陶瓷生片制造工序用剥离膜制造技术

本发明专利技术提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)，其具备基材(11)、及设置在基材(11)的单侧的剥离剂层(12)，其中，剥离剂层(12)由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有总酸值为0.030～0.154mg KOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂、及聚有机硅氧烷。所述陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)显示良好的剥离性，并且可抑制卷曲的产生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】陶瓷生片制造工序用剥离膜
本专利技术涉及一种在制造陶瓷生片(Ceramicgreensheet)的工序中所使用的剥离膜。
技术介绍
以往以来，在制造叠层陶瓷电容器或多层陶瓷基板之类的叠层陶瓷制品时，使陶瓷生片成形，层叠多片所得到的陶瓷生片而进行烧成。陶瓷生片通过将含有钛酸钡或氧化钛等陶瓷材料的陶瓷浆料涂布于剥离膜上而成形。对于剥离膜而言，要求如下剥离性，即能够在不产生裂纹、断裂等的情况下，以适当的剥离力从在该剥离膜上成形的薄的陶瓷生片上剥离该剥离膜。剥离膜通常由基材及设置在基材的一个面上的剥离剂层构成。作为剥离剂层，存在以紫外线固化性化合物为材料的剥离剂层。该剥离剂层通过将含有紫外线固化性化合物的剥离剂组合物涂布于基材上，通过紫外线照射使该组合物固化而形成。然而，在紫外线固化性化合物中存在因氧而导致固化受阻的种类。使用这样的紫外线固化性化合物时，存在剥离剂层的与基材相反侧的一面(与陶瓷浆料、陶瓷生片相接的面；以下，有时称为“剥离面”)附近的固化不充分的情况。若剥离剂层的固化不充分，则剥离剂层的弹性降低。结果导致从在剥离面上成形的陶瓷生片上剥离剥离片时所需的剥离力变强。另一方面，专利文献1及专利文献2中，公开了一种剥离膜，其中，使用作为热固化性化合物的一种的三聚氰胺树脂来形成剥离剂层。该剥离膜中，将包含三聚氰胺树脂的剥离剂组合物涂布于基材上，进行加热，由此形成含有三聚氰胺树脂的固化物的剥离剂层。在这种剥离剂层中，不产生使用紫外线固化性化合物时特有的上述问题。另外，通常“三聚氰胺树脂”是指：包含多种三聚氰胺化合物、及由一种或多种三聚氰胺化合物缩合而成的多核体中的至少一者的混合物。本说明书中，“三聚氰胺树脂”这一词是指上述混合物或一种三聚氰胺化合物的聚集体。进一步，本说明书中，将该三聚氰胺树脂固化而成的物质称为“三聚氰胺固化物”。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11-300896号公报专利文献2：日本特开2006-7568号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题然而，在如专利文献1及专利文献2中所记载的剥离膜中，在由三聚氰胺树脂形成剥离剂层的阶段，容易产生卷曲。尤其，在高温条件下制造剥离剂层时，可促进卷曲的产生。产生这种卷曲的剥离膜的处理性差，并且不适合陶瓷生片的制造。本专利技术是鉴于这种实际情况而完成的，其目的在于，提供一种显示良好的剥离性、并且卷曲的产生得到抑制的陶瓷生片制造工序用剥离膜。解决技术问题的技术手段为了实现上述目的，首先，本专利技术提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜，其具备基材及设置在所述基材的单侧的剥离剂层，该陶瓷生片制造工序用剥离膜的特征在于，所述剥离剂层由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有：总酸值为0.030～0.154mgKOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂；以及聚有机硅氧烷(专利技术1)。根据上述专利技术(专利技术1)，剥离剂层由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有：重均分子量为1000～10000、总酸值为0.030～0.154mgKOH/g的三聚氰胺树脂；以及聚有机硅氧烷，由此显示优异的剥离性，并且可抑制卷曲的产生。上述专利技术(专利技术1)中，所述三聚氰胺树脂优选含有由下述通式(a)表示的化合物、或由两个以上的所述化合物缩合而成的多核体(专利技术2)。[化学式1]式中，X表示-H、-CH2-OH或-CH2-O-R，任选各自相同或不同。R表示碳原子数为1～8的烷基，任选各自相同或不同。至少一个X为-CH2-OH。上述专利技术(专利技术1、2)中，所述聚有机硅氧烷优选在一个分子中具有至少一个羟基(专利技术3)。上述专利技术(专利技术1～3)中，所述聚有机硅氧烷优选在一个分子中具有至少一个选自聚酯基及聚醚基中的一种以上的有机基团(专利技术4)。上述专利技术(专利技术1～4)中，所述聚有机硅氧烷的重均分子量优选为1000～300000(专利技术5)。上述专利技术(专利技术1～5)中，所述剥离剂组合物优选进一步含有酸催化剂(专利技术6)。上述专利技术(专利技术1～6)中，所述剥离剂层的厚度优选为0.1～3μm(专利技术7)。