高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图分析与校正方法技术

本发明专利技术属于光谱技术领域，特别涉及的一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法。该方法包括如下步骤：步骤一，获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图；步骤二，对获得的二维谱图进行判读；步骤三，反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量；步骤四，对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正。本发明专利技术方法能够实现二维偏差谱图的定性分析及定量计算，同时能够实现二维偏差谱图的校正工作，对二维偏差谱图进行分析并校正后，能够充分发挥中阶梯光栅光谱仪高光谱分辨率、高灵敏度、低检出限等优势，同时该校正方法仅需对装调工装做微小改变，具有操作简单、易于实现等优点。

【技术实现步骤摘要】
高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图分析与校正方法
本专利技术属于光谱
，特别涉及的一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法。
技术介绍
近年来，原子发射光谱仪正不断向全谱直读、智能化、小型化、低分析成本的方向发展。分光系统作为原子发射光谱仪的核心部分，直接决定整体仪器的性能水平。高分辨率中阶梯光栅光谱仪具有波段范围宽、分辨率高、灵敏度高、全谱瞬态测量等优点，已成为原子发射光谱分析技术研究的重点。中阶梯光栅光谱仪是一类以低色散棱镜与高色散中阶梯光栅交叉色散的全谱光谱仪，它采用棱镜纵向色散，配合中阶梯光栅高衍射级次的横向色散，在像面上形成二维谱图，并以面阵探测器采集二维谱图。分光模块中的关键分光器件--中阶梯光栅的刻线密度一般为10g/mm～100g/mm，衍射级次为几十级至上百级，闪耀角为60°-80°，制作工艺相当复杂。目前，中阶梯光栅尚依赖于进口，购买成本相对较高。中阶梯光栅光谱仪的二维谱图信息主要取决于色散系统，若交叉色散系统中光学元件的技术参数出现偏差，将对光谱仪后端二维谱图信息产生严重影响，造成二维谱图在探测器像面上的位置出现偏差，导致测试元素对应波长本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：步骤一，获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图；利用中阶梯光栅光谱仪分别采集线性光源和连续光源的谱图，得到中阶梯光栅光谱仪分立光谱和连续光谱的二维谱图；步骤二，对获得的二维谱图进行判读；分别判读分立光谱和连续光谱的二维谱图，确定二维谱图在棱镜色散方向和中阶梯光栅色散方向是否存在偏差；步骤三，反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量；步骤四，对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正；根据反演计算得到的棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量，确定棱镜和/或中阶梯光栅的实际工作状态，仿真并设计棱镜和/或中...

【技术特征摘要】
1.一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：步骤一，获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图；利用中阶梯光栅光谱仪分别采集线性光源和连续光源的谱图，得到中阶梯光栅光谱仪分立光谱和连续光谱的二维谱图；步骤二，对获得的二维谱图进行判读；分别判读分立光谱和连续光谱的二维谱图，确定二维谱图在棱镜色散方向和中阶梯光栅色散方向是否存在偏差；步骤三，反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量；步骤四，对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正；根据反演计算得到的棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量，确定棱镜和/或中阶梯光栅的实际工作状态，仿真并设计棱镜和/或中阶梯光栅的装调工装；根据工装对中阶梯光栅光谱仪重新装调，从而实现二维偏差谱图的校正。2.根据权利要求1所述的高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法，其特征在于：所述步骤一中，采用汞灯作为线性光源，采用氘灯作为连续光源。3.根据权利要求1所述的高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法，其特征在于：所述步骤二中，判读分立光谱的二维谱图，对分立光谱参考波长的相对位置进行计算分析，即可确定二维谱图在棱镜色散方向是否存在偏差；具体过程如...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宏伟，曹海霞，何淼，赵英飞，
申请(专利权)人：钢研纳克检测技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11