在基材上构造UV吸收层的方法技术

一种在有机或无机的基材上构造ＵＶ吸收层的方法，其特征在于，　　　　ａ）在无机或有机的基材上进行低温等离子体、电晕放电和／或能量辐射处理，　　　　ｂ）将至少一种自由基引发剂和含有至少一种烯属不饱和基团的至少一种ＵＶ吸收剂，以及任选地以熔体、溶液、悬浮液或乳液形式存在的至少一种协同剂和／或至少一种烯属不饱和化合物涂覆在经处理后的无机或有机基材上，　　　　ｃ）加热经涂层的基材和／或利用电磁波对其进行辐照。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的主题在于一种在有机或无机的基材上构造有关的UV吸收层的方法。在US-A-5156882中记载了一种由TiO2或其它过渡金属氧化物构成的UV吸收层的制备过程，其是通过用等离子体来促发沉淀的方法而制得的。无机氧化物沉淀过程中的问题在于，在多数情况下其与基材的粘结不充分，并因此而必须另外构造比如由SiO2构成的中间层。通常，在可见光区域内，这种无机的UV吸收层并不完全透明，而这在很多应用场合下是不利的。为了消除该缺陷，目前已成功地利用等离子法沉淀出纯有机层从而试验得到了一种可吸收UV的涂层。因此，在诸如DE-A19522865中记载了一种用于制备某种UV吸收层的PECVD法(“等离子体增强化学气相沉积”)，所述吸收层中含有包含通式(A)的结构单元的化合物。 在JP6-25448(1994年2月1日)中记载了一种在聚合物材料上等离子体聚合已知UV吸收剂，如苯基水杨酸酯、2-羟基二苯甲酮、羟苯基苯并三唑和氰基丙烯酸酯的方法。WO99/55471记载了利用等离子体真空沉淀三嗪UV吸收剂的方法，其中要将UV吸收剂汽化并在沉淀到基材上去的同时使其受到等离子体的作用。但是该过程必须本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：M·鲍尔，A·巴兰亚伊，M·昆茨，
申请(专利权)人：西巴特殊化学品控股有限公司，
类型：发明
国别省市：