一种去除表面氚污染的等离子体去污系统技术方案

本发明专利技术公开了一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，所述的方法采用高压电离气体产生等离子体，等离子体利用其高能量的活性成分有选择地与表面污染物反应，将其转变为具有挥发性的化合物，最终使污染物从表面去除，在去污前后监测待去污物件表面的氚污染水平，直至待去污物件表面达到设定的表面污染物控制值，实现恢复再用。同时，对去污产生的尾气过滤吸附，尾气中的氚催化氧化吸收处理达标后排放。本发明专利技术的去除表面氚污染的等离子体去污系统实现了待去污物件的表面高效率去污、在线监测、恢复再用，减少了放射性污染的扩散，通过在密闭空间自动去污，提高了工作效率，减轻了工作人员的劳动强度，降低了工作人员照射剂量。

Plasma cleaning system for removing tritium contamination of surface

The invention discloses a method for removal of surface tritium contaminated plasma decontamination system, the method adopts high pressure ionization gas generating plasma, plasma using high energy active components selectively react with surface contaminants, transforming it into a volatile compound, the removal of contaminants from the surface, in the monitoring before and after decontamination to the dirt surface tritium contamination level, until the dirt surface reach to the set value of surface contamination control, and then realize the recovery. At the same time, the tail gas generated by cleaning is filtered and absorbed, and the tritium in the tail gas is treated by catalytic oxidation and absorption to be discharged after reaching the standard. The removal of surface tritium contaminated plasma decontamination system to achieve high efficiency of surface dirt cleaning, on-line monitoring, and recovery, reduce the spread of radioactive contamination, through automatic decontamination in a confined space, improve work efficiency, reduce the labor intensity of workers, reduce the radiation dose for the staff.

【技术实现步骤摘要】
一种去除表面氚污染的等离子体去污系统
本专利技术属于辐射防护与环境保护
，具体涉及一种去除表面氚污染的等离子体去污系统。
技术介绍
对放射性表面污染的去污根据去污方法性质通常分为化学去污、物理去污和化学物理结合去污。常见的化学去污采用化学溶剂（有机溶剂、酸液、络合物溶液、盐溶液等）清洗污染表面等；物理方法有表面擦拭、表层剥离等。随着技术发展，放射性污染去污已应用了多种现代的物理和化学手段，如超声、等离子体、激光等。另外根据去污是否使用液体还分为干法去污和湿法去污，干法去污较湿法去污产生的二次废物少，更利于废物的分离回收利用，等离子体去污是一种新兴的物理化学干法去污技术，适用于表面被污染的金属零部件及设备的去污。去污机理为：等离子体利用其高能量的活性成分有选择地与表面污染物反应，将其转变为具有挥发性的化合物，如氟化物和或碳酰基化合物，最终使污染物从表面去除。一般情况下，在保持与其它常规湿法去污技术同样去污效果的前提下，该技术产生的二次废物更少。目前，公开文献报道中使用等离子体去除表面污染的文章几乎为民用清洗，有少量的使用去除60Co污染的文章，但在只是研究性的试验文章，未介绍相关本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的等离子体去污系统包括通过气体输送管道顺序连接的等离子体系统（1）、密封罩（5）、在线监测装置（6）、过滤器（7）、阀门（8）、尾气后处理系统（9）；所述的密封罩（5）为密封的箱体，密封罩（5）内安装有去污头（2）、待去污物件（3），去污头（2）接收等离子体系统（1）通过气体输送管道输送的工作气体和等离子体系统（1）通过传输电缆输送的电流，在去污头（2）内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上。

【技术特征摘要】
1.一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的等离子体去污系统包括通过气体输送管道顺序连接的等离子体系统（1）、密封罩（5）、在线监测装置（6）、过滤器（7）、阀门（8）、尾气后处理系统（9）；所述的密封罩（5）为密封的箱体，密封罩（5）内安装有去污头（2）、待去污物件（3），去污头（2）接收等离子体系统（1）通过气体输送管道输送的工作气体和等离子体系统（1）通过传输电缆输送的电流，在去污头（2）内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上。2.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的去污头（2）为单个去污头或多个去污头集成阵列组成。3.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢云，杜阳，石正坤，杨勇，余卫国，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院核物理与化学研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51