显示设备制造技术

本发明专利技术公开了一种显示设备。所述显示设备包括：基底；发光二极管，位于基底上；像素分离层，围绕发光二极管；光分散层，位于发光二极管和像素分离层上。

【技术实现步骤摘要】
本申请要求于2015年8月31日提交的第10-2015-0123197号韩国专利申请的优先权以及从该申请产生的所有权益，该申请的全部内容通过引用包含于此。
一个或更多个示例性实施例涉及显示设备，更具体地讲，涉及包括发光二极管的显示设备。
技术介绍
发光二极管(“LED”)是通过利用化合物半导体特性将电信号转换为光(诸如红外线、可见光线等)的形式的装置。LED广泛用于家用电器、遥控器、电子显示板和各种自动化装置。随着LED应用于广泛范围的电子装置中，LED的使用领域正在从小型手持式电子装置向大型显示装置不断扩大。
技术实现思路
利用发光二极管(“LED”)的显示设备通常具有小的发光区域，并可能由此使显示质量劣化。一个或更多个示例性实施例涉及具有允许包括具有小的发射部分的发光二极管(“LED”)的显示设备的发射区域被扩大的结构的显示设备。根据示例性实施例，显示设备包括：基底；发光二极管，位于基底上；像素分离层，围绕发光二极管；光分散层，布置在发光二极管和像素分离层上。在示例性实施例中，显示设备还可以包括位于发光二极管和光分散层之间的无机层，其中，无机层覆盖发光二极管。在示例性实施例中，所述显示设备还可以包括布置在无机层和光分散层之间的透镜，其中，透镜在发光二极管和像素分离层之间覆盖发光二极管。在示例性实施例中，透镜的折射率可以低于发光二极管的折射率并且可以高于空气的折射率。在示例性实施例中，像素分离层可以具有比透镜的高度低的高度，并且可以具有凹的上表面。在示例性实施例中，像素分离层可以具有比透镜的高度低的高度，并且可以具有凸的上表面。在示例性实施例中，所述显示设备还可以包括位于发光二极管和像素分离层之间并且布置在光散射层之下的透镜，其中，透镜覆盖发光二极管。在示例性实施例中，透镜的折射率可以低于发光二极管的折射率并且可以高于空气的折射率。在示例性实施例中，像素分离层可以具有比透镜的高度低的高度，并且可以具有凸的上表面。在示例性实施例中，像素分离层可以具有比透镜的高度低的高度，并且可以具有凹的上表面。在示例性实施例中，像素分离层可以包括光反射材料。在示例性实施例中，像素分离层可以包括光散射材料。在示例性实施例中，像素分离层可以包括能够吸收至少一部分光的材料。在示例性实施例中，光分散层可以包括透明介质和在透明介质中的微粒。根据另一示例性实施例，制造显示设备的方法包括：在基底上设置发光二极管；在基底上设置像素分离层以围绕发光二极管；在发光二极管和像素分离层上设置光分散层。在示例性实施例中，所述方法还可以包括在设置像素分离层之前设置覆盖发光二极管的无机层。在示例性实施例中，所述方法还可以包括在设置光分散层之前在发光二极管和像素分离层之间设置覆盖发光二极管的透镜。在示例性实施例中，所述方法还可以包括在设置光分散层之前设置覆盖发光二极管的透镜，设置光分散层的步骤可以包括在透镜和像素分离层上设置光分散层。在示例性实施例中，所述方法还可以包括在设置像素分离层之前设置覆盖发光二极管的透镜，设置像素分离层的步骤可以包括围绕透镜设置像素分离层。在示例性实施例中，所述方法还可以包括在设置透镜之前设置覆盖发光二极管的无机层，设置透镜的步骤可以包括在无机层上设置透镜。附图说明通过下面结合附图对示例性实施例的描述，这些和/或其他特征将变得清楚且更易于理解，在附图中：图1是根据示例性实施例的显示设备的平面图；图2A是沿图1中的线X-X'的像素的放大平面图；图2B是沿图1的线X-X'截取的剖视图；图2C是根据可替代的示例性实施例的显示设备的像素的放大平面图；图3是根据可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图4A和图4B是示出制造图3的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图5是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图6A至图6C是示出制造图5的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图7是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图8A至图8C是示出制造图7的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图9是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图10A至图10C是示出制造图9的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图11是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图12A至图12D是示出制造图11的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图13是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图；图14A至图14D是示出制造图13的显示设备的方法的示例性实施例的剖视图；图15是根据另一可替代的示例性实施例的沿显示设备的线X-X'截取的剖视图。具体实施方式现在将对示例性实施例做出详细参考，示例性实施例的示例在附图中示出，其中，同样的附图标记始终指示同样的元件。在这方面，给出的示例性实施例可以具有不同形式并且不应被解释为局限于在此阐述的描述。因此，下面仅通过参照附图描述示例性实施例以解释本描述的多个方面。“或”意指“和/或”。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关列出项的任意和所有组合。当诸如“……中的至少一个(种)”的表述在一列元件(要素)之后时，修饰整列元件(要素)而不是修饰该列中的个别元件(要素)。将理解的是，尽管在这里可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件，但这些组件不应被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在没有脱离这里的教导的情况下，下面讨论的第一“元件”、“组件”、“区域”、“层”或“部分”可以被称为第二元件、组件、区域、层或部分。如在这里使用的，除非上下文清楚地另有指示，否则单数形式的“一个(种)”和“所述(该)”也意在包括复数形式。还将理解的是，当在这里使用术语“包含”及其变型或者“包括”及其变型时，表示存在所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或添加一个或更多个其他特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。将理解的是，当层、区域或组件被称为“在”另一层、区域或组件“上”时，该层、区域或组件可以直接在所述另一元件上或者在它们之间可存在中间元件。相反，当元件被称为“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。这里使用的“大约”或“近似”包括所述值，并意味着：考虑到正在被谈及的测量以及与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的局限性)，在由本领域的普通技术人员确定的具体值的可接受偏差范围之内。例如，“大约”可以表示在一个或更多个标准偏差内，或者在所述值的±30％、±20％、±10％、±5％之内。除非另有定义，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与此公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非这里明确地如此限定，否则术语(诸如在常用词典中定义的术语)应被解释为具有与所述术语在相关领域和本公开的环境中的含义一致的含义，而不将以理想化或过于形式化的含义被解释。这里参照作为理想化的实施例的示意性图示的剖视图来描述示例性实施例。如此，将预计出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，这里描述的实施例不应被解释为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示设备，所述显示设备包括：基底；发光二极管，位于所述基底上；像素分离层，围绕所述发光二极管；以及光分散层，布置在所述发光二极管和所述像素分离层上。

【技术特征摘要】
2015.08.31 KR 10-2015-01231971.一种显示设备，所述显示设备包括：基底；发光二极管，位于所述基底上；像素分离层，围绕所述发光二极管；以及光分散层，布置在所述发光二极管和所述像素分离层上。2.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括：无机层，位于所述发光二极管和所述光分散层之间，其中，所述无机层覆盖所述发光二极管。3.根据权利要求2所述的显示设备，所述显示设备还包括：透镜，布置在所述无机层和所述光分散层之间，其中，所述透镜在所述发光二极管和所述像素分离层之间覆盖所述发光二极管。4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述透镜的折射率低于所述发光二极管的折射率并且高于空气的折射率。5.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述像素分离层具有比所述透镜的高度低的高度，并且具有凹的上表面。6.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述像素分离层具有比...

【专利技术属性】
技术研发人员：权载中，都允善，曹治乌，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR