皿上，一起放...

【技术特征摘要】
1.一种采用沉积法制备氧化钛薄膜的方法，该方法包括如下步骤：（1）对聚酯基底进行等离子体表面处理将柔性聚酯基底放入含有一定洗洁剂的去离子水中，在去离子水中超声10-15min；然后，用柔软干净的毛刷逐一对柔性聚酯基底的正反面进行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去离子水反复冲洗基底，直至基底无泡沫为止；接着，将柔性聚酯放入乙醇中超声10-15min，以去除基底表面的有机物，之后，用去离子水反复冲洗基底4-6次；接着，将柔性聚酯基底进行去离子水超声25-30mins，然后，将容器中超声后的去离子水倒出，加入新的去离子水；最后，将洁净的柔性聚酯从去离子水中逐一取出平铺在洁净的大号培养皿上，一起放进温度为55-60℃的洁净烘箱内进行烘烤24-30h；将清洗、干燥后的柔性聚酯基底放入磁控溅射机的腔体内，关闭磁控溅射机的所有阀门、窗口、所有靶材正下方的溅射挡板，对腔体进行抽真空，至3×10-4-5×10-4pa；将反溅射挡板旋转至柔性聚酯基底的正上方，通入氩气和氧气，调节聚酯基底与反溅射挡板的间距，设定相应的氩氧比例、总体气体流量、工作气压、溅射功率和等离子体处理时间，对柔性聚酯基底表面进行反溅射等离子体处理；（2）采用四氯化钛为钛前驱体源，三（乙基甲基氨基）叔丁酰胺铬为铬前驱体源，高纯水为氧前驱体源，将上述经等离子体处理后的聚酯基底加热后，采用将前驱体源进行沉积组合进行多组循环后制备出需要的透明导...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：苏州南尔材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32