一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法技术

本发明专利技术公开了一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法，属于电子技术领域。本发明专利技术不需要建造大型的微波暗室，大大节省了测试成本，与传统RCS外推技术相比，本发明专利技术采用了近场MIMO阵列成像技术，显著减少了数据采集时间，提高了测试速度，适用范围更广。

【技术实现步骤摘要】
一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法
本专利技术属于电子
，具体涉及一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法。
技术介绍
随着电子战的迅猛发展，隐身武器的大规模使用成为现代战争的一个显著特征。隐身技术能有效减小雷达发现目标的机率，成为增强突击能力或保护自身的重要手段。目标的隐身性能主要取决于其RCS(雷达散射截面积)的大小，因而各种武器出厂之前都需要进行RCS测试，传统远场RCS测试技术要求满足远场测试条件，一般需要建造大型的微波暗室，测试复杂，造价昂贵。雷达散射截面(RCS)测试对隐身技术和目标特性研究意义重大。为了满足远场条件，通常是在室外建造巨大的测试场地，或在室内利用抛物面反射器将球面波转化成平面波，两者均复杂昂贵。因而，国内外许多研究尝试利用近场散射数据来获得目标远场RCS。下面介绍一种基于逆合成孔径雷达(ISAR)转台成像算法的近场RCS外推方法。系统的模型如图1所示，o是转台中心，θ是转台相对于初始位置的转角。目标相对于转台中心的位置(ρ,φ)，目标反射率系数(即目标像)为ψ(ρ,φ)，随着转台绕z轴转动。发射天线与接收天线放置在距离目标R0的位置，由于两天线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：获得天线方向图参数；步骤2：建立坐标系，确定MIMO阵列接收天线和发射天线的坐标位置；步骤3：控制MIMO阵列进行二维电子扫描以采集测试数据，记录接收天线和发射天线在每个采样点的位置(xTx,0,zTx)、(xRx,0,zRx)以及采样数据s′(xTx,xRx,zTx,zRx,k)；步骤4：对采样数据s′(xTx,xRx,zTx,zRx,k)进行散射数据校准以及方向图补偿处理得到新的采样数据s(xTx,xRx,zTx,zRx,k)；步骤5：通过二维MIMO获取目标近场散射图像的原理对步骤4中的采样数据s(xTx,xRx...

【技术特征摘要】
1.一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：获得天线方向图参数；步骤2：建立坐标系，确定MIMO阵列接收天线和发射天线的坐标位置；步骤3：控制MIMO阵列进行二维电子扫描以采集测试数据，记录接收天线和发射天线在每个采样点的位置(xTx,0,zTx)、(xRx,0,zRx)以及采样数据s′(xTx,xRx,zTx,zRx,k)；步骤4：对采样数据s′(xT...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡大海，常庆功，杜刘革，王亚海，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十一研究所，
类型：发明
国别省市：山东,37