【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及氨解产物的制备,更特别涉及新型硅氮烷和/或聚硅氮烷化合物的合成,包括分子中含Si-N结构的单体、低聚物和聚合物。
技术介绍
硅氮烷具有Si-N-Si键构型,由于它们能热解产生陶瓷材料如碳化硅和氮化硅,因此硅氮烷变得越来越重要。硅氮烷通常通过氨解方法合成,其中氨或一级胺与卤代硅烷反应。有机卤代硅烷的氨解是一个复杂地过程,由下文所示的若干并发反应构成。这些公式并不暗示具体结构,它们只是用于说明例如下列反应的通式取代 以及均官能缩合和杂官能缩合。 和 在若干美国专利中已描述了经氨解制备硅氮烷。例如,授权给Gaul的美国专利4395460描述了制备聚硅氮烷的方法,其中将氨气引入到已溶解在惰性溶剂里的氯代二硅烷溶液中。然而,在反应过程中,在氨解产物形成的同时,NH4Cl沉淀出来。沉淀的NH4Cl大大增加了反应混合物的粘度,并干扰反应的进行。为克服这一问题,必须向反应混合物中加入额外的惰性溶剂,以助于混合物的搅拌。此外,为回收纯化的氨解产物,必须除去反应产物混合物中的数种成分。沉淀的NH4Cl在反应过程中形成并与氨解产物混杂在一起,必须经过滤将其除去,为完全地 ...
【技术保护点】
硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于包括较少Si-H键的硅-氮重复单元,所述较少Si-H键是相对于掺入到来自含Si-H键的起始化合物的硅氮烷或聚硅氮烷中的Si-H键数而言的。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:艾伯特E埃布尔,特蕾西A克鲁格,罗伯特W莫克,加里J纳西亚克,
申请(专利权)人:克拉里安特国际有限公司,
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]
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