涂膜制造技术

本发明专利技术涉及一种涂膜，它是单面有涂层的聚酯膜，其涂层表面的表面电阻率在１×１０↑［１３］Ω以下，该膜于１８０℃下经３０分钟热处理后的上述涂层表面的聚酯低聚物量为进行热处理之前的聚酯低聚物量的８倍以下。该涂膜具有优良的抗静电性能，可防止尘埃等的附着，光学缺陷少。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有良好的抗静电性能，能防止尘埃等的附着，光学缺陷少的涂膜。
技术介绍
双向拉伸聚酯膜因其所具有的优异的机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐化学药品性、透明性等特性，而广泛用于以磁记录介质的基膜、制版用膜、包装用膜、光学用膜为代表的等用途。但塑料膜所共有的问题是具有因静电而易带电的缺点，由此引起膜加工时或加工制品的运行特性差、吸附周围尘埃等问题。聚酯膜抗静电的常用方法有掺加有机磺酸盐等低分子量阴离子表面活性剂型化合物混炼的方法；蒸镀金属化合物的方法；向表面涂布阴离子化合物、阳离子化合物，或所谓导电化合物的方法等。尽管掺入阴离子化合物混炼的方法具有可廉价制造的优点，但在抗静电的效果方面却有局限性。且由于使用低分子量化合物，会产生因起霜使阴离子化合物聚集在聚酯膜表面上，使聚酯膜与表面涂层的粘合力降低，或使阴离子化合物转而附在薄膜和传送辊上的问题等。也因此降低了抗静电性能的持久性。蒸镀金属化合物的方法的抗静电性好，近年其用途扩展至透明导电膜，尽管如此，却因其制造成本高，面向特殊用途，因此难以用作普通抗静电膜。而涂布导电碳等导电化合物的方法尽管具有抗静电效果较好、且能以较低成本制造的优点，却存在膜的透明性差的缺点。因此，聚酯膜抗静电广泛采用在膜上涂布高分子量阴离子化合物和/或高分子量阳离子化合物以用作抗静电剂的方法。附有涂层的双向拉伸聚酯膜的制造方法，尤其是考虑到经济性及其特性等方面，广泛采用制膜工序期间涂布涂层的方法。典型的实例是，在纵向拉伸后、横向拉伸前施行涂布，再进行横向拉伸和热固定的方法。尤其是近年随着聚酯膜用途的多样化，膜的加工和使用条件也趋于多样化，例如，在将聚酯膜置于100℃及其以上的高温下时，由其内部浸出的低聚物会在膜表面形成析出，因此，在这样条件下加工或使用膜时就会产生各种问题。在现有技术中，采用利用固相聚合谋求降低原料中所含低聚物，或利用端基封锁剂提高聚酯膜的耐水解性等防止低聚物析出的方法，但问题是，在更严格的条件下不能达到满足防止低聚物析出和制造成本变得太高等。而尽管以对聚酯膜进行如上所述的表面改性为目的提出过各种涂膜方案，但仍存在因涂布的组成而促进低聚物的析出的问题。本专利技术就是针对上述情况做出的专利技术，其解决的课题就是提供一种具有优良抗静电性能、可抗积尘等的光学缺陷少的聚酯膜。
技术实现思路
本专利技术人等对上述课题经过反复深入地研究后，结果，通过设置特定构成的涂层找到了解决上述课题的技术方案，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的目的在于提供一种涂膜，它是一面有涂层的聚酯膜，其特征在于，涂层表面的表面电阻率在1×1013Ω以下，该膜于180℃下经30分钟热处理后的上述涂层表面的聚酯低聚物量为进行该热处理之前的聚酯低聚物量的8倍以下。下面详细说明本专利技术构成本专利技术的聚酯膜的聚酯是通过二元酸成分与二元醇的缩聚而得到的聚酯。上述二元酸成分可以举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2，6-萘二酸、己二酸、癸二酸、4，4′-二苯二酸、1，4-环己二酸等；而乙二醇成分可以举出乙二醇、一缩二乙二醇、三缩三乙二醇、丙二醇、丁二醇、三甲撑二醇、四甲撑二醇、新戊二醇、1，4-环己二甲醇等。本专利技术中所用的聚酯中较具代表性的有，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚-2，6-萘二酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯等，此外，也可为将上述酸成分和二元醇成分共聚得到的聚酯，根据需要，还可添加其它成分和添加剂。为便于处理，本专利技术的聚酯膜中还可添加可赋予其易滑移性的颗粒。