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本发明公开了一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，所述的方法采用高压电离气体产生等离子体，等离子体利用其高能量的活性成分有选择地与表面污染物反应，将其转变为具有挥发性的化合物，最终使污染物从表面去除，在去污前后监测待去污物件表面的氚污染水平...
该专利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院核物理与化学研究所授权不得商用。

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