实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及去除沉淀的装置，尤其涉及一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置。一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，包括：氧化槽、超声波发生器、清洁循环系统；所述氧化槽用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所；所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀，所述清洁循环系统包括：进液管、过滤管、滤集盒、波纹管、环形管、冷却桶、循环泵、回流管。本发明专利技术设计的装置可实时去除微弧氧化槽液沉淀，提升槽液稳定性，延长槽液寿命，保证膜层性能均一。本发明专利技术涉及的装置也适合阳极氧化、化学成膜及电化学成膜。

Device for removing liquid precipitation in micro arc oxidation tank in real time

The invention relates to a device for removing precipitation, in particular to a device for removing liquid precipitation in micro arc oxidation tank in real time. A device that precipitated micro arc oxidation bath removed in real time include: oxidation tank, ultrasonic generator, clean circulating system; the oxidation tank used for bath, and as the place of microarc oxidation; at the bottom of the ultrasonic generator is arranged in the oxidation tank, used to generate ultrasonic bath, the precipitation floating on the surface; the cleaning bath circulation system for the removal of precipitation, including the cleaning cycle: a liquid inlet pipe, filter tube, filter set box, corrugated pipe, ring pipe, cooling barrel, circulating pump, reflux pipe. The device designed by the invention can remove the liquid precipitation of the micro arc oxidation tank in real time, improve the stability of the bath liquid, prolong the service life of the bath liquid and ensure the uniform performance of the film. The device involved in the invention is also suitable for anodic oxidation, chemical film formation and electrochemical film formation.

