一种光刻胶供应装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光刻胶供应装置，包括通过管道顺次连接的设置有第一气体通道的第一存储装置、设置有第二气体通道的消耗侦测装置、设置有第三气体通道的第二存储装置和泵浦。所述第二气体通道设置有第一阀门，所述第三气体通道设置有第二阀门，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间还设置有第三阀门。当第一存储装置报空时，第一阀门开启，避免了大气与消耗侦测装置内的光刻胶直接接触而污染光刻胶，并且，光刻胶也不能通过第一气体通道流出污染机台；当光刻胶供应装置前段发生故障无法工作时，第二阀门开启，第三阀门关闭，利用第二存储装置中的光刻胶继续作业，在工作人员排除故障时机台产量不减少。

Photoresist supply device

The present invention provides a photoresist supply device comprises sequentially connected through pipelines is provided with a first storage device, a first gas channel is provided with a consumption detection device, the second gas passage is provided with a second storage device and pumped third gas channel. The second gas passage is provided with a first valve; the third gas passage is provided with a second valve; a third valve is arranged between the consumption detecting device and the second storage device. When the first storage device at the first time, the valve opens and avoids air and consumption detection device in direct contact with the photoresist and pollution of photoresist and photoresist can pass the first gas outflow channel pollution machine; when the photoresist supply device front fault not working, second valve opening, the valve closed third by second, the photoresist in the storage device to continue operations, staff in troubleshooting machine production is not reduced.

