粒子分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种搭载粒子测量部和成分分析部的粒子分析装置，可在防止检测灵敏度降低的同时，扩大测量范围。该粒子分析装置包括：粒子测量部，其基于试样气体中粒子所散射的激光，测量所述试样气体中的粒子的数量或者浓度；成分分析部，其测量试样气体中不同成分的粒子的含量；流路，其一端和试样气体源连接，在另一端侧的分支点，分为第1流路和第2流路，第1流路将试样气体导入粒子测量部，第2流路将试样气体导入成分分析部；第1调整部，其设置在所述第1流路，利用稀释气体稀释试样气体，通过将稀释后的试样气体导入粒子测量部，来调整粒子测量部的测量范围；以及第2调整部，其设置在第2流路，对将试样气体导入成分分析部的导入时间进行调整。

Particle analyzer

The present invention provides a particle analysis device equipped with a particle measuring section and a component analysis part, which can expand the measuring range while preventing detection sensitivity reduction. The particle analysis apparatus includes a particle measurement, the laser scattering of particles in the gas sample based on the quantity or concentration measurement of the sample in the gas particle; component analysis, particle content of different components in the sample gas flow path; one end and the sample gas source connected to the branch points in on the other side, divided into first channel and a second flow path, flow path first sample gas into the particle measurement, second flow path components into the sample gas analysis; first adjusting part, which is set in the first flow path, dilution of the sample gas by gas dilution, the sample gas into particle measurement department of diluted, to adjust the measurement range of particle measurement and adjustment; second, the second is arranged in the flow path of the sample gas into the component analysis department into time to adjust.

【技术实现步骤摘要】
粒子分析装置
本专利技术涉及一种粒子分析装置。
技术介绍
对于大气中PM2.5等粒子的测量技术受到了关注。一直以来被熟知的有，基于试样空气中粒子散射的激光来测量粒子的数量以及大小的粒子测量装置(例如，参照专利文献1)。还被熟知的有，测量试样气体中不同成分的粒子含量的成分分析装置(例如，参照专利文献2)。还被熟知的有，测量含高浓度粒子的废气时，为了对应废气的浓度扩大测量范围，利用稀释空气稀释废气的测量装置(例如，参照专利文献3)。在该测量装置中，是将稀释后的一部分废气导入测量装置中，计算其中含有的粒子数。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2012-189483号公报专利文献2：国际公开第2011/114587号专利文献3：国际公开第2010/116959号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题为了从多方面分析对象粒子，考虑使用包括粒子测量部和成分分析部的复合型粒子分析装置。但是，如果对于粒子测量部和成分分析部，一律将试样气体稀释进行测量的话，粒子测量部和成分分析部的其中一个会出现检测灵敏度降低的情况。因此，搭载粒子测量部和成分分析部的粒子分析装置有时候很难在防止检测灵敏度降低的同时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粒子分析装置，其包含，粒子测量部，其基于由试样气体中粒子散射的激光，测量所述试样气体中的粒子的数量或者浓度；成分分析部，其测量所述试样气体中粒子的不同成分的含量；流路，其一端和试样气体源连接，在另一端侧的分支点，分支为第1流路和第2流路，第1流路将所述试样气体导入所述粒子测量部，第2流路将所述试样气体导入所述成分分析部；第1调整部，其设置在所述第1流路，利用稀释气体稀释所述试样气体，通过将稀释后的试样气体导入所述粒子测量部，来调整所述粒子测量部的测量范围；第2调整部，其设置在所述第2流路，调整将所述试样气体导入所述成分分析部的导入时间。

【技术特征摘要】
2016.01.27 JP 2016-0136971.一种粒子分析装置，其包含，粒子测量部，其基于由试样气体中粒子散射的激光，测量所述试样气体中的粒子的数量或者浓度；成分分析部，其测量所述试样气体中粒子的不同成分的含量；流路，其一端和试样气体源连接，在另一端侧的分支点，分支为第1流路和第2流路，第1流路将所述试样气体导入所述粒子测量部，第2流路将所述试样气体导入所述成分分析部；第1调整部，其设置在所述第1流路，利用稀释气体稀释所述试样气体，通过将稀释后的试样气体导入所述粒子测量部，来调整所述粒子测量部的测量范围；第2调整部，其设置在所述第2流路，调整将所述试样气体导入所述成分分析部的导入时间。2.根据权利要求1所述的粒子分析装置，其特征在于，所述第1调整部包含：稀释气体流路，其一端和稀释气体源连接，另一端和所述第1流路连接；稀释气体流量控制部，其设置在所述稀释气体流路，控制导入所述第1流路的所述稀释气体的流量。3.根据权利要求2所述的粒子分析装置，其特征在于，包括废气流量控制部，其控制从所述粒子测量部排出的废气的流量。4.根据权利要求3所述的粒子分析装置，其特征在于，包括：稀释率计算部，其基于所述稀释气体流量控制部中所述稀释气体的流量、所述废气流量控制部中所述废气的流量，计算稀释率；以及浓度计算部，其基于所述粒子测量部的测量结果和所述稀释率，计算未被稀释的试样气体中粒子的浓度。5.根据权利要求1至4中任一项所述的粒子分析装置，其特征在于，所述第2调整部包括：试样气体...

【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川祥树，武田直希，小泉和裕，浅野贵正，
申请(专利权)人：富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP