坩锅制造技术

一种坩锅，包含锅体及内盖。锅体具有空腔。内盖设置于锅体的空腔内，并具有第一下表面及至少一孔洞。第一下表面朝向锅体的底部，并朝锅体的底部突出，且锅体的底部与内盖的第一下表面之间的垂直距离，自第一下表面的边缘朝第一下表面的中心点渐减少。

Crucible

A crucible, including pot body and cover. The pot body has a cavity. The inner cavity is arranged on the pot body, and has a first surface and at least one hole. The bottom surface of the pot body toward the first, and at the bottom of the pot body is prominent, and the vertical distance between the bottom and the inner pot body of the first surface, the first surface from the edge toward the center point of the first surface gradually reduced.

【技术实现步骤摘要】
坩锅
本专利技术是有关于一种坩锅。
技术介绍
为了达到多种应用，薄膜可被沉积于基板上，例如，薄膜可用于电子或光学装置。薄膜结构可以是单层结构或多层结构，其中薄膜的材料可以是金属、半导体或是绝缘体。于沉积工艺之中，蒸镀工艺为一个常用的薄膜沉积方法。蒸镀设备包含腔体、坩锅及设置于腔体的载板，其中坩锅可用来装填蒸镀材料。载板为用来支撑其他组件或是使其他组件可朝向坩锅。于蒸镀开始进行时，蒸镀材料为放置于坩锅内，其中坩锅为置入于腔体内，接着，可发射电子束至坩锅。然而，于加热程序期间，由于监测蒸镀材料状态会有一定程度的困难度，使得蒸镀工艺良率也随之难以控制。
技术实现思路
本揭露内容的一实施方式为提供一种坩锅。于部分实施方式中，坩锅包含锅体、内盖及上盖。内盖包含第一下表面及上表面，且外盖包含第二下表面。于进行蒸镀工艺的期间，透过第一下表面、上表面及第二下表面，留存于内盖及外盖上的液态蒸镀材料可因重力而流动，并接着下落回锅体的底部。因此，蒸镀材料的聚集现象可被抑止，使得目标物(或称为目标基板)上因蒸镀工艺而形成的缺陷点可被抑止，从而提升目标物于蒸镀工艺的良率。本揭露内容的另一实施方式提供一种坩锅。于部分实施方式中，坩锅包含锅体及内盖。锅体具有空腔。内盖设置于锅体的空腔内，并具有第一下表面及至少一孔洞。第一下表面朝向锅体的底部，并朝锅体的底部突出，且锅体的底部与内盖的第一下表面之间的垂直距离，自第一下表面的边缘朝第一下表面的中心点渐减少。于部分实施方式中，坩锅更包含外盖。外盖设置于内盖的上方，并具有开口于其中。于部分实施方式中，外盖更包含第二下表面。第二下表面朝向内盖，并倾斜于锅体的侧壁，且锅体的底部与外盖的第二下表面之间的垂直距离，自第二下表面的边缘朝开口渐增加。于部分实施方式中，外盖的第二下表面倾斜于锅体的侧壁，并与锅体的侧壁夹角度θ，且10°≦θ≦20°。于部分实施方式中，内盖具有多个孔洞，且孔洞配置于第一下表面的边缘，以围绕第一下表面的顶点，其中孔洞至外盖的垂直投影落于开口之外。于部分实施方式中，内盖更包含上表面。上表面朝向外盖并朝外盖突出，且锅体的底部与内盖的上表面之间的垂直距离，自上表面的边缘朝上表面的中心点渐增加。于部分实施方式中，外盖的第二下表面与内盖的上表面之间相距距离d，且0.3公分≦d≦0.7公分。于部分实施方式中，内盖的第一下表面倾斜于锅体的侧壁，并与锅体的侧壁夹角度θ，且100°≦θ≦110°。于部分实施方式中，内盖的第一下表面及上表面为垂直对称于彼此。于部分实施方式中，内盖的其中至少一部分为锥体，且锥体朝锅体的底部突出，并具有顶点。附图说明图1A为依据本专利技术的部分实施方式绘示坩锅的侧剖面示意图。图1B绘示图1A的坩锅的内盖的上视示意图。图2绘示图1A的坩锅于进行蒸镀制期间的侧剖面示意图。其中，附图标记：100坩锅102锅体104空腔106底部108侧壁110支撑部112内盖114第一下表面116上表面118孔洞120外盖122第二下表面124开口130蒸镀材料132a、132b、132c液珠C1、C2中心点D1、D2、D3垂直距离D4距离E1、E2、E3边缘θ1、θ2角度具体实施方式以下将以图式揭露本专利技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。也就是说，在本专利技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式绘示之。有鉴于蒸镀工艺的良率难以控制，本揭露内容的一实施方式提供一种坩锅，包含锅体、内盖及上盖。内盖包含第一下表面及上表面，且外盖包含第二下表面。