温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种在有机或无机的基材上构造ＵＶ吸收层的方法，其特征在于，　　　　ａ）在无机或有机的基材上进行低温等离子体、电晕放电和／或能量辐射处理，　　　　ｂ）将至少一种自由基引发剂和含有至少一种烯属不饱和基团的至少一种ＵＶ吸收剂，以及任选地以熔体、溶...
该专利属于西巴特殊化学品控股有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西巴特殊化学品控股有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。