新型硅氮烷和/或聚硅氮烷化合物及其制备方法技术

技术编号:1576851 阅读:340 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及新型氨解产物,包括新硅氮烷和聚硅氮烷,其特征在于聚合化合物中硅-氮的重复单元,所述化合物具有与起始化合物中Si-H键量相比减少了的Si-H键。这些新氨解产物的制备包括将含至少一个Si-H键的起始化合物如卤代硅烷加入到化学计算过量的无水液氨中,其中生成卤化铵,卤化铵用作酸催化剂,为制备新氨解化合物提供离子和/或酸性环境。所制新氨解产物保留在单独的液层中,并与含离子化的卤化铵盐的无水液氨截然分开。本发明专利技术还提供了纯化氨解产物的方法,以及通过可控地将粘度从液态增加到固态以及增加产物之间的粘度来改性氨解产物的方法。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及氨解产物的制备,更特别涉及新型硅氮烷和/或聚硅氮烷化合物的合成,包括分子中含Si-N结构的单体、低聚物和聚合物。
技术介绍
硅氮烷具有Si-N-Si键构型,由于它们能热解产生陶瓷材料如碳化硅和氮化硅,因此硅氮烷变得越来越重要。硅氮烷通常通过氨解方法合成,其中氨或一级胺与卤代硅烷反应。有机卤代硅烷的氨解是一个复杂地过程,由下文所示的若干并发反应构成。这些公式并不暗示具体结构,它们只是用于说明例如下列反应的通式取代 以及均官能缩合和杂官能缩合。 和 在若干美国专利中已描述了经氨解制备硅氮烷。例如,授权给Gaul的美国专利4395460描述了制备聚硅氮烷的方法,其中将氨气引入到已溶解在惰性溶剂里的氯代二硅烷溶液中。然而,在反应过程中,在氨解产物形成的同时,NH4Cl沉淀出来。沉淀的NH4Cl大大增加了反应混合物的粘度,并干扰反应的进行。为克服这一问题,必须向反应混合物中加入额外的惰性溶剂,以助于混合物的搅拌。此外,为回收纯化的氨解产物,必须除去反应产物混合物中的数种成分。沉淀的NH4Cl在反应过程中形成并与氨解产物混杂在一起,必须经过滤将其除去,为完全地回收产物,必须用额外本文档来自技高网...

【技术保护点】
硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于包括较少Si-H键的硅-氮重复单元,所述较少Si-H键是相对于掺入到来自含Si-H键的起始化合物的硅氮烷或聚硅氮烷中的Si-H键数而言的。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:艾伯特E埃布尔特蕾西A克鲁格罗伯特W莫克加里J纳西亚克
申请(专利权)人:克拉里安特国际有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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