于进行蒸镀工艺的期间，通过第一下表面、上表面及第二下表面，蒸镀材料的聚集现象可被抑止，从而提升目标靶材于蒸镀工艺的良率。请同时看到图1A及图1B，其中图1A为依据本专利技术的部分实施方式绘示坩锅100的侧剖面示意图，而图1B绘示图1A的坩锅100的内盖112的上视示意图。坩锅100包含锅体102、内盖112以及外盖120。锅体102包含底部106、侧壁108及支撑部110。侧壁108设置于底部106上，并与底部106连接。支撑部110设置于侧壁108上，并与侧壁108连接。此外，锅体102具有空腔104于其中，其中空腔104可由底部106及侧壁108共同定义，举例而言，侧壁108可围绕空腔104。除此之外，空腔104的邻近底部106之处可用以装填至少一蒸镀材料(未绘示)，例如，可装填银金属于空腔104的邻近底部106之处，以做为蒸镀材料。内盖112及外盖120设置于锅体102的空腔104内，其中内盖112可由支撑部110支撑。外盖120设置于内盖112的上方，使得内盖112为位于锅体102的底部106与外盖120之间。换言之，外盖120位于内盖112之上，而锅体102的底部106位于内盖112之下。内盖112具有第一下表面114、上表面116及多个孔洞118于其中，其中第一下表面114与上表面116为相对于彼此。第一下表面114朝向锅体102的底部106，并朝锅体102的底部106突出。第一下表面114具有中心点C1及边缘E1，其中锅体102的底部106与内盖112的第一下表面114之间的垂直距离D1，自第一下表面114的边缘E1朝第一下表面114的中心点C1渐减少。因此，内盖112的第一下表面114可倾斜于锅体102的侧壁108，并与锅体102的侧壁108夹角度θ1，其中100°≦θ1≦110°。上表面116朝向外盖120并朝外盖120突出。上表面116具有中心点C2及边缘E2，其中锅体102的底部106与内盖112的上表面116之间的垂直距离D2，自上表面116的边缘E2朝上表面116的中心点C2渐增加。因此，内盖112的其中至少一部分可为锥体，例如，此锥体可朝锅体102的底部106突出，并具有顶点，其中此锥体的顶点可位于第一下表面114的中心点C1。除此之外，于部分实施方式中，内盖112的第一下表面114及上表面116可垂直对称于彼此。换言之，内盖112的第一下表面114及上表面116可对称于内盖112的中央水平面。孔洞118可穿过内盖112，换言之，孔洞118可贯穿第一下表面114及上表面116。此外，孔洞118配置于第一下表面114的边缘E1，以围绕第一下表面114的顶点，其中第一下表面114的顶点与其中心点C1为位于同一位置。外盖120具有第二下表面122及开口124于其中。第二下表面122朝向内盖112，并倾斜于锅体102的侧壁108。第二下表面122具有边缘E3，且开口124为位于第二下表面122的中央位置。锅体102的底部106与外盖120的第二下表面122之间的垂直距离D3，自第二下表面122的边缘E3朝开口124渐增加。因此，外盖120的第二下表面122可倾斜于锅体102的侧壁108，并与锅体102的侧壁108夹角度θ2，且10°≦θ2≦20°。也因此，朝向内盖112的上表面116的第二下表面122可视作为一个凹面。此外，孔洞118至外盖120的垂直投影为落于开口124之外，且内盖112与外盖120之间的空间可视作为至少一个通道，其中气态的蒸镀材料可通过通道，而自锅体1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种坩锅，其特征在于，包含：一锅体，具有一空腔；以及一内盖，设置于该锅体的该空腔内，并具有一第一下表面及至少一孔洞，该第一下表面朝向该锅体的一底部，并朝该锅体的该底部突出，且该锅体的该底部与该内盖的该第一下表面之间的垂直距离，自该第一下表面的一边缘朝该第一下表面的一中心点渐减少。

【技术特征摘要】
2016.10.11 SG 10201608496U1.一种坩锅，其特征在于，包含：一锅体，具有一空腔；以及一内盖，设置于该锅体的该空腔内，并具有一第一下表面及至少一孔洞，该第一下表面朝向该锅体的一底部，并朝该锅体的该底部突出，且该锅体的该底部与该内盖的该第一下表面之间的垂直距离，自该第一下表面的一边缘朝该第一下表面的一中心点渐减少。2.根据权利要求1所述的坩锅，其特征在于，更包含一外盖，设置于该内盖的上方，并具有一开口于其中。3.根据权利要求2所述的坩锅，其特征在于，该外盖更包含一第二下表面，该第二下表面朝向该内盖，并倾斜于该锅体的一侧壁，且该锅体的该底部与该外盖的该第二下表面之间的垂直距离，自该第二下表面的一边缘朝该开口渐增加。4.根据权利要求3所述的坩锅，其特征在于，该外盖的该第二下表面倾斜于该锅体的该侧壁，并与该锅体的该侧壁夹一角度θ，且10°≦θ≦20°。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈彦光，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71