显示设备制造技术

技术编号:16040375 阅读:44 留言:0更新日期:2017-08-19 22:29
本发明专利技术公开一种显示设备。其中显示设备包括基板、光吸收层、光学匹配层、第一透明电极、发光层以及第二透明电极。光吸收层位于基板上,而光学匹配层位于光吸收层上。第一透明电极位于光学匹配层上,发光层位于第一透明电极上,而第二透明电极位于发光层上。通过调整光学匹配层与光吸收层的折射率,可同时控制出光亮度及环境光反射率。

【技术实现步骤摘要】
显示设备
本专利技术涉及一种显示设备,且特别是涉及一种具有高环境对比的显示设备。
技术介绍
发光二极管显示器是一种利用发光材料自发光的特性来达到显示效果的显示组件,其发光结构主要是由一对电极以及发光层所构成。当电流通过阳极及阴极经过发光层时,电子和空穴在发光层内结合而产生激子,便可依发光层的材料特性而产生不同颜色的光线。对于显示器而言,对比度是决定其显示质量的因素之一。然而,较强的环境光将导致显示器的环境对比低落,而影响显示器的显示质量。已知的发光二极管显示器通过增加一层光吸收层来吸收环境光。然而,此作法将导致发光层发出的部分光线也被光吸收层所吸收,造成出光亮度不足。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示设备,其在控制环境光反射的情况下,仍可提供高出光亮度与高环境对比。为达上述目的,本专利技术一实施例提供一种显示设备,包括基板、光吸收层、光学匹配层、第一透明电极、发光层以及第二透明电极。光吸收层位于基板上,而光学匹配层位于光吸收层上。第一透明电极位于光学匹配层上,发光层位于第一透明电极上,而第二透明电极位于发光层上。本专利技术一实施例另提供一种显示设备,包括基板、光吸收层、半反本文档来自技高网...
显示设备

【技术保护点】
一种显示设备,其特征在于,包括:基板;光吸收层,位于所述基板上;光学匹配层,位于所述光吸收层上;第一透明电极,位于所述光学匹配层上;发光层,位于所述第一透明电极上;以及第二透明电极,位于所述发光层上。

【技术特征摘要】
2016.10.03 TW 105131876;2015.11.30 US 14/954,9331.一种显示设备,其特征在于,包括:基板;光吸收层,位于所述基板上;光学匹配层,位于所述光吸收层上;第一透明电极,位于所述光学匹配层上;发光层,位于所述第一透明电极上;以及第二透明电极,位于所述发光层上。2.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,所述光吸收层的折射率与所述光学匹配层的折射率满足:0.008<[(n1-n2)/(n1+n2)]^2<0.8,其中n1为所述光吸收层的折射率,n2为所述光学匹配层的折射率。3.如权利要求2所述的显示设备,其特征在于,所述光吸收层的折射率小于所述光学匹配层的折射率。4.如权利要求3所述的显示设备,其特征在于,所述光学匹配层的折射率大于或等于1.8。5.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,还包括半反穿层,且所述光学匹配层位于所述半反穿层与所述光吸收层之间,其中所述半反穿层的穿透率介于40%~80%之间。6.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,还包括抗反射层位于所述第二透明电极上。7.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,所述光吸收层包括由不同膜层交互堆栈的多层结构。8.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,其中所述光学匹配层包括由不同膜层交互堆栈的多层结构。9.一种显示设备,其特征在于,包括:基板;光吸收层,位于所述基板上;半反穿电极,位于所述光吸收层上;发光层,位于所述半反穿电极上;以及透明电极,位于所述发光层上,其中所述半反穿电极的穿透率介于40%~80%之间。10.如权利要求9所述的显示设备,其特征在于,所述半反穿电极的折射率介于0.1~1.4之间。11.如权利要求9所述的显示设备,其特征在于,还包括光学匹配层位于所述半反穿电极和所述光吸收层之间,其中所述光学匹配层的折...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宜修李国昶吴诗聪谭冠军朱瑞冬
申请(专利权)人:财团法人工业技术研究院
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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