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本发明提供了形成微图案的方法、基板表面检查装置、用于原子力显微镜的悬臂装置、分析半导体基板的表面的方法、以及探针尖端。该形成微图案的方法包括在半导体基板上形成钉扎图案；在钉扎图案之间的间隔中形成中性图案层；以及通过使用原子力显微镜(AFM)...
该专利属于三星电子株式会社;韩国科学技术院所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社;韩国科学技术院授权不得商用。

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