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶供应装置
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其是一种光刻胶供应装置。
技术介绍
在半导体制造工艺中，光刻处于硅片加工过程的中心，常被认为是IC制造中最关键的步骤，成本几乎占到整个硅片加工成本的三分之一。光刻工艺是一个复杂的过程，其稳定性及可靠性对产品的质量、良率和成本有着重要的影响。光刻工艺的质量与光刻胶供应装置息息相关，现有的光刻胶供应装置通常包括存储光刻胶的存储容器、消耗侦测桶和用于将光刻胶抽至喷嘴的泵浦，它们通过管道依次连接，光刻胶从存储容器流入消耗侦测桶，再从消耗侦测桶流至泵浦。消耗侦测桶设置有气体通道，当存储容器报空时，存储容器内无光刻胶或气体可从光刻胶瓶流向消耗侦测桶，此时，需要更换报空的存储容器，为了泵浦能够继续将光刻胶抽至喷嘴，需要打开消耗侦测桶的气体通道，消耗侦测桶内的光刻胶直接与大气接触，大气中的灰尘、微粒等污染物会污染光刻胶，光刻胶中含有杂质会影响光刻工艺的质量，使产品产生缺陷，大气中的水蒸气也会影响光刻胶的粘滞性。当泵浦抽取存储系统中的光刻胶时，会使消耗侦测桶中的光刻胶从气体通道流出，造成管路堵塞和机台污染，目前需要设备工程师每星期清理一次。并且，现有的光刻胶供应装置中，没有应对光刻胶管路异常的方法，当光刻胶供应装置前段出现问题无法工作时，只能维修和更换设备，导致不良品增加、机台产量减少。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光刻胶供应装置，以解决现有技术中光刻质量不高、设备工程师必须定期清理机台和无法应对光刻胶管路异常的问题。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种光刻胶供应装置，用于向一喷嘴提供光刻胶包括：通过管道顺次连接的第一存储装置、消耗侦测装置、第二存储装置和泵浦，所述第一存储装置、消耗侦测装置和第二存储装置均用于存储光刻胶，所述泵浦用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，所述第一存储装置上设置有第一气体通道；所述消耗侦测装置上设置有第二气体通道，或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第二气体通道，所述第二气体通道上设置有第一阀门；所述第二存储装置上设置有第三气体通道，或者，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三气体通道，所述第三气体通道上设置有第二阀门；所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三阀门；可选的，所述第一存储装置上设置有第一检测器；或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第一检测器；所述第一检测器控制所述第一阀门的开合；可选的，所述第一存储装置报空时，所述第一阀门开启；所述第一存储装置未报空时，所述第一阀门闭合；可选的，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第二检测器，所述第二检测器控制所述第二阀门和所述第三阀门的开合；可选的，所述第二管道上有光刻胶流过时，所述第二阀门开启，所述第三阀门闭合；所述第二管道上没有光刻胶流过时，所述第二阀门闭合，所述第三阀门开启；可选的，所述第一气体通道与所述第二气体通道相连；可选的，所述第一储存装置和所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第四阀门；可选的，所述消耗侦测装置和所述第二存储装置都设置有排泡管道；可选的，所述第二存储装置的容量大于所述第一存储装置；可选的，所述消耗侦测装置与所述第三阀门之间的管道上还设置有过滤装置；可选的，所述第一阀门为单向阀门。在本专利技术提供的光刻胶供应装置中，包括：通过管道顺次连接的第一存储装置、消耗侦测装置、第二存储装置和泵浦，所述第一存储装置、消耗侦测装置和第二存储装置均用于存储光刻胶，所述泵浦用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，所述第一存储装置上设置有第一气体通道；所述消耗侦测装置上设置有第二气体通道，或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第二气体通道，所述第二气体通道上设置有第一阀门；所述第二存储装置上设置有第三气体通道，或者，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三气体通道，所述第三气体通道上设置有第二阀门；所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三阀门。第一存储装置报空时，第一阀门开启，使泵浦能正常抽取光刻胶，同时为了使光刻胶更好的在管道中流通，通过第二气体通道往消耗侦测装置中通入洁净气体的、不与光刻胶发生反应的气体，避免了光刻胶和大气直接接触而被污染，并且，光刻胶也不能通过第二气体通道流出而污染机台。当光刻胶供应系统前段发生故障、无法继续工作时，第二阀门开启，第三阀门关闭，通过第三气体通道往第二存储装置中通入洁净的、不与光刻胶发生反应的气体，利用第二储存装置中的光刻胶继续工作。附图说明图1是实施例提供的第一种光刻胶供应装置的示意图；图2是实施例提供的检测器安放位置的示意图；图3是实施例提供的第一气体通道与第二气体通道相连的示意图；图4是实施例提供的第一存储装置和消耗侦测装置之间设置第四阀门的示意图；图5是实施例提供的第二种光刻胶供应装置的示意图；其中，1-第一存储装置，11-第一气体通道，2-消耗侦测装置，21-第二气体通道，22-第一阀门，3-第二存储装置，31-第三气体通道，32-第二阀门，33-第三阀门，4-泵浦；5-第一管道，51-第一检测器，6-第二管道，61-第二检测器；52-第四阀门，12-第五阀门；23-第一排泡管道，34-第二排泡管道。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术提供的光刻胶供应装置的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。参阅图1，图1为实施例提供的第一种光刻胶供应装置的示意图，通过管道顺次连接的第一存储装置1、消耗侦测装置2、第二存储装置3和泵浦4，所述第一存储装置1、消耗侦测装置2和第二存储装置3均用于存储光刻胶，所述泵浦4用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，所述第一存储装置1上设置有第一气体通道11；所述消耗侦测装置2上设置有第二气体通道21，或者，所述第一存储装置1与所述消耗侦测装置2之间的管道5(在此称第一管道5)上设置有第二气体通道21，所述第二气体通道21上设置有第一阀门22；所述第二存储装置3上设置有第三气体通道31，或者，所述消耗侦测装置2与所述第二存储装置3之间的管道6(在此称第二管道6)上设置有第三气体通道31，所述第三气体通道31上设置有第二阀门32；所述消耗侦测装置2与所述第二存储装置3之间的第二管道6上设置有第三阀门33。整个装置正常工作时，第一阀门22和第二阀门32关闭，第三阀门33开启，往第一气体通道11通入洁净的高压气体，如氮气等惰性气体，气体的压强可以根据正在加工的产品进行调整，本专利技术不做限制。第一存储装置1内的光刻胶受到气体的压力通过第一管道5流进消耗侦测装置2，再从消耗侦测装置2通过第二管道6流进第二储存装置3，泵浦从第二存储装置3内将光刻胶抽至喷嘴，进行涂覆作业。当第一存储装置1内没有存储光刻胶或者储存的光刻胶小于一定的量时，第一存储装置报空，此时，第一阀门22开启，往第二气体通道21通入洁净的高压气体，高压气体从第二气体通道21进入消耗侦测装置2内，将消耗侦测装置2内的光刻胶压向第二存储装置3，待工作人员更换了第一存储装置1或者往第一存储装置1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶供应装置，用于向一喷嘴提供光刻胶，其特征在于，所述光刻胶供应装置包括：通过管道顺次连接的第一存储装置、消耗侦测装置、第二存储装置和泵浦，所述第一存储装置、消耗侦测装置和第二存储装置均用于存储光刻胶，所述泵浦用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，所述第一存储装置上设置有第一气体通道；所述消耗侦测装置上设置有第二气体通道，或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第二气体通道，所述第二气体通道上设置有第一阀门；所述第二存储装置上设置有第三气体通道，或者，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三气体通道，所述第三气体通道上设置有第二阀门；所述消耗侦测装置与所述第二储存装置之间的管道上设置有第三阀门。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶供应装置，用于向一喷嘴提供光刻胶，其特征在于，所述光刻胶供应装置包括：通过管道顺次连接的第一存储装置、消耗侦测装置、第二存储装置和泵浦，所述第一存储装置、消耗侦测装置和第二存储装置均用于存储光刻胶，所述泵浦用于将光刻胶抽至所述喷嘴；其中，所述第一存储装置上设置有第一气体通道；所述消耗侦测装置上设置有第二气体通道，或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第二气体通道，所述第二气体通道上设置有第一阀门；所述第二存储装置上设置有第三气体通道，或者，所述消耗侦测装置与所述第二存储装置之间的管道上设置有第三气体通道，所述第三气体通道上设置有第二阀门；所述消耗侦测装置与所述第二储存装置之间的管道上设置有第三阀门。2.如权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述第一存储装置上设置有第一检测器；或者，所述第一存储装置与所述消耗侦测装置之间的管道上设置有第一检测器；所述第一检测器控制所述第一阀门的开合。3.如权利要求2所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述第一存储装置报空时，所述第一阀门开启；所述第一存储装置未报空时，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱治国，孙国庆，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31