【技术实现步骤摘要】
实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置
本专利技术涉及去除沉淀的装置，尤其涉及一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置。
技术介绍
微弧氧化，又称微等离子氧化，是通过改变电源参数及槽液组分，在镁、铝、钛及其合金表面弧光放电，产生瞬时高温，使其表面形成一层金属氧化物陶瓷层的表面技术。此膜层具有硬度高、膜层厚及耐腐蚀的特性；同时，微弧氧化工艺简单、清洁环保，故在航空航天、兵器制造及电子产业方面得到广泛应用。然而，微弧氧化时，基体中金属元素会以离子的形式溶入槽液，与槽液中阴离子反应形成胶体沉淀，随着氧化的进行，槽液中胶体沉淀增多并发生沉聚，使槽液浑浊失效，大幅降低槽液寿命。槽液中沉淀以非晶态居多，其使槽液黏度增大；当槽液黏度达到一定程度，反应物和反应副产物在槽液中的扩散系数降低，传质速度降低，槽液电导率降低，导致槽液稳定性较差，膜层性能不均。针对上述问题，目前主要的解决方案有两种：一是通过过滤去除沉淀，起到一定的效果，但结构复杂、工艺繁多，且仅能用于实验条件，不易在大规模生产中推广应用；二是槽液中添加稳定剂（如：乙二胺四乙酸、十二烷基苯磺酸钠），稳定剂的引入提升了槽液稳定性，但稳定剂的添加给槽液带来了新的离子，破坏了原槽液的离子活性，导致膜层性能不均。故，如何及时有效去除微弧氧化槽液沉淀是目前微弧氧化技术中迫切需要解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，这种装置可及时有效去除微弧氧化过程中槽液产生的沉淀，提升槽液的稳定性，延长槽液的寿命，保证膜层性能的均一。本专利技术通过以下技术方案解决上述技术问题。一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，包括：氧化槽，所述氧化槽用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所；超声波发生器，所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；清洁循环系统，所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀。所述清洁循环系统包括：进液管、过滤管、滤集盒、波纹管、环形管、冷却桶、循环泵、回流管。所述进液管材质为耐酸碱高分子材料，所述进液管的下端设置喇叭口，所述喇叭口置于液面上方。所述过滤管材质为耐酸碱高分子材料，所述过滤管的中部设置垂直等径相贯管道，所述管道内壁设置内螺纹，用于连接所述滤集盒；所述过滤管与所述进液管之间为法兰连接。所述滤集盒包括：一级滤集盒、二级滤集盒；所述一级滤集盒与所述二级滤集盒上部均为圆柱，所述圆柱外壁设置外螺纹，用以连接所述过滤管；所述一级滤集盒下部设置过滤网，所述二级滤集盒下部设置半透膜；所述一级滤集盒与所述二级滤集盒底部均设置集渣板，所述集渣板用于收集过滤后的沉淀；所述一级滤集盒与所述二级滤集盒整体材质均为耐酸碱高分子材料；所述一级滤集盒和所述二级滤集盒与所述过滤管之间均为螺纹连接。所述波纹管材质为耐酸碱高分子材料，所述波纹管与所述过滤管之间为法兰连接，所述波纹管可使所述进液管的喇叭口在整个槽液液面进行移动。所述环形管材质为耐酸碱高分子材料，所述环形管置于所述冷却桶内部，所述冷却桶与所述环形管的间隙装有冷却液；所述环形管与所述波纹管之间为法兰连接。所述循环泵为耐酸碱循环泵，所述循环泵与所述环形管之间为法兰连接。所述回流管材质为耐酸碱高分子材料，所述回流管与所述循环泵之间为法兰连接，所述回流管与所述氧化槽的侧底部之间为焊接。附图说明图1是具体实施方式中所述的实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置结构示意图。图2是一级滤集盒立体结构示意图。图3是二级滤集盒立体结构示意图。图4是法兰连接结构示意图。其中，1.氧化槽；2.超声波发生器；3.回流管；4.循环泵；5.冷却桶；51.环形管；6.波纹管；7.过滤管；71.一级滤集盒；711.过滤网；72.二级滤集盒；721.半透膜；8.法兰；81.螺杆；82.螺帽；83.弹簧垫片；84.平垫片；85.法兰盘；86.环形垫圈；9.进液管；91.喇叭口。具体实施方式如图1所示，一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，包括：氧化槽1、超声波发生器2和清洁循环系统。氧化槽1用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所。超声波发生器2固定于氧化槽1外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；清洁循环系统用于去除槽液沉淀。清洁循环系统包括：进液管9、过滤管7、滤集盒、波纹管6、环形管51、冷却桶5、循环泵4、回流管3。在循环泵4的动力作用下，氧化槽1中槽液及沉淀通过喇叭口91进入进液管9，流入过滤管7，过滤管7的中部设置垂直等径相贯管道，管道内壁设置内螺纹，用于连接滤集盒，过滤管7与进液管9之间为法兰8连接。滤集盒包括一级滤集盒71和二级滤集盒72；一级滤集盒71与二级滤集盒72上部均为圆柱，圆柱外壁设置外螺纹，用以连接过滤管7；一级滤集盒71下部设置过滤网711，二级滤集盒72下部设置半透膜721,，槽液流经滤网时，进行第一次过滤，流经半透膜时，进行第二次过滤；一级滤集盒71与二级滤集盒72底部均设置集渣板，用于收集过滤后的沉淀；一级滤集盒71和二级滤集盒72与过滤管7之间均为螺纹连接，通过旋转取出滤集盒，从而清除过滤网711、半透膜721和集渣板上附着的沉淀。波纹管6与过滤管7之间为法兰8连接。波纹管6可使进液管9下端喇叭口91在整个槽液液面移动。环形管51置于冷却桶5内部，冷却桶5与环形管51的间隙装有冷却液，便于流经的槽液降温冷却；环形管51与波纹管6之间为法兰8连接。循环泵4为耐酸碱循环泵，为槽液循环提供所需动力，循环泵4与环形管51之间为法兰8连接。回流管3与循环泵4之间为法兰8连接，回流管4与氧化槽1的侧底部之间为焊接，槽液通过回流管3返回氧化槽1内，完成槽液的两次过滤及循环。如图4所示，法兰8连接包括：螺杆81，螺帽82，弹簧垫片83，平垫片84，法兰盘85，环形垫圈86。以上详细描述了本专利技术的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术无需创造性劳动就可以根据本专利技术的构思做出诸多修改和变化。因此，凡本
中技术人员依本专利技术的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在权利要求书所确定的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，包括：氧化槽，所述氧化槽用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所；超声波发生器，所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；清洁循环系统，所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀。

【技术特征摘要】
1.一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，包括：氧化槽，所述氧化槽用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所；超声波发生器，所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；清洁循环系统，所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀。2.如权利要求1所述的实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，所述清洁循环系统包括：进液管、过滤管、滤集盒、波纹管、环形管、冷却桶、循环泵、回流管。3.如权利要求2所述的实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，所述进液管材质为耐酸碱高分子材料，所述进液管的下端设置喇叭口，所述喇叭口置于液面上方。4.如权利要求2所述的实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，所述过滤管材质为耐酸碱高分子材料，所述过滤管的中部设置垂直等径相贯管道，所述管道内壁设置内螺纹，用于连接所述滤集盒；所述过滤管与所述进液管之间为法兰连接。5.如权利要求2所述的实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，其特征在于，所述滤集盒包括：一级滤集盒、二级滤集盒；所述一级滤集盒与所述二级滤集盒上部均为圆柱，所述圆柱外壁设置外螺纹，用...

【专利技术属性】
技术研发人员：王剑，何明洋，黄帅，
申请(专利权)人：西华大学，
类型：发明
国别省市：四川,51