一种全抛釉砖的制备方法技术

本发明专利技术所述一种全抛釉砖的制备方法，其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。

Preparation method of a fully polished glazed tile

The invention relates to a whole glazed brick preparation method, the preparation of the product has the characteristics of glaze through the sense of strong, high brightness, rich layers, high whiteness, good anti fouling, but also increase the addition of aluminum, can obtain high strength (strength more than 35MPa, can be stabilized at about 40MPa), glazed through the sense of strong, high brightness (luminance > 100 degrees), hair color is gorgeous, rich layers, good anti fouling effect products.

【技术实现步骤摘要】
一种全抛釉砖的制备方法
本专利技术涉及釉面砖
，具体地说，涉及一种全抛釉砖的制备方法。
技术介绍
全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽，其特点是透明不遮盖底下的抛釉和各道花釉。全抛釉砖全抛釉是釉下彩，属于釉面砖，它是在施完底釉料后就印花，再施一层透明的抛釉，烧制后把整个抛釉抛去一部分，保留一部分抛釉层、印花层、底釉料。全抛釉仿古砖属于一次烧成，在釉面进行抛光，属于最后一道工序。但是，现有制备方法在生产过程中釉料损耗大，成本高，而且制备方法稳定性和产品质量较差。
技术实现思路
本专利技术克服了现有技术中的缺点，提供了一种全抛釉砖的制备方法，实现了提高工艺的稳定性和产品质量、减少生产过程中釉料损耗、降低成本。为了解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：一种全抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO265～70％、Al2O316～20％、Fe2O32～3％、TiO20.2～0.4％、CaO0.7～0.8％、K2O2～2.5％、SnO22～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O318～22％、Fe2O30.1～0.2％、TiO20.03～0.05％、CaO2～3％、ZrO20.1～0.2％、K2O1.5～2.0％、SnO22.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO268～73％、Al2O313～17％、Fe2O30.1～0.15％、TiO20.02～0.04％、CaO3～5％、K2O0.4～0.5％、SnO22.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。进一步，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO269％、Al2O318％、Fe2O32.5％、TiO20.3％、CaO0.75％、K2O2.2％、SnO22.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。进一步，步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为：SiO270％、Al2O320％、Fe2O30.15％、TiO20.04％、CaO2.56％、ZrO20.15％、K2O1.8％、SnO22.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。进一步，所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO269.2％、Al2O315％、Fe2O30.12％、TiO20.03％、CaO4％、K2O0.45％、SnO22.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比。进一步，步骤(4)中的丝网印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网。进一步，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；其中，所述软质原料为高铝泥2～3％、水洗泥7.2～7.8％、博罗泥1.7～2.2％、惠东精选泥2.8～3.2％、膨润土1.2～1.7％、65#水洗泥6.2～6.8％；硬质原料为中山石粉15～18％、盛发石粉12～15％、高铝钾砂4～6％、氧化锆1～1.5％、氧化锡4～5％、东平砂28～32％、新丰石粉2.5～3.0％、滑石粒2.5～3.0％，各成分的百分比为质量百分比。进一步，所述软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17％、盛发石粉14％、高铝钾砂5％、氧化锆1.2％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.6％，各成分的百分比为质量百分比。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术所述一种全抛釉砖的制备方法，其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。具体实施方式以下对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。一种全抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO269％、Al2O318％、Fe2O32.5％、TiO20.3％、CaO0.75％、K2O2.2％、SnO22.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比；(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO270％、Al2O320％、Fe2O30.15％、TiO20.04％、CaO2.56％、ZrO20.15％、K2O1.8％、SnO22.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比；(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO269.2％、Al2O315％、Fe2O30.12％、TiO20.03％、CaO4％、K2O0.45％、SnO22.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比；(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层，其中丝网印刷，包括用100目效果网和100目全通网交叉印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网；(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。其中，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；其中，软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17.5％、盛发石粉14.5％、高铝钾砂5％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.8％，各成分的百分比为质量百分比。得到的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。最后应说明的是：以上仅为本专利技术的优选实施例而已，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO2 65～70％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 2～3％、TiO2 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K2O 2～2.5％、SnO2 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O3 18～22％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO2 0.1～0.2％、K2O 1.5～2.0％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 68～73％、Al2O3 13～17％、Fe2O3 0.1～0.15％、TiO2 0.02～0.04％、CaO 3～5％、K2O 0.4～0.5％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。...

【技术特征摘要】
1.一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO265～70％、Al2O316～20％、Fe2O32～3％、TiO20.2～0.4％、CaO0.7～0.8％、K2O2～2.5％、SnO22～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O318～22％、Fe2O30.1～0.2％、TiO20.03～0.05％、CaO2～3％、ZrO20.1～0.2％、K2O1.5～2.0％、SnO22.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO268～73％、Al2O313～17％、Fe2O30.1～0.15％、TiO20.02～0.04％、CaO3～5％、K2O0.4～0.5％、SnO22.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。2.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO269％、Al2O318％、Fe2O32.5％、TiO20.3％、CaO0.75％、K2O2.2％、SnO22.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。3.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的底釉原...

【专利技术属性】
技术研发人员：简景杰，
申请(专利权)人：佛山市高明区新粤丰建材有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44