高阻膜的镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种高阻膜的镀膜装置，该高阻膜的镀膜装置包括进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室、出片室、抽真空组件、冷阱组件、阴极组件和加热组件，抽真空组件能够对进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室和出片室抽真空，冷阱组件包括冷阱件、压缩机和制冷剂，冷阱件安装在第一缓冲室内，压缩机的入口与冷阱件的出口相连通，压缩机的出口与冷阱件的入口相连通，以使制冷剂能够在冷阱件和压缩机之间循环流动，加热组件能够对进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室和出片室进行加热。上述高阻膜的镀膜装置生产效率较高，且能够使真空泵具有较长的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
高阻膜的镀膜装置
本专利技术涉及一种高阻膜的镀膜装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜是目前常用的一种镀膜方法，然而磁控溅射镀膜通常都是在真空状态下进行的，且一般都是直接对镀膜腔室进行抽真空，不仅抽真空时间长，效率低，直接影响生产效率，而且还容易损坏真空泵，影响其使用寿命。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种生产效率较高且能够使真空泵具有较长的使用寿命的高阻膜的镀膜装置。一种高阻膜的镀膜装置，包括进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室、出片室、抽真空组件、冷阱组件、阴极组件和加热组件，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室依次连接，所述抽真空组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室抽真空，所述冷阱组件包括冷阱件、压缩机和制冷剂，所述冷阱件安装在所述第一缓冲室内，所述压缩机的入口与所述冷阱件的出口相连通，所述压缩机的出口与所述冷阱件的入口相连通，以使所述制冷剂能够在所述冷阱件和所述压缩机之间循环流动，所述阴极组件安装在所述溅射室内，所述加热组件能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高阻膜的镀膜装置，其特征在于，包括进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室、出片室、抽真空组件、冷阱组件、阴极组件和加热组件，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室依次连接，所述抽真空组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室抽真空，所述冷阱组件包括冷阱件、压缩机和制冷剂，所述冷阱件安装在所述第一缓冲室内，所述压缩机的入口与所述冷阱件的出口相连通，所述压缩机的出口与所述冷阱件的入口相连通，以使所述制冷剂能够在所述冷阱件和所述压缩机之间循环流动，...

【技术特征摘要】
1.一种高阻膜的镀膜装置，其特征在于，包括进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室、出片室、抽真空组件、冷阱组件、阴极组件和加热组件，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室依次连接，所述抽真空组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室抽真空，所述冷阱组件包括冷阱件、压缩机和制冷剂，所述冷阱件安装在所述第一缓冲室内，所述压缩机的入口与所述冷阱件的出口相连通，所述压缩机的出口与所述冷阱件的入口相连通，以使所述制冷剂能够在所述冷阱件和所述压缩机之间循环流动，所述阴极组件安装在所述溅射室内，所述加热组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室进行加热。2.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述制冷剂为液氮。3.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述冷阱件为一金属管以一端为固定点开始向外逐圈旋绕而形成的螺旋结构，所述冷阱件的两端分别为所述冷阱件的出口和入口。4.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述加热组件为多个，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室内均安装有所述加热组件，每个所述加热组件包括热反射板和多个平行且间隔设置的加热管，所述热反射板竖直设置，多个所述加热管固定在所述热反射板的同一侧上，以使所述热反射板远离所述加热管的一侧能够朝向待镀件。5.根据权利要求4所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，在所述第一缓冲室内，所述热反射板与所述冷阱件相对固定在所述第一缓冲室的侧壁上，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，易伟华，周慧蓉，张伯伦，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西,36