图像传感器及其制造方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种图像传感器，包括衬底、沟槽隔离件、多个图像感测单元、至少一个相位检测单元，以及互连层。沟槽隔离件在衬底中，以及衬底的多个有源区通过沟槽隔离件彼此分隔。图像感测单元和至少一个相位检测单元在布置为阵列的有源区中，以及至少一个相位检测单元的感测面积比图像感测单元的每个的感测面积小。互连层设置在图像感测单元和至少一个相位检测单元上。此外，还提提供了图像传感器的制造方法。本发明专利技术实施例涉及图像传感器及其制造方法。

【技术实现步骤摘要】
图像传感器及其制造方法
本专利技术实施例涉及图像传感器及其制造方法。
技术介绍
与电荷耦合器件(CCD)传感器相比，CMOS图像传感器具有很多优势，诸如低电压操作、低功耗、与逻辑电路的兼容性、随机存取和低成本。在CMOS图像传感器中，广泛使用相位检测自动对焦(PDAF)CMOS图像传感器。PDAFCMOS图像传感器使光电二极管与金属栅格(设置在光电二极管上)相适应以补偿相位检测，由此实现对焦功能。用于相邻的光电二极管的电流隔离方法主要是注入隔离。然而，注入隔离不足以消除相邻的光电二极管之间的串扰，从而降低PDAFCMOS图像传感器的敏感度。
技术实现思路
根据本专利技术的一个实施例，提供了一种一种图像传感器，包括：衬底；沟槽隔离件，位于所述衬底中，其中，所述衬底的多个有源区通过所述沟槽隔离件彼此分隔；多个图像感测单元；至少一个相位检测单元，其中，所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元位于布置为阵列的所述有源区中，以及所述至少一个相位检测单元的感测面积小于所述图像感测单元的每个的感测面积；以及互连层，设置在所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元上。根据本专利技术的另一实施例，还提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图像传感器，包括：衬底；沟槽隔离件，位于所述衬底中，其中，所述衬底的多个有源区通过所述沟槽隔离件彼此分隔；多个图像感测单元；至少一个相位检测单元，其中，所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元位于布置为阵列的所述有源区中，以及所述至少一个相位检测单元的感测面积小于所述图像感测单元的每个的感测面积；以及互连层，设置在所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元上。

【技术特征摘要】
2016.01.29 US 15/009,8361.一种图像传感器，包括：衬底；沟槽隔离件，位于所述衬底中，其中，所述衬底的多个有源区通过所述沟槽隔离件彼此分隔；多个图像感测单元；至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏嘉余，萧晋勋，邱柏钧，郑宇轩，许永隆，陈信吉，郑静玲，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71