粒子射线照射设备制造技术

本发明专利技术的粒子射线照射设备(100)中，控制部(2)在最初对准时，将摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息作为基准位置的位置信息存储到存储部(3)中，基于存储在存储部(3)中的基准位置的位置信息，并根据重新对准时由摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息来获取位移量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粒子射线照射设备
本专利技术涉及一种能高精度地对粒子射线照射装置所使用的电磁体的位置和姿态等进行控制的粒子射线照射设备。
技术介绍
以往的粒子射线照射装置中，同步加速器等加速器与治疗室通常存在于同一平面上。近年来，伴随着粒子射线照射装置的大型化，外界气温的季节变动、地面下沉等地壳运动引起的建筑物的变形会导致对准变差，照射射束达不到规定的性能，因此，作为对策，需要在粒子射线照射装置的使用过程中，按照季节变更运行参数，或定期实施电磁体等的位置和姿态等的重新调整。在安装粒子射线照射装置时，作为对准的方法，公开了预先计算与成为建筑物内或装置上的基准点、即设定位置的偏移量来进行对准(例如参照专利文献1和专利文献2)。另一方面，在与医院等相邻的狭小的土地上建造粒子射线照射设施的情况下，倾向于采用将加速器和治疗室配置成上下关系的结构等(例如参照专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2006-344466号公报(0024段、图2)专利文献2：日本专利特开2006-302818号公报(0025段、图2)专利文献3：日本专利特开2011-182987号公报(0032段、图1)专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粒子射线照射设备，其特征在于，包括：第一电磁体，该第一电磁体设置在高能射束照射系统线的上游侧；第二电磁体，该第二电磁体设置在所述高能射束照射系统线的下游侧；位置信息获取单元，该位置信息获取单元获取所述第一电磁体与所述第二电磁体的位置信息；存储部，该存储部预先存储最初对准时的所述第一电磁体与所述第二电磁体的位置信息来作为基准位置信息；调整机构，该调整机构对所述第一电磁体以及所述第二电磁体的位置和姿态进行调整；以及控制部，该控制部基于存储在所述存储部中的基准位置信息，根据在重新对准时由所述位置信息获取单元获取到的所述第一电磁体和所述第二电磁体的位置信息来计算从最初对准时到重新对准时的所述第一电...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种粒子射线照射设备，其特征在于，包括：第一电磁体，该第一电磁体设置在高能射束照射系统线的上游侧；第二电磁体，该第二电磁体设置在所述高能射束照射系统线的下游侧；位置信息获取单元，该位置信息获取单元获取所述第一电磁体与所述第二电磁体的位置信息；存储部，该存储部预先存储最初对准时的所述第一电磁体与所述第二电磁体的位置信息来作为基准位置信息；调整机构，该调整机构对所述第一电磁体以及所述第二电磁体的位置和姿态进行调整；以及控制部，该控制部基于存储在所述存储部中的基准位置信息，根据在重新对准时由所述位置信息获取单元获取到的所述第一电磁体和所述第二电磁体的位置信息来计算从最初对准时到重新对准时的所述第一电磁体以及所述第二电磁体的位置和姿态的位移量，根据所述位移量并通过所述调整机构对所述第一电磁体和所述第二电磁体的位置和姿态进行调整控制。2.如权利要求1所述的粒子射线照射设备，其特征在于，所述控制部通过对所述第一电磁体或所述第二电磁体的任一方的位置和姿态进行调整，来控制所述第一电磁体与所述第二电磁体的相对位置和姿态。3.如权利要求1或2所述的粒子射线照射设备，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：大谷利宏，岩田高明，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP