喷嘴和积层形成装置制造方法及图纸

根据本发明专利技术的一个实施例的喷嘴包括磁场生成部(302)和主体(301)。所述磁场生成部被配置为生成磁场。所述主体被配置为使得，由所述磁场生成部在其之内生成磁场，并且包括被配置为使得允许所述磁场中旋转的粉末从其喷出的开口部(313)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喷嘴和积层形成装置
本专利技术的实施例涉及一种喷嘴和积层形成装置。
技术介绍
在相关领域中，以添加方式形成积层形成的对象的积层形成装置是已知的。积层形成装置通过从喷嘴供应材料粉末并且与激光同时地辐照粉末来熔融粉末形成材料层，并且该层被堆叠以形成积层形成的对象。引文列表专利文献专利文献1：JP11-333584A
技术实现思路
要由本专利技术解决的问题在这种装置中，例如，以更可靠并且更高效的方式供应材料是有意义的。解决问题的装置根据一个实施例，一种喷嘴包括磁场生成部和主体。所述磁场生成部被配置为生成磁场。所述主体被配置为使得通过磁场生成部在内部生成磁场，并且所述主体包括被配置为使得从其喷出在磁场中旋转的粉末的开口部。附图说明图1是示意性地图示了根据第一实施例的积层形成装置的视图；图2是示意性地图示了根据第一实施例的由积层形成进行成形处理的流程的范例的视图；图3是图示第一实施例的喷嘴、光学装置和目标的剖视图；图4是示意性地图示沿着图3中的F4-F4线的第一实施例的第一主体和供应部的剖视图；图5是图示根据第二实施例的喷嘴、光学装置和目标的剖视图；并且图6是图示根据第三实施例的喷嘴、光学装置和目本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷嘴，包括：磁场生成部，其被配置为生成磁场；以及主体，其被配置使得所述磁场由所述磁场生成部在内部生成，并且所述主体包括开口部，所述开口部被配置使得在所述磁场中旋转的粉末从其被喷出。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.17 JP 2014-1893051.一种喷嘴，包括：磁场生成部，其被配置为生成磁场；以及主体，其被配置使得所述磁场由所述磁场生成部在内部生成，并且所述主体包括开口部，所述开口部被配置使得在所述磁场中旋转的粉末从其被喷出。2.根据权利要求1所述的喷嘴，还包括：供应部，其被配置为向所述粉末施加关于所述磁场的中心轴的圆周方向上的速度并且将所述粉末供应到所述开口部的内部。3.根据权利要求2所述的喷嘴，其中，所述磁场生成部被配置为生成朝向所述开口部的端部增加的磁场，所述粉末从所述开口部的端部被喷出。4.根据权利要求3所述的喷嘴，其中，所述磁场生成部包括叠加在彼此之上的多个线圈，并且叠加的所述线圈的数目朝向所述开口部的所述端部增加。5.根据权利要求3所述的喷嘴，其中，所述磁场生成部包括每长度匝数朝向所述开口部的...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘善盈，大野博司，中野秀士，小林晃太朗，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本,JP