一种靶材真空清洗隔离装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种靶材真空清洗隔离装置，包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，N极磁铁位于非金属件的上方，该N极磁铁与气动元件连接，S极磁铁位于开孔的下方，S极磁铁与挡板的上端相接，下支撑结构为一轴承支撑件，轴承支撑件的内腔为锥形腔，挡板的下端设有一连接轴，连接轴连接于轴承支撑件的内腔中。本实用新型专利技术可以保证在靶材清洗时不会污染工件，且也可以保证真空腔室的密封性。

【技术实现步骤摘要】
一种靶材真空清洗隔离装置
本技术涉及涂层
，特别涉及涂层生产中的一种靶材真空清洗隔离装置。
技术介绍
在涂层生产过程中，通常先抽真空，加热，再清洗靶材，再进行工件离子刻蚀，最后涂层。在清洗靶材时，被涂层的工件已经在设备里面，在真空状态及480度温度下，在靶材表面形成电弧，去除靶材表面一层组织。由于现有的靶材都是敞开式的，靶材前面没有任何遮挡。从而，在靶材清洗的时候，靶材挥发产生的物质直接会接触到工件，虽然靶材清洗干净了，但是却产生了工件被靶材清洗所产生的废料污染的风险。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术的目的在于提供一种靶材真空清洗隔离装置，可以保证在靶材清洗时不会污染工件。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现：一种靶材真空清洗隔离装置，包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，所述挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，所述上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，所述N极磁铁位于非金属件的上方，该N本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种靶材真空清洗隔离装置，其特征在于：包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，所述挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，所述上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，所述N极磁铁位于非金属件的上方，该N极磁铁与气动元件连接，所述S极磁铁位于开孔的下方 ，该S极磁铁与所述挡板的上端相接，所述下支撑结构为一轴承支撑件，该轴承支撑件的内腔为锥形腔，所述挡板的下端设有一连接轴，该连接轴连接于轴承支撑件的内腔中。

【技术特征摘要】
1.一种靶材真空清洗隔离装置，其特征在于：包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，所述挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，所述上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，所述N极磁铁位于非金属件的上方，该N极磁铁与气动元件...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建明，金章斌，邓晓良，
申请(专利权)人：苏州吉恒纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32