The invention relates to the field of vacuum plasma devices, and discloses a gas guiding rod, vacuum chamber and vacuum plasma equipment, vacuum chamber gas guide rod are arranged in the vacuum plasma device, the shell formed hollow cavity, the end is provided with a gas entrance, housing is provided with a plurality of guide holes; the air inlet gas entrance and it is communicated with the cavity; the gas inlet and the gas entrance into the cavity in the body, through air vent into the vacuum chamber, flows out from the air in the vacuum chamber. The air guide rod is arranged in the vacuum cavity to improve the gas uniformity of the vacuum cavity.
【技术实现步骤摘要】
导气杆、真空腔和真空等离子体设备
本专利技术涉及真空等离子体设备领域,特别涉及一种导气杆、真空腔和真空等离子体设备。
技术介绍
真空等离子体设备由等离子体发生器、气体输送管路以及离子喷头等部分组成,等离子体发生器被设置在真空腔内,高压高频能量在喷嘴钢管中产生无序的低温等离子体,经由离子喷头轰击以达到材料的表面处理及沉积的目的。在现有技术中,真空等离子体设备的真空腔结构如图1所示,包括形成腔体的腔体壁和在腔体的两侧开的进气孔和抽气口。其中,进气孔常位于腔体的前部,数量可以是一至多个,当进气孔在两个以上时,这些进气孔通常分布在腔体前部的两侧。而抽气口则位于与进气孔的位置相对的腔体后部的中央。显然,根据现有技术的结构,气体从进气孔流动至抽气口的路径较为单一,在真空腔内的密度分布并不均匀。由于真空腔内的的气体均匀性直接影响到了真空等离子体设备的处理效果。因此现有技术的真空腔已经逐渐难以满足越来越高的等离子清洗工艺需求,函待改进。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种导气杆,在真空腔内设置该导气杆能够改进真空腔的气体均匀性。为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种导气杆 ...
【技术保护点】
一种导气杆,设置于真空等离子体设备的真空腔(1)内,其特征在于:所述导气杆(4)的外壳围合形成中空腔体,端部设置有气体入口(3),所述外壳上还开有若干个导气孔(4a);所述气体入口(3)与所述真空腔(1)的进气孔(2)相连通;气体经所述进气孔(2)和所述气体入口(3)进入所述中空腔体内,通过所述导气孔(4a)进入所述真空腔(1),再从所述真空腔(1)的抽气口(5)中流出。
【技术特征摘要】
1.一种导气杆,设置于真空等离子体设备的真空腔(1)内,其特征在于:所述导气杆(4)的外壳围合形成中空腔体,端部设置有气体入口(3),所述外壳上还开有若干个导气孔(4a);所述气体入口(3)与所述真空腔(1)的进气孔(2)相连通;气体经所述进气孔(2)和所述气体入口(3)进入所述中空腔体内,通过所述导气孔(4a)进入所述真空腔(1),再从所述真空腔(1)的抽气口(5)中流出。2.根据权利要求1所述的导气杆,其特征在于:所述进气孔(2)有两个且分别位于所述真空腔(1)的两侧,所述导气杆(4)的两端都设置有气体入口(3),且这两个气体入口(3)与所述进气孔(2)一一对应地相连通。3.根据权利要求1所述的导气杆,其特征在于:所述导气孔(4a)在所述外壳的表面上等距间隔设置。4.根据权利要求1所述的导气杆,其特征在于:所述导气杆(4)上的各个所述导气孔(4a)朝向可调。5.根据权利要求4所述的导气杆,其特征在于:所述导气杆(4)能够以自身轴线为旋转轴旋转,从而调节所述导气孔(4a)的朝向。6.根据权利要求1所述的导气杆,...
【专利技术属性】
技术研发人员:季文竹,彭帆,
申请(专利权)人:上海稷以科技有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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