一种行走式打磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种行走式打磨装置，包括一基架和一打磨终端，所述的打磨终端通过一行走机构设置在基架上。由于本实用新型专利技术中打磨终端通过行走机构设置在基架上，因此可以根据需要方便、灵活的移动打磨终端至适宜的位置，方便使用。

【技术实现步骤摘要】
一种行走式打磨装置
本技术涉及一种打磨装置。
技术介绍
在车身修复、木制品和石材的加工等工业活动中经常需要对产品进行打磨、抛光等操作，由于打磨、抛光作业中会产生大量的粉尘，因此，目前通过利用与吸尘主机相连通得到打磨终端来进行打磨和抛光作业并同时吸走由此产生的粉尘，现有的打磨终端通常有立式和挂式两种形式，立式的打磨终端通常直接放置在地面上，体积较大，会占用较大的工作空间，而且也不易进行移动，挂式的打磨终端则通常悬挂在天花板上或固定在墙壁上，体积较小，不会占用地面空间，因此使用较为广泛，然而，现有的挂式的打磨终端依然无法根据使用需要移动位置，不方便使用。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术的目的在于提供一种能够根据需要灵活移动位置、便于使用的行走式打磨装置。本技术为解决其技术问题而采用的技术方案是：一种行走式打磨装置，包括一基架和一打磨终端，所述的打磨终端通过一行走机构设置在基架上。优选的，所述的行走机构为一XY双轴行走机构。优选的，所述的行走机构包括可前后滑动设置在基架上的一横梁和可左右滑动设置在横梁上的一滑动座，所述的打磨终端吊挂在该滑动座上。优选的，所述的横梁通过一第一滚轮滑轨机构可前本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种行走式打磨装置，其特征在于：包括一基架和一打磨终端（20），所述的打磨终端（20）通过一行走机构设置在基架上。

【技术特征摘要】
1.一种行走式打磨装置，其特征在于：包括一基架和一打磨终端（20），所述的打磨终端（20）通过一行走机构设置在基架上。2.根据权利要求1所述的一种行走式打磨装置，其特征在于：所述的行走机构为一XY双轴行走机构。3.根据权利要求2所述的一种行走式打磨装置，其特征在于：所述的行走机构包括可前后滑动设置在基架上的一横梁（11）和可左右滑动设置在横梁（11）上的一滑动座（12），所述的打磨终端（20）吊挂在该滑动座（12）上。4.根据权利要求3所述的一种行走式打磨装置，其特征在于：所述的横梁（11）通过一第一滚轮滑轨机构可前后滑动的设置在基架上，所述的滑动座（12）通过一第二滚轮滑轨机构可左右滑动的设置在横梁（11）上。5.根据权利要求3所述的一种行走式打磨装置，其特征在于：所述的横梁（11）上枢设有至少一横向的第一限位轮（331）和至少一横向的第二限位轮（332），所述的第一限位轮（331）与基架的一左侧壁抵接同时第二限位轮（332）与基架的一右侧壁抵接以限制横梁（11）相对基架的左右...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘长华，肖同桂，张四军，陈正佳，黄小波，钟清林，欧德胜，何进爵，赖健，钟如勤，李红，潘碧容，赵文耀，王伟，陈健，陈武明，李永振，黄关山，周晓红，李芳，刘敏，綦镜，张庆，曾巍，
申请(专利权)人：中山市迪米尔机电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44