用于该目的的颗粒可以举出氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、磷酸钙、高岭土、滑石粉、氧化铝、氧化钛、刚玉、硫酸钡、氟化钙、氟化锂、沸石、硫化钼等无机颗粒；交联高分子颗粒、草酸钙等有机颗粒；以及制造聚酯时析出的颗粒等。可根据膜的用途和目的选择所用颗粒的粒径和含量，平均粒径范围通常为0.005～5.0μm，优选为0.01～3.0μm。当平均粒径超过5.0μ时，膜表面会变得太粗糙，使得颗粒易于由膜表面脱落。而当平均粒径小于0.005μm时，表面粗糙度太小，得不到足够的易滑移性。颗粒含量以聚酯为基准，通常为0.001～30.0重量％，优选为0.01～10.0重量％，颗粒量过多则有损于膜的机械性能和透明性；过少又会使易滑移性太差。除上述颗粒之外，还可根据需要加入添加剂。所述添加剂可以举出例如抗静电剂、稳定剂、润滑剂、交联剂、防粘连剂、抗氧化剂、染料、颜料、遮光剂、紫外线吸收剂等。只要能满足本专利技术的条件，本专利技术的聚酯膜也可采用多层构造，采用多层构造时，也可含有非聚酯层。当然，本专利技术的涂层概念既包括单面涂层膜，也包括双面涂层膜，至少为单面涂层膜，只要能满足本专利技术的条件即可。本专利技术的聚酯膜的特征在于，涂层表面的表面电阻率在1×1013Ω以下，优选为表面电阻率在1×1012Ω以下，更优选为在1×1010Ω以下。当表面电阻率超过1×1013Ω时，会出现将膜卷绕成辊状时和依次传送叠置的单张膜时引起膜粘连，加工性差，附着杂物尘埃等问题。本专利技术的聚酯膜优选为，在该膜于180℃下经30分钟热处理后的涂层表面的聚酯低聚物量为进行处理前的聚酯低聚物量的8倍以下，该膜于1 80℃下经30分钟热处理后的涂层表面的聚酯低聚物量为3.0mg/m2以下。当热处理后涂层表面的聚酯低聚物量超出上述范围时，会使聚酯膜的用途受到限制。例如，已知具有如下所述问题，即，在将其用作在设有脱模层的聚酯膜上设置粘合层，并贴合在其它部件上之后，再除去聚酯膜和脱模层的脱模型膜时，从膜中析出的低聚物会在粘合层中结晶，形成辉点等光学缺陷。此外，在透明膜的情况下，还会产生因浑浊度增高而损害外观；设置表面涂层使用时，与表面涂层的粘合性下降；或污染加工设备、生产率降低等问题。为解决上述各种问题，本专利技术在聚酯膜上设置显示出降低表面电阻率、阻止低聚物析出的性能的涂层。在本专利技术中，构成设于膜表面的涂层的成分，优选使用具有季铵基的化合物和聚乙烯醇。具有季铵基的化合物是指分子中的主链和侧链上带有含季铵基的结构要素的化合物。这种结构要素可以举出，例如由吡咯烷环、四取代烷基胺、及其与丙烯酸或甲基丙烯酸共聚的产物、N-烷基氨基丙烯酰胺的四取代物、乙烯基苄基三甲胺盐、2-羟基-3-甲基丙烯酰丙基三甲胺盐等。且还可将其组合使用，或与其它树脂共聚。作为形成这些季铵盐的配对离子的阴离子，可以举出例如卤离子、烷基硫酸根、烷基磺酸根、硝酸根等离子。本专利技术中，优选为具有季铵基的化合物是高分子化合物。当分子量过低时，会出现易于由涂层中除去，随时间会导致性能逐渐下降或涂层发粘等问题。且当分子量低时，有时也会使耐热稳定性降低。为避免产生该不良现象，具有季铵基的化合物的数均分子量通常优选为1000以上，更优选为2000以上，特别优选为5000以上。但另一方面，当该化合物的分子量过高时，也会出现涂敷液粘度过高等不良现象，为避免产生该不良现象，数均分子量优选为500000以上。本专利技术所用的聚乙烯醇可利用通常的聚合反应合成，优选为可溶于水。对聚乙烯醇的聚合度无特殊限定，通常使用聚合度100以上，优选300～40000的聚乙烯醇。当聚合度小于100时，有可能降低涂层的耐水性。对聚乙烯醇的皂化度无特殊限定，实际使用时通常使用皂化度70摩尔％以上、优选80摩尔％以上、99.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂膜，它是单面有涂层的聚酯膜，其特征在于，所述涂层表面的表面电阻率在１×１０↑［１３］Ω以下，所述聚酯膜在１８０℃下经３０分钟热处理后的所述涂层表面的聚酯低聚物量为进行热处理之前的聚酯低聚物量的８倍以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：神田俊宏，藤田真人，
申请(专利权)人：三菱聚酯薄膜公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]