溅镀旋转靶磁棒总成制造技术

本实用新型专利技术涉及溅镀旋转靶磁棒总成，包括磁座本体以及强磁，强磁粘附于磁座本体外，强磁由S极强磁和N极强磁间隔设置，相邻的S极强磁和N极强磁之间间隔一定距离。本实用新型专利技术的优点是：通过实际的上机测试，将S极强磁和N极强磁之间距离调整至22mm时，提高耗材利用率至70％，页减少了更换耗材的次数。

The rotating magnet sputtering target assembly

The utility model relates to a rotating magnet sputtering target assembly includes a magnetic body and magnetic and strong magnetic adhesion to the magnetic base of the body, by the strong magnetic magnetic S and N strong magnetic spacing between adjacent S set, strong magnetic and strong magnetic N at a certain distance. The utility model has the advantages that the S and the magnetic distance between the N pole and the strong magnetic field are adjusted to 22mm when the actual computer test is carried out, and the utilization ratio of the material is improved to 70%, and the number of the replacement consumables is reduced.

【技术实现步骤摘要】
溅镀旋转靶磁棒总成
本技术涉及溅镀旋转靶磁棒总成。
技术介绍
现有的圆柱型溅镀靶所使用的磁棒在磁座的排列上过于紧密,在使用上因磁力线的原因导致两端磁场较强,在靶材的两端产生消耗较多,总体上的消耗不均匀以致利用率下降下降10％～15％,故需重新设定磁场。因此，需要寻求一种新的技术方案来解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的是：提供一种使磁座上的磁场均匀的溅镀旋转靶磁棒总成。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：溅镀旋转靶磁棒总成，包括磁座本体以及强磁，强磁粘附于磁座本体外，强磁由S极强磁和N极强磁间隔设置，相邻的S极强磁和N极强磁之间间隔一定距离。相邻S极强磁和N极强磁之间间隔距离为20-25mm。优选的相邻S极强磁和N极强磁之间间隔距离为22mm粘附强磁的磁座本体安装于腔体内。腔体连接电源的正极，所述磁座本体连接电源的负极。相邻S极强磁和N极强磁之间还设有垫片。在上述技术方案中，跟现有技术相比所达到的技术效果是：通过实际的上机测试，将S极强磁和N极强磁之间距离调整至22mm时，提高耗材利用率至70％，页减少了更换耗材的次数，而垫片的设置，可增加强磁的工作点，从而增大了强磁的磁场强度本文档来自技高网...

【技术保护点】
溅镀旋转靶磁棒总成，其特征在于：包括磁座本体以及强磁，所述强磁粘附于磁座本体外，所述强磁由S极强磁和N极强磁间隔设置，相邻所述的S极强磁和N极强磁之间间隔一定距离。

【技术特征摘要】
1.溅镀旋转靶磁棒总成，其特征在于：包括磁座本体以及强磁，所述强磁粘附于磁座本体外，所述强磁由S极强磁和N极强磁间隔设置，相邻所述的S极强磁和N极强磁之间间隔一定距离。2.根据权利要求1所述的溅镀旋转靶磁棒总成，其特征在于：相邻所述S极强磁和N极强磁之间间隔距离为20-25mm。3.根据权利要求2所述的溅镀旋转靶磁棒总成，其特征在于：优选的相...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍凯，陈宥廷，
申请(专利权)人：苏州凡特真空溅镀科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32