上述专利技术(专利技术1～7)中，所述陶瓷生片制造工序用剥离膜优选进一步具备位于所述基材与所述剥离剂层之间的树脂层(专利技术8)。上述专利技术(专利技术8)中，所述树脂层优选由组合物形成，该组合物含有：总酸值为0.030～0.154mgKOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂(专利技术9)。专利技术效果本专利技术的陶瓷生片制造工序用剥离膜显示良好的剥离性，并且可抑制卷曲的产生。附图说明图1为本专利技术的一个实施方式的陶瓷生片制造工序用剥离膜的剖面图。图2为本专利技术的另一个实施方式的陶瓷生片制造工序用剥离膜的剖面图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式进行说明。[陶瓷生片制造工序用剥离膜]如图1所示，第一实施方式的陶瓷生片制造工序用剥离膜1A(以下，有时简称为“剥离膜1A”)通过具备基材11及叠层于基材11的一个面(图1中为其上表面)的剥离剂层12而构成。此外，如图2所示，第二实施方式的陶瓷生片制造工序用剥离膜1B(以下，有时简称为“剥离膜1B”)通过具备基材11、叠层于基材11的一个面(图2中为其上表面)的树脂层13、及叠层于树脂层13的与基材11相反侧的一面(图2中为其上表面)的剥离剂层12而构成。1.剥离剂层剥离膜1A、剥离膜1B的剥离剂层12由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有：总酸值为0.030～0.154mgKOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂；以及聚有机硅氧烷。剥离膜1A、剥离膜1B中，剥离剂层12由含有聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成。因此，剥离面的表面自由能适当地降低。而且，剥离剂层12由含有三聚氰胺树脂的剥离剂组合物形成。因此，通过加热能够使剥离剂组合物充分固化，其结果，所形成的剥离剂层12具有充分的弹性。由此，将剥离膜1A、剥离膜1B从在剥离膜1A、剥离膜1B的剥离面上成形的陶瓷生片上剥离时的剥离力适当地减少，发挥良好的剥离性。此外，通常在三聚氰胺树脂进行交联反应时，根据该反应中所利用的官能基的种类使醇(R-OH)、醚(R-O-R)或水脱离。这些已脱离的成分在形成剥离剂层12时从剥离剂层12被排出。特别是在高温条件下进行交联反应时，可促进该排出。由于这种排出，认为有可能产生剥离剂层12的体积收缩，且随之产生剥离膜的卷曲。另一方面，用于形成剥离膜1A、剥离膜1B的剥离剂层12的剥离剂组合物中，三聚氰胺树脂的总酸值为0.030～0.154mgKOH/g。这表示该三聚氰胺树脂中的羟甲基(-CH2-OH)的量相对较多。这种三聚氰胺树脂进行缩合反应时，作为脱离的成分，水的比率变大。由此，与由羟甲基的含有量较少的三聚氰胺树脂形成的剥离剂层相比，由该三聚氰胺树脂形成的剥离剂层12的体积收缩程度小，可抑制剥离膜1A、剥离膜1B中的卷曲的产生。进一步，用于形成剥离膜1A、剥离膜1B的剥离剂层12的剥离剂组合物中，三聚氰胺树脂的重均分子量为1000～10000。这表示该三聚氰胺树脂含有较多的三聚氰胺化合物的多核体。与单核体相比，三聚氰胺化合物的多核体具有进行了一定程度的缩合反应的化学结构。通过使这种包含含有较多三聚氰胺化合物的多核体的三聚氰胺树脂的剥离剂组合物固化，随着脱离成分的量减少，体积收缩也变小。从这本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷生片制造工序用剥离膜，其具备基材及设置在所述基材的单侧的剥离剂层，其特征在于，所述剥离剂层由剥离剂组合物形成，所述剥离剂组合物含有：总酸值为0.030～0.154mgKOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂；以及聚有机硅氧烷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.23 JP 2015-1256261.一种陶瓷生片制造工序用剥离膜，其具备基材及设置在所述基材的单侧的剥离剂层，其特征在于，所述剥离剂层由剥离剂组合物形成，所述剥离剂组合物含有：总酸值为0.030～0.154mgKOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂；以及聚有机硅氧烷。2.根据权利要求1所述的陶瓷生片制造工序用剥离膜，其特征在于，所述三聚氰胺树脂含有由下述通式(a)表示的化合物、或由两个以上的所述化合物缩合而成的多核体，[化学式1]式中，X表示-H、-CH2-OH或-CH2-O-R，任选各自相同或不同；R表示碳原子数为1～8的烷基，任选各自相同或不同；至少一个X为-CH2-OH。3.根据权利要求1或2所述的陶瓷生片制造工序用剥离膜，其特征在于，所述聚有机硅氧烷在一个分子中具有至少一个羟基。4.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：森裕一，佐藤庆一，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP