电晕处理方法技术

本发明专利技术提供一种对薄膜的表面进行电晕处理的方法，该方法具备如下工序：在放电电极(2)与接地辊(3)之间产生电晕放电的工序：及在电晕放电，使薄膜(10)在接地辊(3)上移动的工序。放电电极(2)由电极罩(4)覆盖，电极罩(4)在接地辊(3)侧具有开口部(4c)，电极罩(4)的开口部(4C)朝向横向、斜上方或上方。

【技术实现步骤摘要】
电晕处理方法本申请为专利申请201280006992.8(申请日：2012年1月30日，专利技术创造名称：电晕处理方法)的分案申请。
本专利技术涉及一种对薄膜状的被电晕处理物的表面进行电晕处理的方法。
技术介绍
专利文献1、2中记载有通过对偏光膜等的表面进行电晕处理而使其表面活化的技术。电晕处理通常是如下进行的，即，通过将由高频电源供给的高频/高电压输出施加于电晕处理装置所具备的放电电极与接地辊之间来产生电晕放电，在该电晕放电下使偏光膜等薄膜(被电晕处理物)通过。然而，若长期进行电晕处理，则存在结晶状异物附着于薄膜(被电晕处理物)上而使成品率下降的问题。另一方面，已知因电晕放电而导致生成臭氧及氮氧化物(NOX)的情况(例如，参考专利文献3)。专利文献3中，通过使用具有规定结构的电晕处理装置来减少臭氧及氮氧化物(NOX)的产生量。然而，专利文献3中所记载的电晕装置在抑制上述长期进行电晕处理时的结晶状异物附着这一方面未必一定得到充分满足。另外，专利文献3中，在电晕处理装置必须成为规定结构这一方面，也存在无法简单地进行电晕处理的问题。专利文献专利文献1：日本特开2005-213314号公报专利文献2：日本特开2009-8860号公报专利文献3：日本专利第4194766号公报
技术实现思路
本专利技术的课题在于提供一种能够长期稳定地进行电晕处理的方法。本专利技术人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究，结果发现以下见解。即，对附着于电晕处理结束后的薄膜(被电晕处理物)上的结晶状异物进行了分析，结果该结晶状异物为草酸、草酸盐、草酸铵、硝酸铝、硝酸铵等。本专利技术人等对这些结晶状异物的来源进行了反复研讨。其结果，得到如下见解，即，这些结晶状异物是随着电晕放电的进行而蓄积于电晕处理装置的，其是落下并附着于薄膜(被电晕处理物)上的异物。而且，基于该见解而进一步反复进行了深入研究，结果发现若将电晕处理装置配置成电晕处理装置所具备的电极罩的开口部成为特定方向，则能够抑制被蓄积于电晕处理装置的结晶状异物落下并附着于薄膜(被电晕处理物)，以至完成本专利技术。即，本专利技术的电晕处理方法包括以下构成。(1)一种电晕处理方法，为在电晕处理装置所具备的放电电极与接地辊之间产生电晕放电且在该电晕放电下介由所述接地辊而使薄膜状的被电晕处理物通过并对所述被电晕处理物的表面进行电晕处理的方法，其中，所述电晕处理装置进一步具备电极罩，该电极罩覆盖所述放电电极，并且在所述接地辊侧具有开口部，将所述电晕处理装置配置成使该电极罩的开口部成为朝向横向乃至上方。(2)所述(1)记载的电晕处理方法，其中，所述电晕处理装置由耐腐蚀性部件构成。(3)所述(1)或(2)记载的电晕处理方法，其中，所述电晕处理装置的表面被施以耐腐蚀处理。(4)所述(1)至(3)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述电极套由透明性部件构成。(5)所述(1)至(4)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述薄膜状的被电晕处理物为选自光学膜及保护膜中的至少一种。(6)所述(1)至(5)中任一项记载的电晕处理方法，其中，所述薄膜状的被电晕处理物的长度为1万米以上。应予说明，本专利技术中的所述“接地辊”只要是具有在与放电电极之间产生电晕放电且在该电晕放电下使薄膜状的被电晕处理物通过的功能的辊即可，还包括所谓被称为处理辊或后辊等的辊。本专利技术中的所述“薄膜状”并非只限于薄膜状，只要无损于本专利技术的效果，也包括薄膜状乃至薄片状的概念。另一方面的专利技术为对薄膜的表面进行电晕处理的方法，其具备：在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序：及在所述电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动的工序，所述放电电极被电极罩覆盖，所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。在此，优选所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。另外，还优选所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个的表面被施以耐腐蚀处理。另外，还优选由所述电极罩所包围的空间内的气体通过排气管进行排气，所述排气管具有耐腐蚀性部件或所述排气管的表面被施以耐腐蚀处理。另外，还优选所述放电电极被电极夹保持，所述电极夹具有耐腐蚀性部件或所述电极夹的表面被施以耐腐蚀处理。另外，还优选所述电极罩为透明的。另外，优选所述薄膜为选自光学膜及保护膜中的至少一种。另外，优选所述薄膜的长度为1万米以上。根据本专利技术，能够抑制被蓄积于电晕处理装置的结晶状异物落下并附着于薄膜(被电晕处理物)，因此具有能够长期稳定地进行电晕处理的效果。而且，能够采用具有一般结构的电晕处理装置，因此能够简单地进行电晕处理。附图说明图1是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的电晕处理装置的示意图。图2(a)～(c)是对图1所示的电晕处理装置的配置状态进行说明的概略说明图。图3(a)、(b)是对图1所示的电晕处理装置的配置状态进行说明的概略说明图。图4是表示本专利技术的一个实施方式所涉及的电晕处理方法的概略说明图。具体实施方式以下，参考图l～图4对本专利技术所涉及的电晕处理方法的一个实施方式进行详细说明。本实施方式的电晕处理方法是使用图l所示的电晕处理装置1来进行的。电晕处理装置1具备：放电电极2；接地辊3，与该放电电极2对置配置；电极罩4，覆盖放电电极2；电极夹5，保持放电电极2；及排气管6，位于电极罩4的与位于接地辊3侧的一端面4a相反的另一端面4b侧。放电电极2大致呈棒状，其前端部2a的位置比电极罩4的一端面4a更靠电极罩4的内方，其后端部2b被电极夹5保持。应予说明，只要能够放电，放电电极2的形状并不限于大致棒状，例如也可以是针状、板状、圆柱状等其它形状。接地辊3被接地，并且与放电电极2的前端部2a之间隔着规定间隔，且与放电电极2对置配置。接地辊3被构成为连接于未图示的马达等旋转驱动机构，且能够以规定的圆周速度旋转。电极罩4具有在位于接地辊3侧的一端面开口的开口部4c。另外，电极罩4具有一对侧面4d、4d。一对侧面4d、4d以相互大致平行的方式从一端面4a向另一端面4b延伸。就排气管6而言，其外周的一部分在由电极罩4所包围的空间内通过，并且未图示25的排气管出口与真空泵等吸引机构连接。由此，能够将由电极罩4所包围的空间内的气体通过排气管6进行吸引，并向电晕处理装置1的外部排气。因此，能够将由电晕处理产生的臭氧通过排气管6而向电晕处理装置1的外部进行排气。作为排气管6的排气管出口的风量，在可靠地进行臭氧的排气方面，优选为0.1m3/秒以上。使用上述电晕处理装置l进行的本实施方式的电晕处理方法是如下方法：通过将由未图示的高频电源供给的高频高电压输出施加于放电电极2与接地辊3之间，从而在它们之间产生电晕放电，并在该电晕放电下介由接地辊3而使薄膜状的被电晕处理物10通过，由此对被电晕处理物10的表面进行电晕处理。即，在电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动，由此对薄膜的表面进行电晕处理。作为电晕处理强度，根据薄膜(被电晕处理物)10而采用所期望的强度即可，无特别限定，但通常为200～2000W左右。若电晕处理强度过低，则存在难以在薄膜(被电晕处理物)10的整个宽度上得到稳定的电晕放电的倾向，另外，若过高，则虽然因薄膜(被电晕处理物)10的耐热特性等而有所差异，但存在因所产生的热而导致薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电晕处理方法，为对薄膜的表面进行电晕处理的方法，该方法具备如下工序：在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序：及在所述电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动的工序，其中，所述放电电极被电极罩覆盖，所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。

【技术特征摘要】
2011.02.03 JP 2011-0214611.一种电晕处理方法，为对薄膜的表面进行电晕处理的方法，该方法具备如下工序：在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序：及在所述电晕放电下，使薄膜在所述接地辊上移动的工序，其中，所述放电电极被电极罩覆盖，所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：武藤清，出口修央，仓本贤尚，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP