一种抛光液在线调配内供给抛光机床制造技术

本实用新型专利技术涉及一种抛光液在线调配内供给抛光机床，属于化学机械抛光领域。抛光液回收箱和机床支架分别与机床底座固定连接，抛光液在线调配装置与抛光液回收箱上方固定连接，Z向进给机构与机床支架固定连接，Z向进给机构与A轴摆动机构相连，A轴摆动机构与抛光头工具系统相连，机X向进给机构与床底座固定连接，X向进给机构上方与Y向进给机构相连，Y向进给机构上方与C轴转台相连。本实用新型专利技术对于提升我国高品质光学元件的制造水平和制造能力，推进光学曲面精密制造理论创新，加快我国航空航天、机械制造等产业的快速发展，具有重要学术价值和较大的社会经济效益。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光液在线调配内供给抛光机床
本技术涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种抛光液在线调配内供给式抛光装置。
技术介绍
化学机械抛光（CMP）是在化学试剂及抛光压力的作用下借助磨料的机械去除作用及化学作用去除工件表面的材料，从而获得光学精密表面。抛光液是CMP的关键要素之一，CMP的抛光液中一般含有H2O2等易分解成分，因此抛光液的化学组分浓度稳定性、施液量、施液速度、pH值、温度等因素均影响抛光去除速率。尤其当对大型光学元件表面进行迭代修正抛光时，去除速率的不稳定将直接影响面形误差修正的准确性。因此在抛光过程中保持抛光液组分稳定性至关重要。文献报道中使用的抛光机多采取大面积漫灌方式，抛光液裸露在空气中，难以保证抛光液化学组分浓度稳定性，影响超精密抛光去除过程的稳定性。
技术实现思路
本技术提供一种抛光液在线调配内供给抛光机床，以解决在抛光过程中抛光液组分不能保持稳定的问题。本技术采取的技术方案是：抛光液回收箱和机床支架分别与机床底座固定连接，抛光液在线调配装置与抛光液回收箱上方固定连接，Z向进给机构与机床支架固定连接，Z向进给机构与A轴摆动机构相连，A轴摆动机构与抛光头工具系统相连，机X本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光液在线调配内供给抛光机床，其特征在于：抛光液回收箱和机床支架分别与机床底座固定连接，抛光液在线调配装置与抛光液回收箱上方固定连接，Z向进给机构与机床支架固定连接，Z向进给机构与A轴摆动机构相连，A轴摆动机构与抛光头工具系统相连，机X向进给机构与床底座固定连接，X向进给机构上方与Y向进给机构相连，Y向进给机构上方与C轴转台相连。

【技术特征摘要】
1.一种抛光液在线调配内供给抛光机床，其特征在于：抛光液回收箱和机床支架分别与机床底座固定连接，抛光液在线调配装置与抛光液回收箱上方固定连接，Z向进给机构与机床支架固定连接，Z向进给机构与A轴摆动机构相连，A轴摆动机构与抛光头工具系统相连，机X向进给机构与床底座固定连接，X向进给机构上方与Y向进给机构相连，Y向进给机构上方与C轴转台相连。2.根据权利要求1所述的抛光液在线调配内供给抛光机床，其特征在于：所述的抛光液在线调配装置的结构是：化学试剂瓶一、化学试剂瓶二、化学试剂瓶三分别通过液体管一、液体管二、液体管三与高压隔膜泵一、高压隔膜泵二、高压隔膜泵三相连，高压隔膜泵一、高压隔膜泵二、高压隔膜泵三分别通过液体管四、液体管五、液体管六与单向阀一、单向阀二、单向阀三一端相连，单向阀一、单向阀二、单向阀三另一端分别与液体管七一端相连接，液体管七另一端与混合室入口相连，混合室中装有搅拌棒，混合室出口通过液体管八与高压隔膜泵四一端相连，高压隔膜泵四另一端通过液体管九与单向阀四一端相连，单向阀四另一端与液体管十连接。3.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨旭，张冰，张富，赵继，刘畅，刘思明，勾鹏巍，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：新型
国别省市：吉林,22