一种光阑及具有该光阑的光学仪器制造技术

技术编号:16174983 阅读:524 留言:0更新日期:2017-09-09 02:15
本发明专利技术实施例公开了一种光阑,所述光阑具有基底,在所述基底中预埋半导体制冷片,在所述基底的第一表面加工成抛光球面,在所述抛光球面镀有反射膜,在所述基底的第二表面设有用于与面型驱动器连接的连接装置。在对光阑的反射面进行抛光镀膜的基础上进行了半导体制冷,同时降低了光阑反射面的温度与发射率,减小了光阑自身辐射对探测器的影响;利用面型驱动器和直线电机的组合方式控制光阑的面型和位置,解决了变相对孔径红外系统无法使用光阑抑制杂散辐射的问题;光阑的基底采用碳纤维复合材料,仅需较小的驱动力便可使光阑反射面曲率发生很大的变化,同时利用其导热性好的特点,提升了半导体制冷的效率。本发明专利技术还提供一种光学仪器。

【技术实现步骤摘要】
一种光阑及具有该光阑的光学仪器
本专利技术涉及光学
,涉及一种光阑及具有该光阑的光学仪器。
技术介绍
为提高红外成像系统的探测灵敏度,需进行冷阑匹配设计以抑制红外杂散辐射,但在如光学系统尺寸严格受限等情况下,无法实现100%的冷阑效率,需要引入外置光阑。探测器冷阑立体角大于光阑立体角,探测器可看到光阑面,光阑处于环境温度,而探测器处在杜瓦瓶内77K左右的工作温度,因此相对于探测器来说光阑为高温辐射源,同时光阑表面会将外部热辐射反射到探测器上,光阑引入的杂散辐射与其形状位置、材料和表面特性有关。在现有的红外光阑中,仅对常温下固定位置、固定相对孔径光学系统的光阑进行了设计优化,得到例如球面抛光镀膜型光阑等,虽然抑制了光阑自身的发射率,但对于光阑的温度没有控制,其自身辐射仍较高,同时,对例如大口径共轴折反射式变焦系统,其相对孔径在变焦过程中是不断变化的,导致光阑位置和曲率需要随光学系统光阑位置的移动而改变,常规光阑无法满足该需要。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例提供了一种光阑及具有该光阑的光学仪器,解决非冷阑匹配红外光学系统杂散辐射的问题。第一方面,本专利技术提供一种光阑,所述本文档来自技高网...
一种光阑及具有该光阑的光学仪器

【技术保护点】
一种光阑,其特征在于,所述光阑具有基底,在所述基底中预埋半导体制冷片,在所述基底的第一表面加工成抛光球面,在所述抛光球面镀有反射膜,在所述基底的第二表面设有用于与面型驱动器连接的连接装置。

【技术特征摘要】
1.一种光阑,其特征在于,所述光阑具有基底,在所述基底中预埋半导体制冷片,在所述基底的第一表面加工成抛光球面,在所述抛光球面镀有反射膜,在所述基底的第二表面设有用于与面型驱动器连接的连接装置。2.根据权利要求1所述的光阑,其特征在于,所述基底为碳纤维复合材料基底,铺层方式为[0°/90°/45°/-45°]ns。3.根据权利要求1所述的光阑,其特征在于,所述基底沿径向方向在侧壁上设有用于插拔所述半导体制冷片的插拔口。4.根据权利要求1所述的光阑,其特征在于,所述光阑还具有面型驱动器,所述面型驱动器具有6个且沿圆周方向...

【专利技术属性】
技术研发人员:董健何锋赟常松涛胡玥刘震宇程路超
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
类型:发明
国别省市:吉林,22

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