悬臂装置、检查装置、分析表面的方法和微图案形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了形成微图案的方法、基板表面检查装置、用于原子力显微镜的悬臂装置、分析半导体基板的表面的方法、以及探针尖端。该形成微图案的方法包括在半导体基板上形成钉扎图案；在钉扎图案之间的间隔中形成中性图案层；以及通过使用原子力显微镜(AFM)检查引导层的表面，该引导层包括钉扎图案和中性图案层。

【技术实现步骤摘要】
悬臂装置、检查装置、分析表面的方法和微图案形成方法
实施方式涉及用于原子力显微镜的悬臂装置、包括其的基板表面检查装置、通过使用其分析半导体基板表面的方法、以及通过使用其形成微图案的方法。
技术介绍
随着半导体器件的集成度增大，在平面图中由每个单位单元占据的面积会减小。响应于单位单元的面积的这种减小，可以应用从几纳米到几十纳米范围的更小的纳米级临界尺寸(CD)的设计规则。
技术实现思路
实施方式可以通过提供形成微图案的方法来实现，该方法包括在半导体基板上形成钉扎图案；在钉扎图案之间的间隔中形成中性图案层；和通过使用原子力显微镜(AFM)检查引导层的表面，该引导层包括钉扎图案和中性图案层。实施方式可以通过提供基板表面检查装置来实现，该基板表面检查装置包括：能够容纳基板的支撑物；具有悬臂和探针尖端的测量单元，探针尖端在悬臂端部并且能够接触基板；驱动单元，能够改变基板和探针尖端的相对位置；光源单元，能够辐照光到悬臂上；传感器，能够由被悬臂反射的光获得基板表面的信息；和确定单元，由被传感器感测的基板表面的信息确定基板的表面是否正常，其中探针尖端包括具有用聚合物改性的表面的探针尖端基底。实施方式可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板表面检查装置，包括：能够容纳基板的支撑物；具有悬臂和探针尖端的测量单元，所述探针尖端在所述悬臂的端部并且能够接触所述基板；能够改变所述基板和所述探针尖端的相对位置的驱动单元；能够辐照光到所述悬臂上的光源单元；能够由被所述悬臂反射的光而获得所述基板的表面的信息的传感器；和确定单元，由被所述传感器感测的所述基板的所述表面的所述信息而确定所述基板的所述表面是否正常，其中所述探针尖端包括具有用聚合物改性的表面的探针尖端基底。

【技术特征摘要】
2016.01.26 KR 10-2016-00094811.一种基板表面检查装置，包括：能够容纳基板的支撑物；具有悬臂和探针尖端的测量单元，所述探针尖端在所述悬臂的端部并且能够接触所述基板；能够改变所述基板和所述探针尖端的相对位置的驱动单元；能够辐照光到所述悬臂上的光源单元；能够由被所述悬臂反射的光而获得所述基板的表面的信息的传感器；和确定单元，由被所述传感器感测的所述基板的所述表面的所述信息而确定所述基板的所述表面是否正常，其中所述探针尖端包括具有用聚合物改性的表面的探针尖端基底。2.如权利要求1所述的基板表面检查装置，其中所述确定单元配置为计算所述基板的所述表面与所述探针尖端之间的粘附功并通过比较所获得的粘附功与参考值来确定所述基板的所述表面是否正常。3.如权利要求2所述的基板表面检查装置，其中：所述粘附功由所述基板的所述表面与所述探针尖端之间的表面能计算，和所述表面能通过所述探针尖端与所述基板的所述表面之间的相互作用被确定。4.如权利要求3所述的基板表面检查装置，其中所述基板是在其表面上具有钉扎图案和中性图案层的半导体基板。5.如权利要求1所述的基板表面检查装置，其中所述探针尖端通过至少部分地涂覆所述聚合物到所述探针尖端基底上而被改性。6.如权利要求1所述的基板表面检查装置，其中：所述聚合物经由插入的连接体键合到所述探针尖端基底，和所述连接体通过酯基或醚基连接到所述聚合物。7.如权利要求1所述的基板表面检查装置，其中：所述聚合物是双嵌段共聚物，和所述双嵌段共聚物的在对所述探针尖端的键合侧的嵌段具有恒定长度。8.如权利要求1所述的基板表面检查装置，其中：两个均聚物键合到所述探针尖端，第一均聚物是亲水性的，所述第一均聚物是所述两个均聚物中的一个，和第二均聚物是疏水性的，所述第二均聚物是所述两个均聚物中的另一个。9.一种用于原子力显微镜(AFM)的悬臂装置，所述悬臂装置包括：支承构架；固定到所述支承构架的悬臂；和提供到所述悬臂的端部的探针尖端，其中所述探针尖端具有探针尖端基底，所述探针尖端基底具有至少部分地用聚合物改性的表面。10.一种用于原子力显微镜(AFM)的探针尖端，所述探针尖端包括：探针尖端基底；和在所述探针尖端基底的表面的至少一部分上的聚合物。11.如权利要求10所述的探针尖端，其中所述探针尖端通...

【专利技术属性】
技术研发人员：李京美，朴贞珠，李时镛，金垠成，权承哲，金尚郁，崔荣珠，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，韩国科学技术院，
类型：发明
国别省市：韩国,KR