检测用高硅铝合金样品及其制备方法技术

一种检测用高硅铝合金样品及其制备方法，属于材料检测领域。一种检测用高硅铝合金样品的制备方法包括：依次对高硅铝合金的待测表面进行粗磨和细磨得到具有暴露的研磨面层的研磨品；采用抛光剂对研磨面层进行抛光得到具有暴露的镜面层的抛光品；采用显示剂对镜面层进行腐蚀得到暴露的显微结构表面。本发明专利技术提供的制备方法简单易行，制备的高硅铝合金非常易于进行表面形貌检测，从而可以降低检测成本和检测时间。

High silicon aluminum alloy sample for testing and preparation method thereof

The utility model relates to a high silicon aluminum alloy sample for detecting and a preparation method thereof, belonging to the field of material testing. Including the preparation method of high silicon Aluminum Alloy samples for detection: turn on high silicon Aluminum Alloy the measured surface for coarse grinding and fine grinding grinding with abrasive products are surface exposed; the polishing agent on the surface layer of the polishing abrasive polishing product has a mirror layer exposed by the display agent; on the mirror layer corrosion microstructure surface exposed. The preparation method of the invention is simple and easy, and the preparation of the high silicon aluminum alloy is very easy to detect the surface topography, thereby reducing the detection cost and the detection time.

【技术实现步骤摘要】
检测用高硅铝合金样品及其制备方法
本专利技术涉及材料检测领域，具体而言，涉及一种检测用高硅铝合金样品及其制备方法。
技术介绍
CE(ControlledExpansion线膨胀系数可控)系列高硅铝合金是一类新型电子封装材料，具有密度小，热膨胀系数低的特点。其显微结构为枝晶状α-Al+初晶Si+共晶Si以及少量杂质相。由于CE系列合金中，α-Al和Si相的硬度差异很大，Si含量达到50％～70％，组织中大量的Si颗粒，因此样品制备过程，容易出现硅颗粒掉落，α-Al磨损过多等缺陷，这样会影响到细节观察，针孔、杂质相鉴定和晶粒度测定等分析的准确性。
技术实现思路
在本专利技术的第一方面，提供了一种检测用高硅铝合金检测样品制备方法，用以减小制作过程中引起的高硅铝合金的微观缺陷。在本专利技术的第二方面，提供了一种检测用高硅铝合金检测样品，其表面微观缺陷少，可用于检测高硅铝合金的微观形貌，从而有利于对其材料的力学性能进行分析。本专利技术是这样实现的：一种检测用高硅铝合金样品的制备方法包括：依次对高硅铝合金的待测表面进行粗磨和细磨得到具有暴露的研磨面层的研磨品；采用抛光剂对研磨面层进行抛光得到具有暴露本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，包括：依次对高硅铝合金的待测表面进行粗磨和细磨得到具有暴露的研磨面层的研磨品；采用抛光剂对所述研磨面层进行抛光得到具有暴露的镜面层的抛光品；采用显示剂对所述镜面层进行腐蚀得到暴露的显微结构表面。

【技术特征摘要】
1.一种检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，包括：依次对高硅铝合金的待测表面进行粗磨和细磨得到具有暴露的研磨面层的研磨品；采用抛光剂对所述研磨面层进行抛光得到具有暴露的镜面层的抛光品；采用显示剂对所述镜面层进行腐蚀得到暴露的显微结构表面。2.根据权利要求1所述的检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，粗磨所述待测表面是采用200#～400#砂纸进行的。3.根据权利要求2所述的检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，通过粗磨所述待测表面使所述高硅铝合金减薄至少0.3mm。4.根据权利要求1至3中任一项所述的检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，细磨所述待测表面是采用1000#～1600#砂纸进行的。5.根据权利要求1所述的检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，抛光所述研磨面层是采用抛光盘在100～1200rad/min的条件下进行的。6.根据权利要求5所述的检测用高硅铝合金样品的制备方法，其特征在于，抛光所述研磨面层的方法包括：利用转速为1000～1200r...

【专利技术属性】
技术研发人员：万维财，李玉和，唐祁峰，李光照，韩锐，
申请(专利权)人：西华大学，
类型：发明
国别省市：四川,51